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2,6-dimethylpiperidinochlorosilane | 1427523-48-5

中文名称
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中文别名
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英文名称
2,6-dimethylpiperidinochlorosilane
英文别名
chloro-(2,6-dimethylpiperidin-1-yl)silane
2,6-dimethylpiperidinochlorosilane化学式
CAS
1427523-48-5
化学式
C7H16ClNSi
mdl
——
分子量
177.749
InChiKey
MLANFFQADVEXAD-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.49
  • 重原子数:
    10
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    3.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2,6-dimethylpiperidinochlorosilane臭氧 50.0~300.0 ℃ 、1.07 kPa 条件下, 生成 silica gel
    参考文献:
    名称:
    HALOGENATED ORGANOAMINOSILANE PRECURSORS AND METHODS FOR DEPOSITING FILMS COMPRISING SAME
    摘要:
    本发明描述了用于形成薄膜的前体和方法。在一个方面,提供了一种具有公式I的前体: X m R 1 n H p Si(NR 2 R 3 ) 4-m-n-p I 其中,X选自Cl、Br、I;R 1 选自直链或支链的C 1 -C 10 烷基、C 2 -C 12 烯基、C 2 -C 12 炔基、C 4 -C 10 环烷基和C 6 -C 10 芳基;R 2 选自直链或支链的C 1 -C 10 烷基、C 3 -C 12 烯基、C 3 -C 12 炔基、C 4 -C 10 环烷基和C 6 -C 10 芳基;R 3 选自支链的C 3 -C 10 烷基、C 3 -C 12 烯基、C 3 -C 12 炔基、C 4 -C 10 环烷基和C 6 -C 10 芳基;m为1或2;n为0、1或2;p为0、1或2;且m+n+p小于4,其中R 2 和R 3 可以相连或不相连形成环。
    公开号:
    US20130078392A1
  • 作为产物:
    描述:
    2,6-二甲基哌啶二氯硅烷三乙胺 作用下, 以 正己烷 为溶剂, 反应 1.0h, 以66%的产率得到2,6-dimethylpiperidinochlorosilane
    参考文献:
    名称:
    HALOGENATED ORGANOAMINOSILANE PRECURSORS AND METHODS FOR DEPOSITING FILMS COMPRISING SAME
    摘要:
    本发明描述了用于形成薄膜的前体和方法。在一个方面,提供了一种具有公式I的前体: X m R 1 n H p Si(NR 2 R 3 ) 4-m-n-p I 其中,X选自Cl、Br、I;R 1 选自直链或支链的C 1 -C 10 烷基、C 2 -C 12 烯基、C 2 -C 12 炔基、C 4 -C 10 环烷基和C 6 -C 10 芳基;R 2 选自直链或支链的C 1 -C 10 烷基、C 3 -C 12 烯基、C 3 -C 12 炔基、C 4 -C 10 环烷基和C 6 -C 10 芳基;R 3 选自支链的C 3 -C 10 烷基、C 3 -C 12 烯基、C 3 -C 12 炔基、C 4 -C 10 环烷基和C 6 -C 10 芳基;m为1或2;n为0、1或2;p为0、1或2;且m+n+p小于4,其中R 2 和R 3 可以相连或不相连形成环。
    公开号:
    US20130078392A1
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文献信息

  • Halogenated organoaminosilane precursors and methods for depositing films comprising same
    申请人:Air Products and Chemicals, Inc.
    公开号:US08993072B2
    公开(公告)日:2015-03-31
    Described herein are precursors and methods of forming films. In one aspect, there is provided a precursor having Formula I: XmR1nHpSi(NR2R3)4-m-n-p  I wherein X is selected from Cl, Br, I; R1 is selected from linear or branched C1-C10 alkyl group, a C2-C12 alkenyl group, a C2-C12 alkynyl group, a C4-C10 cyclic alkyl, and a C6-C10 aryl group; R2 is selected from a linear or branched C1-C10 alkyl, a C3-C12 alkenyl group, a C3-C12 alkynyl group, a C4-C10 cyclic alkyl group, and a C6-C10 aryl group; R3 is selected from a branched C3-C10 alkyl group, a C3-C12 alkenyl group, a C3-C12 alkynyl group, a C4-C10 cyclic alkyl group, and a C6-C10 aryl group; m is 1 or 2; n is 0, 1, or 2; p is 0, 1 or 2; and m+n+p is less than 4, wherein R2 and R3 are linked or not linked to form a ring.
    本文描述了形成薄膜的前体和方法。在其中一个方面,提供了具有I式的前体:XmR1nHpSi(NR2R3)4-m-n-p 其中,X选自Cl、Br、I;R1选自直链或支链C1-C10烷基、C2-C12烯基、C2-C12炔基、C4-C10环烷基和C6-C10芳基;R2选自直链或支链C1-C10烷基、C3-C12烯基、C3-C12炔基、C4-C10环烷基和C6-C10芳基;R3选自支链C3-C10烷基、C3-C12烯基、C3-C12炔基、C4-C10环烷基和C6-C10芳基;m为1或2;n为0、1或2;p为0、1或2;m+n+p小于4,其中R2和R3连或不连形成环。
  • Halogenated Organoaminosilane Precursors and Methods for Depositing Films Comprising Same
    申请人:AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
    公开号:EP2574611B1
    公开(公告)日:2016-03-23
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