vinyltrifluorosilane | 421-24-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: vinyltrifluorosilane
• 英文别名: Vinyltrifluorsilan；Trifluor-vinyl-silan；Vinyl-trifluorosilan；Ethenyl(trifluoro)silane
• CAS: 421-24-9
• 化学式: C₂H₃F₃Si
• 分子量: 112.127
• InChiKey: WACOZNZTFMHMOG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  -25 °C
• 密度：
  1.031±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.56
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  vinyltrifluorosilane 在 氯 作用下， 生成 1,2-dichloroethyltrifluorosilane
  参考文献：
  名称：

  Silicon isotope-selective multiphoton dissociation of 1,2-dichloroethyltrifluorosilane

  摘要：

  The IR laser induced unimolecular decomposition of SiF3CHCICH2Cl reveals a high efficiency and a high silicon isotope selectivity.

  DOI：

  10.1016/j.mencom.2008.01.008
• 作为产物：
  描述：

  氟化乙烯 在 difluorosilylene 作用下， 生成 vinyltrifluorosilane
  参考文献：
  名称：

  Reactions of difluorosilylene with halogen-substituted ethylenes. A reinvestigation of the reaction mechanism

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00545a021

文献信息

• Organosilicon chemistry. Part 21. Reactions of NN-bistrifluoromethylamino-oxyl and perfluoro(2,4-dimethyl-3-oxa-2,4-diazapentane) with vinylsilanes, and pyrolysis of the resulting adducts
  作者：Terence R. Fernandes、Robert N. Haszeldine、Anthony E. Tipping

  DOI：10.1039/dt9780001024

  日期：——

  α-(CF3)2N·O group on silicon to eliminate a fluorosilane and perfluoro-2-azapropene and form a carbonyl compound, e.g.(CF3)2N·O·CH2·CH(SiF3)·O·N(CF3)2→ SiF4+ CF3N:CF2+(CF3)2N·CH2·CHO; (ii) nucleophilic attack by an α-chlorine atom on silicon to eliminate a chlorosilane and form an amide, e.g.(CF3)2N·CH2·CCl(SiCl3)·O·N(CF3)2→ SiCl4+(CF3)2N·CH2·CO·N(CF3)2; and (iii) intramolecular elimination of bis(trifluoromethyl)amine

  的氧基（CF 3）2 N·O与oxadiazapentane（CF 3）2 N·O·N（CF 3）2上的反应与乙烯基硅烷CH 2：CH·的SiX 3，CH 2：四氯化碳·的SiX 3， CHCl：CH·SiX 3以高收率得到相应的加合物。硅烷顺式-MeCH：CH·SiCl 3与二氮杂戊烷的反应得到1：1的加合物（50％）和烯丙基取代产物（CF 3）2 N·O·CH 2 ·CH：CH·SiCl 3（50 ％）。热解中的加合物通常会重新排列，例如RCH 2 ·CH（SiX 3）·O·N（CF 3）2 → RCH 2 ·CH（O·SiX 3）·N（CF 3）2 [R =（CF 3）2 N·O或（CF 3）2 N]，但在硅上含有两个或三个氟取代基和/或烷基中的氯的那些进行消除反应。可能发生三种不同的消除方式，包括：（i）硅上α-（CF 3）2 N·O基团中的氟对氟的亲核攻击，以消除氟硅烷和全氟-2-氮杂丙烯并形成羰基化合物，例如（CF
• Gas-phase oxidation of vinyltrifluorosilane with nitrogen dioxide under the action of a pulse CO2 laser
  作者：P. S. Dement’ev、P. V. Koshlyakov、E. N. Chesnokov

  DOI：10.1134/s0023158410050022

  日期：2010.10

  A chemical reaction between C2H3SiF3 and NO2 induced by radiation from a pulse CO2 laser was studied by mass spectrometry and IR spectroscopy. The composition of gaseous products was determined. A macrokinetic approach was developed to study bimolecular reactions initiated by pulsed IR radiation. The procedure developed allowed us to answer the question of whether the test reaction occurs under conditions

  通过质谱和红外光谱研究了脉冲CO 2激光辐射引起的C 2 H 3 SiF 3和NO 2之间的化学反应。确定了气态产物的组成。开发了一种宏观动力学方法来研究由脉冲红外辐射引发的双分子反应。开发的程序使我们能够回答测试反应是在仅一种反应物的分子被振动激发的条件下还是在相等振动温度的条件下发生的问题。这种方法在C 2 H 3 SiF 3和NO 2之间反应的应用 证明了它的加速是由于系统的平衡加热。
• Polyfluoroalkyl compounds of silicon. Part IX. Silanes containing the bis(trifluoromethyl)amino-group
  作者：E. S. Alexander、R. N. Haszeldine、M. J. Newlands、A. E. Tipping

  DOI：10.1039/j19700002285

  日期：——

  The silanes (CF3)2N·CH2·SiX3(X3= Me3, Cl3, or MeCl2) have been prepared by free-radical addition of the corresponding silanes to NN-bis(trifluoromethyl)vinylamine. The polymer [(CF3)2N·CH2CH2·Si·O1·5]n and cyclic and linear siloxane polymers [(CF3)2N·CH2·CH2·SiMe·O]n have been prepared and their thermal and hydrolytic stabilities compared with those of the model compounds (CF3)2N·CH2·CH2·SiMe3 and

  硅烷（CF 3）2 N·CH 2 ·SiX 3（X 3＝ Me 3，Cl 3或MeCl 2）已经通过将相应的硅烷自由基加成到NN-双（三氟甲基）乙烯基胺中而制备。聚合物[（CF 3）2 N·CH 2 CH 2 ·Si·O 1·5 ] n和环状和线性硅氧烷聚合物[（CF 3）2 N·CH 2 ·CH 2 ·SiMe·O] n制备了它们，并与模型化合物（CF 3）2 N·CH 2 ·CH 2 ·SiMe 3和（CF 3）2 N·CH 2 ·CH 2 ·SiF 3的热稳定性和水解稳定性进行了比较。NN-双（三氟甲基）-2-溴乙烷不与镁或锂反应生成相应的金属衍生物。汞（II）双（三氟甲基）酰胺与碘甲基三甲基硅烷之间的反应产生了全氟-（2-氮杂丙烯），其二聚体全氟-（4-甲基-2,4-二氮杂戊-2-烯）和出乎意料的氟甲基-三甲基硅烷，和乙基氟二甲基硅烷。
• Reactions of diboron tetrahalides with some unsaturated organometallic compounds
  作者：T.D. Coyle、J.J. Ritter

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)93848-8

  日期：1968.5

  Tetrachloro- and tetrafluorodiborane(4) add to the double bond in a number of vinyl derivatives of boron, carbon, silicon, germanium, and tin to form 1,2-bis(dihaloboryl)ethyl derivatives. Most of the compounds are stable in vacuo at temperatures in excess of 150°. Tetrachlorodiborane(4) undergoes addition considerably more readily than does tetrafluorodiborane(4). Relative rates of addition have been determined

  四氯和四氟二硼烷（4）在许多硼，碳，硅，锗和锡的乙烯基衍生物中加成双键，形成1,2-双（二卤硼基）乙基衍生物。大多数化合物在超过150°C的温度下在真空中稳定。与四氟二硼烷（4）相比，四氯二硼烷（4）的加成要容易得多。已经确定了相对的加成率，并且显示出其显着取决于乙烯基上取代基的性质。
• Infrared Multiple Photon Dissociation of Chloromethyltrifluorosilane
  作者：Pavel V. Koshlyakov、Sergey R. Gorelik、Evgeniy N. Chesnokov、Oleg S. Aseev、Asylkhan A. Rakhymzhan、Alexander K. Petrov

  DOI：10.1111/j.1751-1097.2009.00541.x

  日期：2009.7

  Infrared multiphoton absorption and dissociation of chloromethyltrifluorosilane molecules under the action of pulsed transversely excited atmospheric pressure CO2 laser were experimentally studied. Dissociation products were analyzed. The dissociation proceeds via chlorine atom transfer from carbon to silicone. High degrees of silicon isotope separation were achieved. The presence of alpha-chlorine

  实验研究了脉冲横向激发大气压CO 2激光对氯甲基三氟硅烷分子的红外多光子吸收和解离。分析了解离产物。离解是通过氯原子从碳到硅的转移而进行的。实现了高度的硅同位素分离。硅有机化合物中α-氯原子的存在显着改善了多个光子的离解特性，并显着提高了同位素选择性。