[4-[1-[4-[(6Z)-6-diazo-5-oxonaphthalen-1-yl]sulfonyloxyphenyl]-1-phenylethyl]phenyl] (3Z)-3-diazo-4-oxonaphthalene-1-sulfonate | 910883-12-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 三苯基化合物
• 英文名称: [4-[1-[4-[(6Z)-6-diazo-5-oxonaphthalen-1-yl]sulfonyloxyphenyl]-1-phenylethyl]phenyl] (3Z)-3-diazo-4-oxonaphthalene-1-sulfonate
• CAS: 910883-12-4
• 化学式: C₄₀H₂₆N₄O₈S₂
• 分子量: 754.8
• InChiKey: SMUVJUJVGJTBJP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  12.4
• 重原子数：
  54
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.05
• 拓扑面积：
  206
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  双酚AP 、 2-重氮-1-萘酚-5-磺酰氯 、 3-重氮-4-氧-3,4-二氢-1-萘磺酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 68.5h， 生成 [4-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-phenylethyl]phenyl] (3Z)-3-diazo-4-oxonaphthalene-1-sulfonate 、 [4-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-phenylethyl]phenyl] (6Z)-6-diazo-5-oxonaphthalene-1-sulfonate 、 [4-[1-[4-[(6Z)-6-diazo-5-oxonaphthalen-1-yl]sulfonyloxyphenyl]-1-phenylethyl]phenyl] (3Z)-3-diazo-4-oxonaphthalene-1-sulfonate 、 [4-[1-[4-[(3Z)-3-diazo-4-oxonaphthalen-1-yl]sulfonyloxyphenyl]-1-phenylethyl]phenyl] (3E)-3-diazo-4-oxonaphthalene-1-sulfonate 、 [4-[1-[4-[(6Z)-6-diazo-5-oxonaphthalen-1-yl]sulfonyloxyphenyl]-1-phenylethyl]phenyl] (6E)-6-diazo-5-oxonaphthalene-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Pretreatment compositions

  摘要：

  预处理组合物包括：(a)至少一种具有结构VIV1—Y—V2VI的化合物，其中Y选自S、O、NR2、(HOCH)p和each R1，每个R1独立选自H、烷基、烯基、炔基、烷氧基或卤素，每个R2独立为H、SH、CH3、C2H5和含巯基的直链或支链C1-C4烷基；其中V1和V2独立选自，其中m独立为0到4的整数，条件是m只能为0当Y=n为1到5的整数；p为1到4的整数，每个R1如上定义；(b)至少一种有机溶剂，以及可选地(c)至少一种促进粘附的物质；其中，组合物中存在的结构VI化合物的量足以抑制光敏组合物涂布在基材上并在涂覆的基材上形成图像时形成残留物。

  公开号：

  US20060286484A1

文献信息

• Novel Photosensitive Resin Compositions
  申请人：Naiini Ahmad A.

  公开号：US20090111050A1

  公开（公告）日：2009-04-30

  This disclosure relates to compositions that include (a) at least one polybenzoxazole precursor polymer; and (b) at least one silicon-containing polymer comprising a moiety of Structure (V): in which R 5 , R 7 , Ar 5 , m 1 , and m 2 are defined in the specification.
• Pretreatment compositions
  申请人：Powell B. David

  公开号：US20060286484A1

  公开（公告）日：2006-12-21

  A pretreatment composition of: (a) at least one compound having structure VI V 1 —Y—V 2 VI wherein Y is selected from the group consisting of S, O, NR 2 , (HOCH) p , and each R 1 is independently selected from H, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group or a halogen, each R 2 is independently H, SH, CH 3 , C 2 H 5 , and a linear or branched C 1 -C 4 alkyl group containing a thiol group; and wherein V 1 and V 2 are independently selected from wherein, m is independently an integer from 0 to 4 with the proviso that m can =0 only when Y═ n is an integer from 1 to 5; p is an integer of from 1 to 4, and each R 1 is defined as above; (b) at least one organic solvent, and optionally, (c) at least one adhesion promoter; wherein the amount of the compound of Structure VI present in the composition is effective to inhibit residue from forming when the photosensitive composition is coated on a substrate and the coated substrate is processed to form an image thereon.

  预处理组合物包括：(a)至少一种具有结构VIV1—Y—V2VI的化合物，其中Y选自S、O、NR2、(HOCH)p和each R1，每个R1独立选自H、烷基、烯基、炔基、烷氧基或卤素，每个R2独立为H、SH、CH3、C2H5和含巯基的直链或支链C1-C4烷基；其中V1和V2独立选自，其中m独立为0到4的整数，条件是m只能为0当Y=n为1到5的整数；p为1到4的整数，每个R1如上定义；(b)至少一种有机溶剂，以及可选地(c)至少一种促进粘附的物质；其中，组合物中存在的结构VI化合物的量足以抑制光敏组合物涂布在基材上并在涂覆的基材上形成图像时形成残留物。