| 138540-89-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐
• CAS: 138540-89-3
• 化学式: C₄₈H₁₀₈Al₄Si₄
• 分子量: 905.654
• InChiKey: QSRSCDHPXPNVNQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  18.0
• 重原子数：
  56.0
• 可旋转键数：
  4.0
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  、 氧气 以 正庚烷 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  Wiberg, Nils; Blank, Thomas; Amelunxen, Kerstin, European Journal of Inorganic Chemistry

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  supersilylaluminum dibromide-ethyldimethylamine (1/1) 在 Na or K 作用下， 以 氘代苯 为溶剂， 以0%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  Supersilyltrielane R _nEHal_3-n (E = Triel, R = SitBu₃): Synthesen, Charakterisierung, Reaktionen, Strukturen [1] / Supersilyltrielanes R _nEHal_3-n (E = Triel, R = SitBu₃): Syntheses, Characterization, Reactions, Structures [1]

  摘要：

  水和氧敏感化合物 R*EHal₂•D、R*EHal₂ 和 R*₂EHal（R* = SitBu₃；E = B，Al，Ga，In，TI；Hal = F，Cl，Br，I；D = OR₂，NR₃）已通过 EHAl₃ 与 NaR* 在存在或不存在供体的情况下反应合成，或通过 D、Hal 或 R* 被其他取代基取代，或通过 R*₂E-ER*₂（E = Al，In）与 I₂、H₂、AgF₂ 或 HBr 反应合成。这些化合物在溶液中或气相中的热分解导致 R*EHal₂•D 中的 D 或 R*EHal₂ 和 R*₂EHal 中的 R*Hal 被消除。二卤化物 R*EHal₂ 与供体 OR₂ 或 NR₃ 作为 Lewis 酸（形成加合物 R*EHal₂•D），而单卤化物 R*₂EHal 与受体 EHal₃ 作为 Lewis 碱（形成 R*₂E⁺ EHal₄^-）。用碱金属或 NaR* 去卤化 R*₂EHal 和 R*EHal₂ 会导致化合物 R*₄E₂（E = AI，In，Tl），R*₃E₂•（E = AI，Ga），R*₄E₃^•（E = Al，Ga），R*₄E₄（E = AI，Ga），R*₆Ga₈，R*₈In₁₂，（R*₂B^-），R*₂A^-，R*₃Ga₂^-，R*₄Ga₃^-，R*₄Ga₄^2-，R*₄Tl₃Cl，或 R*₆Tl₆Cl₂。R*BBr₂•Py、R*AlBr₂•NEtMe₂、（R*AlClOBu）₂、R*₂BF 以及 R*₂ECl（E = B，Al，Ga，Tl）的结构已通过 X 射线结构分析确定。

  DOI：

  10.1515/znb-2001-0712

文献信息

• Tri(supersilyl)dialanyl (tBu3Si)3Al2• and Tetra(supersilyl)cyclotrialanyl (tBu3Si)4Al3• − New Stable Radicals of a Group 13 Element from Thermolysis of (tBu3Si)4Al2
  作者：Nils Wiberg、Thomas Blank、Wolfgang Kaim、Brigitte Schwederski、Gerald Linti

  DOI：10.1002/1099-0682(200007)2000:7<1475::aid-ejic1475>3.0.co;2-n

  日期：2000.7

  The thermolysis of tetra(supersilyl)dialane R*2Al−AlR*2 (R* = SitBu3 = Supersilyl) in heptane or cyclohexane at 50 °C leads under Al−Al dissociation reversibly to monoalanyl radicals [R*2Al]•, which could be trapped by hydrogen or iodine (formation of R*2AlH, R*2AlI). Simultaneously, SiAl dissociation and elimination of supersilyl radicals tBu3Si• leads irreversibly and slowly to radicals [R*2Al−AlR*]•

  四（超甲硅烷基）二丙烷 R*2Al-AlR*2（R* = SitBu3 = Supersilyl）在庚烷或环己烷中在 50 °C 下的热解导致 Al-Al 可逆解离为单丙氨酰基自由基 [R*2Al]•，这可以被氢或碘捕获（形成 R*2AlH、R*2AlI）。同时，SiAl 离解和消除超甲硅烷基自由基 tBu3Si• 不可逆且缓慢地导致自由基 [R*2Al-AlR*]•，其存在可以通过 ESR 光谱确定。通过从头算计算（近平面的 Si2Al-AlSi 和线性 Al-Al-Si 骨架；短的 Al-Al 距离）阐明了结构。通过在 100 °C 下热解 R*2Al−AlR*2，自由基 [R*4Al3]•（ESR 光谱检测）和四面体-四烷 R*4Al4（NMR 光谱观察）通过自由基 [R*3Al2]• 形成; 同时形成的超甲硅烷基 tBu3Si•，通过二聚为超乙硅烷 R*-R* 和吸收氢而稳定，得到超硅烷
• Synthesis and Crystal Structure of the Tetraaluminatetrahedrane Al₄[Si(<i>t</i>-Bu)₃]₄, the Second Al₄R₄ Compound
  作者：Andreas Purath、Carsten Dohmeier、Achim Ecker、Hansgeorg Schnöckel、Kerstin Amelunxen、Thomas Passler、Nils Wiberg

  DOI：10.1021/om971015h

  日期：1998.4.1

  The reaction of (AlI·NEt3)4 with donor-free t-Bu3SiNa in toluene at −78 °C leads to the generation and crystallization of Al4[Si(t-Bu)3]4, whichafter Al4Cp*4 is the second structurally characterized Al4R4 compound. The obtained experimental data were compared with results of ab initio calculations.

  （ALI·净的反应3）4与供体-自由叔卜3在甲苯司南在-78℃导致Al的生成和结晶4 [硅（叔丁基）3 ] 4，其中后的Al 4 Cp * 4是第二种结构表征的Al 4 R 4化合物。将获得的实验数据与从头算的结果进行比较。
• Tetrasupersilyldiindium(In–In) and Tetrasupersilyldithallium(TlTl):(tBu3Si)2MM(SitBu3)2(M= In, Tl)
  作者：Nils Wiberg、Kerstin Amelunxen、Heinrich Nöth、Martin Schmidt、Holger Schwenk

  DOI：10.1002/anie.199600651

  日期：1996.1.19