methylethyldiethoxysilane | 18294-09-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: methylethyldiethoxysilane
• 英文别名: diethoxy-ethyl-methyl-silane；Diaethoxy-aethyl-methyl-silan；Ethylmethyldiethoxysilane；diethoxy-ethyl-methylsilane
• CAS: 18294-09-2
• 化学式: C₇H₁₈O₂Si
• 分子量: 162.304
• InChiKey: UWGJCHRFALXDAR-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  140 °C
• 密度：
  0.8923 g/cm3(Temp: 25 °C)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.15
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  methylethyldiethoxysilane 在 三溴化磷 作用下， 生成 ethyl-dibromo-methyl-silane
  参考文献：
  名称：

  Sauer; Hadsell, Journal of the American Chemical Society, 1948, vol. 70, p. 3593

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  甲基乙基二氯硅烷 在 C₂H₅OH 作用下， 以 not given 为溶剂， 生成 methylethyldiethoxysilane
  参考文献：
  名称：

  Sauer, O.; Hadsell, E. M., Journal of the American Chemical Society, 1948, vol. 70, p. 3590 - 3596

  摘要：

  DOI：

文献信息

• 一种甲基乙基二乙氧基硅烷合成方法
  申请人：山东宝龙达实业集团有限公司

  公开号：CN107915755A

  公开（公告）日：2018-04-17

  本发明涉及一种甲基乙基二乙氧基硅烷合成方法,包括步骤如下：直接以甲基三乙氧基硅烷作为溶剂和反应原料，将金属钠分散在甲基三乙氧基硅烷中，形成钠砂，然后与溴乙烷发生缩合反应，得到甲基乙基二乙氧基硅烷。本发明在产物通过钠缩合法合成过程中不使用额外的溶剂，直接以反应原料甲基三乙氧基硅烷作为溶剂制备钠砂，反应条件温和，工艺简单，用流速泵从反应器底部加入原料溴乙烷，使沸点较低的溴乙烷的转化率高，目标产物含量高，产物选择性好且反应设备利用率高。
• Organosilicon compounds. Part XXXVII. Optical resolution of p-(ethylmethylphenylsilyl)benzoic acid
  作者：C. Eaborn、C. G. Pitt

  DOI：10.1039/j39660001524

  日期：——

  p-(Ethylmethylphenylsilyl)benzoic acid, m. p. 99·5°, was prepared, and resolved by fractional crystallisation of its (–)-quinine salt from ethanol. The least soluble diastereoisomer yielded the (+)-acid, m. p. 99·5°, [α]D20+ 2·75°(c 2·8 in benzene), and from the mother-liquors was obtained the optically impure (–)-acid, m. p. 99·5°, [α]D20–1·65°(c 3·2 in benzene). No racemisation occurred when the

  制备对-（乙基甲基苯基甲硅烷基）苯甲酸，熔点99·5°，并通过从乙醇中分步结晶其（-）-奎宁盐来拆分。溶解度最低的非对映异构体产生（+）-酸，mp 99·5°，[α] D 20 + 2·75°（苯中c 2·8），从母液中获得光学不纯的（- ）-酸，mp 99·5°，[α] D 20 –1·65°（c 3·2在苯中）。当将（+）-酸在100°的液体中保持6小时或在室温下的甲醇氢氧化钾水溶液中保持25小时时，未发生外消旋作用。
• Photo and radiation-sensitive organopolymeric material
  申请人：Hitachi, Ltd.

  公开号：US04544729A1

  公开（公告）日：1985-10-01

  A photo and radiation sensitive-organopolymeric material having at least one Si--Si).sub.n bond, wherein n is an integer of from 1 to 5 has a good resistance to dry etching, a good adhesion and a good heat resistance and is useful for finer patterning with a good resolution.

  一种具有至少一个Si-Si键（其中n为1到5的整数）的光敏和辐射敏感的有机高分子材料具有良好的耐干法蚀性能，良好的附着性和良好的耐热性，适用于具有良好分辨率的更细微的图案制备。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 62, page 175 - 177
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 73, page 204 - 206
  作者：

  DOI：——

  日期：——