甲基乙基氯硅烷 | 6374-21-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 中文名称: 甲基乙基氯硅烷
• 中文别名: 乙基甲基一氯一氢硅烷
• 英文名称: ethyl-chloro-methyl-silane
• 英文别名: methyl ethyl hydrochlorosilane；methyl ethylchlorosilane；chloromethylethylsilane；methylethylchlorosilane；Aethyl-chlor-methyl-silan；ethylmethylhydrogenchlorosilane；Chloro-ethyl-methylsilane
• CAS: 6374-21-6
• 化学式: C₃H₉ClSi
• 分子量: 108.643
• InChiKey: KVSBXEHXRBBNBR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

安全信息

• 海关编码：
  2931900090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  甲基乙基氯硅烷 在 水 作用下， 生成 1,3-diethyl-1,3-dimethyl-disiloxane
  参考文献：
  名称：

  Korschak et al., Doklady Akademii Nauk SSSR, 1959, vol. 128, p. 960

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  乙烯 、 甲基氯硅烷混合单体 在 dihydrogen hexachloroplatinate 作用下， 生成 甲基乙基氯硅烷
  参考文献：
  名称：

  Ponomarenko,V.A. et al., Doklady Chemistry, 1960, vol. 130, p. 67 - 69

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Preparation of tris(trimethylsilyl)methyl (“trisyl”) derivatives of silicon
  作者：Sujan S. Dua、Colin Eaborn、Duncan A.R. Harper、Steven P. Hopper、Kazem D. Safa、David R.M. Walton

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)87861-4

  日期：1979.9

  Treatment of (Me3Si)3CLi (“trisyl”lithium, TsiLi) with appropriate silicon halides has given a range of compounds of the type (Me3Si)3CSiRR′X; e.g., TsiSiCl3, TsiSiMeCl2, TsiSiMe2X (X = Cl, OMe), TsiSiPh2X (X = F, Cl, OMe), and TsiSiPhMeH. The trisyl group causes very large steric hindrance to nucleophilic displacements at the silicon to which it is attached, so that (unless one or more hydride ligands

  用适当的卤化硅处理（Me 3 Si）3 CLi（“三基”锂，TsiLi）产生了一系列类型为（Me 3 Si）3 CSiRR'X的化合物。例如，TsiSiCl 3，TsiSiMeCl 2，TsiSiMe 2 X（X = Cl，OMe），TsiSiPh 2 X（X = F，Cl，OMe）和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻，因此（除非存在一个或多个氢化物配体）在硅上不会发生大多数常见的位移。但是，LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物，并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍，因此，例如，TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH（OMe）。
• Silicon hydrides and nickel complexes
  作者：Yoshihisa Kiso、Makoto Kumada、Kohei Tamao、Masayuki Umeno

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)95116-7

  日期：1973.3

  A variety of dihalodiphosphinenickel(II) complexes have been found to be effective catalysts for hydrosilylation of olefins and acetylenes. Reactions with nickel(II) catalysts, at least those containing a bidentate phosphine ligand, scarcely proceed below 90°. At 120° the reaction proceeds smoothly to form, in many cases, an unexpected (“abnormal”) adduct which has arisen from an interchange of hydrogen

  已经发现各种二卤代二膦镍（II）配合物是烯烃和乙炔的氢化硅烷化的有效催化剂。与镍（II）催化剂（至少包含双齿膦配体的催化剂）的反应几乎不会在90°以下进行。在许多情况下，反应温度为120°时，反应平稳进行，形成了意外的（“异常”）加合物，该加合物是由氢和氯在硅上的交换（除了预期的（“正常”））引起的。通常，总产率以及“异常”与“正常”加合物的比率均随着膦配体和烯烃上的取代基两者的供电子能力的增加而增加。烯烃的异构化发生在氢化硅烷化过程中。顺式-添加优先发生。的硅的氢化物的反应性的顺序HSiCl降低3 ⪢HSiMeCl 2 ⪢HSiMe 2氯⪢HSiMe 3。
• Iridium-Catalyzed Intramolecular C-H Silylation of Siloxane-Tethered Arene and Hydrosilane: Facile and Catalytic Synthesis of Cyclic Siloxanes
  作者：Yan Lin、Ke-Zhi Jiang、Jian Cao、Zhan-Jiang Zheng、Zheng Xu、Yu-Ming Cui、Li-Wen Xu

  DOI：10.1002/adsc.201700160

  日期：2017.7.3

  Catalytic C–H silylation is an increasingly important topic in the field of organosilicon chemistry and homogenous catalysis as well as organic synthesis, but such syntheses and transformations are usually challenging and often incompatible with some functional groups. In this manuscript, a new type of silanol-directed intramolecular dehydrogenative silylation under iridium catalysis has been developed

  在有机硅化学，均相催化以及有机合成领域，催化CHH甲硅烷基化是一个日益重要的话题，但是这种合成和转化通常具有挑战性，并且常常与某些官能团不相容。在该手稿中，开发了一种新型的在铱催化下硅烷醇定向的分子内脱氢甲硅烷基化反应。所描述的甲硅烷基化环具有良好的官能团相容性，从而提供了一种通用且有效的途径，以高位点选择性向具有多个潜在可修饰硅原子的不对称环状硅氧烷提供了途径。所得有机硅化合物由于其独特的结构而具有多种合成应用。
• 一种五元环状二硅氧烷化合物的制备方法
  申请人：杭州师范大学

  公开号：CN107216349A

  公开（公告）日：2017-09-29

  本发明涉及有机硅合成领域，为解决五元环状二硅氧烷化合物在合成中存在的问题，本发明提出了一种五元环状二硅氧烷化合物的制备方法，以结构式如(I)所示的二烷基二硅氧烷为原料，与催化剂前体，氢气受体，在反应介质中，惰性气体保护下于90‑120℃下反应3‑24h后分离出产物，即一种五元环状二硅氧烷化合物。该方法对含有不同位置及性质取代基的底物均具有较好的适应性，可以较好产率获得系列五元环状二硅氧烷化合物。
• The siliconoxygen double-bonded intermediates
  作者：A.V. Tomadze、N.V. Yablokova、V.A. Yablokov、G.A. Razuvaev

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)85524-2

  日期：1981.5

  The kinetics and mechanism of thermal decomposition of R1R2(H)SiOOR3 silylperoxides have been studied. It has been shown that peroxides generated diorganosilanones R1R2Si=O, with a high yield in the temperature range 130-180°C. A mechanism is suggested for the silanone formation. The interaction of si1anones with cyclosiloxanes, triethylsilane, α-methylstyrene has been investigated as well as the cyclisation

  研究了R 1 R 2（H）SiOOR 3甲硅烷基过氧化物的热分解动力学和机理。已经表明，过氧化物在130-180℃的温度范围内以高产率产生了二有机硅酮酮R 1 R 2 Si ＝ O。建议了一种机制来形成硅烷酮。已经研究了硅烷酮与环硅氧烷，三乙基硅烷，α-甲基苯乙烯的相互作用以及硅烷酮的环化。