(methyldiphenylsilyl)(dimethylphenylsilyl)methane | 18753-29-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: (methyldiphenylsilyl)(dimethylphenylsilyl)methane
• 英文别名: Si,Si,Si'-trimethyl-Si,Si',Si'-triphenyl-Si,Si'-methanediyl-bis-silane；Si,Si,Si'-Trimethyl-Si,Si',Si'-triphenyl-Si,Si'-methandiyl-bis-silan；2-Methyl-2,4,4-triphenyl-2,4-disilapentane；dimethyl-[[methyl(diphenyl)silyl]methyl]-phenylsilane
• CAS: 18753-29-2
• 化学式: C₂₂H₂₆Si₂
• 分子量: 346.619
• InChiKey: MPTMUDKLAKGNMJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.03
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.18
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (methyldiphenylsilyl)(dimethylphenylsilyl)methane 、 苯 、 三氯化铝 、 盐酸 在 crude product 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 反应 3.0h， 以to obtain 78 g (yield: 70%) of 2,2,4-trichloro-4-methyl-2,4-disilapentane的产率得到dichloro[(chlorodimethylsilyl)methyl]methylsilane
  参考文献：
  名称：

  MATERIAL FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, SILICON-CONTAINING INSULATING FILM AND METHOD FOR PRODUCTION OF THE SILICON-CONTAINING INSULATING FILM

  摘要：

  一种化学气相沉积材料，包括如下一般式（1）所示的有机硅化合物。其中，R1和R2分别代表氢原子、1至4个碳原子的烷基、乙烯基或苯基，R3和R4分别代表1至4个碳原子的烷基、乙酰基或苯基，m为0至2的整数，n为1至3的整数。

  公开号：

  US20110042789A1
• 作为产物：
  描述：

  dichloro[(chlorodimethylsilyl)methyl]methylsilane 、 phenylmagnesium bromide 生成 (methyldiphenylsilyl)(dimethylphenylsilyl)methane
  参考文献：
  名称：

  Silahydrocarbons

  摘要：

  公开号：

  US02544079A1

文献信息

• Reactions of silyl-substituted Fischer-type carbene complexes with silanes
  作者：Nobuharu Iwasawa、Masatoshi Saitou、Hiroyuki Kusama

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)00721-x

  日期：2001.1

  Abstract Silyl-substituted Fischer-type carbene complexes show unique behavior when treated with silanes. In toluene, all three kinds (Cr, Mo, W) of methyldiphenylsilyl-substituted carbene complex react with silanes to give direct insertion products in moderate to high yield. On the other hand, the reactions in THF give different kinds of product depending on the center metal. Thus, in addition to the

  摘要 甲硅烷基取代的 Fischer 型卡宾配合物在用硅烷处理时表现出独特的行为。在甲苯中，所有三种（Cr、Mo、W）甲基二苯基甲硅烷基取代的卡宾配合物与硅烷反应，以中等至高产率产生直接插入产物。另一方面，THF 中的反应会产生不同种类的产物，具体取决于中心金属。因此，除了直接插入产物 (Mo) 之外，还以良好的产率获得了新的还原插入 (W) 和还原羰基插入 - 硅迁移 (Cr) 产物。
• Silahydrocarbons
  申请人：DOW CORNING

  公开号：US02544079A1

  公开（公告）日：1951-03-06
• MATERIAL FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, SILICON-CONTAINING INSULATING FILM AND METHOD FOR PRODUCTION OF THE SILICON-CONTAINING INSULATING FILM
  申请人：Nakagawa Hisashi

  公开号：US20110042789A1

  公开（公告）日：2011-02-24

  A chemical vapor deposition material includes an organosilane compound shown by the following general formula (1). wherein R 1 and R 2 individually represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a vinyl group, or a phenyl group, R 3 and R 4 individually represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an acetyl group, or a phenyl group, m is an integer from 0 to 2, and n is an integer from 1 to 3.

  一种化学气相沉积材料，包括如下一般式（1）所示的有机硅化合物。其中，R1和R2分别代表氢原子、1至4个碳原子的烷基、乙烯基或苯基，R3和R4分别代表1至4个碳原子的烷基、乙酰基或苯基，m为0至2的整数，n为1至3的整数。