将各种Pd(II)配合物并入MSU-X中孔构架
硅石通过使用简便的无溶剂一锅合成法进行共缩合,已获得了良好的收率。具有三乙氧基甲
硅烷基端基的
配体的使用允许合成三种不同的
金属
硅烷前体(具有包含三烷氧基
硅烷端基的
配体的
金属配合物),其允许将共价键合到多孔载体上的
金属配合物均匀地原位掺入。无机前体原
硅酸四乙酯 都被用作
硅石用作合成配合物的来源和溶剂,避免使用其他有机助溶剂,使合成对环境无害。所用的温和合成条件(例如中性pH,室温和适度
乙醇萃取表面活性剂)为将均相Pd(II)催化剂固定在介孔中提供了一条更清洁的途径
硅石,同时保护
金属配合物的结构和
化学完整性。为了比较目的,单体配合物[反式-PdCl 2 L 2 ](L = NH 2(CH 2)3 Si(OEt)3,4 -C 5 H 4 N–(CH 2)2 Si(OEt 3),PPh 2(CH 2)2 Si(OEt)3使用与共缩合过程相同的好氧反应条