3,3'-isopropylidenediphthalic anhydride | 54738-85-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并呋喃
• 英文名称: 3,3'-isopropylidenediphthalic anhydride
• 英文别名: 4,4'-(Propane-2,2-diyl)di(2-benzofuran-1,3-dione)；4-[2-(1,3-dioxo-2-benzofuran-4-yl)propan-2-yl]-2-benzofuran-1,3-dione
• CAS: 54738-85-1
• 化学式: C₁₉H₁₂O₆
• 分子量: 336.301
• InChiKey: QMQRETUNHYBHFV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.16
• 拓扑面积：
  86.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

文献信息

• PROCESS FOR PREPARING AN ORGANIC ACID OR ITS DERIVATIVES USING A HOMOGENEOUS MC-TYPE CATALYST AND AN O2/CO2 MIXTURE
  申请人：Yoo Jin S.

  公开号：US20080091043A1

  公开（公告）日：2008-04-17

  The present invention relates to a process for producing an organic acid or its derivatives, which comprises oxidation of a hydrocarbon substrate in the presence of a homogeneous MC-type catalyst and an oxidant. In particular, the present invention relates to a process comprising oxidation of a hydrocarbon substrate in the presence of a homogeneous MC-type catalyst selected from Co/Br, Mn/Br, Co/Mn/Br and Co/Mn/M/Br and an O 2 /CO 2 mixed gas oxidant where the partial pressure of O 2 is controlled to 30-40%, thereby improving the oxidation rate, the conversion, the selectivity and the yield even under milder conditions. Especially, the present invention remarkably reduces down to a negligible level the production of color impurities and other impurities such as 4-CBA and p-toluic acid, which had been conventionally removed by hydrogenation reduction. Further, the loss in acetic acid solvent due to combustion can also be drastically decreased using the method of the present invention.

  本发明涉及一种生产有机酸或其衍生物的方法，其中在均相MC型催化剂和氧化剂的存在下氧化碳氢化合物底物。特别地，本发明涉及一种方法，其中在氧化碳氢化合物底物的存在下，在选择自Co/Br、Mn/Br、Co/Mn/Br和Co/Mn/M/Br的均相MC型催化剂和O2/CO2混合氧化剂的情况下，控制O2的分压为30-40％，从而在较温和的条件下提高氧化速率、转化率、选择性和产率。特别地，本发明显著降低到可以忽略不计的水平，如4-CBA和对甲苯酸等色杂质和其他杂质的产生，这些杂质通常通过氢化还原去除。此外，使用本发明的方法还可以大大减少由于燃烧而导致的乙酸溶剂损失。
• Strahlungsempfindliches Beschichtungsmittel und seine Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0092524A2

  公开（公告）日：1983-10-26

  Polyimide, die aliphatische Gruppen enthalten, sind mit chromophoren aromatischen Polyaziden strahlungsvernetzbar. Lösungen in organischen Lösungsmitteln können als strahlungsempfindliche Beschichtungsmittel zur Herstellung von Isolier- und Schutzlacken und als Photoresists mit hoher thermischer, mechanischer und chemischer Beständigkeit verwendet werden.

  含有脂肪族基团的聚酰亚胺可与发色芳香族聚氮化物进行辐射交联。有机溶剂中的溶液可用作辐射敏感涂层剂，用于生产绝缘和保护涂层，也可用作具有高耐热性、机械强度和耐化学性的光致抗蚀剂。
• Mit Thermoplasten modifizierte Epoxyharzsysteme
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0099338A1

  公开（公告）日：1984-01-25

  Epoxyharzsysteme mit verbesserten Eigenschaften werden dadurch erhalten, dass man ein Epoxyharz mit einem thermoplastischen Polyimid mischt, das im Epoxyharz eine im wesentlichen diskontinuierliche Phase bildet.

  通过将环氧树脂与热塑性聚酰亚胺混合，可获得性能更佳的环氧树脂体系。
• Photopolymerisierbare Zusammensetzung, damit beschichtetes Material und Verfahren zur Herstellung von Reliefabbildungen
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0119162A2

  公开（公告）日：1984-09-19

  Photopolymerisierbare Zusammensetzungen aus (a) einer Polymer-Vorstufe mit photopolymerisierbaren olefinischen Doppelbindungen, (b) einem Photoinitiator der Formel worin R1, R2 und R3 die im Patentanspruch 1 angegebene Bedeutung haben, und gegebenenfalls (c) einem Acrylsäure- oder Methacrylsäureester, Allyläther oder Allylester eines Polyols eignen sich dank ihrer hohen Lichtempfindlichkeit zur wirtschaftlichen Herstellung hochtemperaturbeständiger Schutzschichten und Reliefstrukturen mit hoher Auflösung und guter Kantenschärfe.

  可光聚合的组合物，包括(a) 具有可光聚合烯烃双键的聚合物前体，(b) 式中的光引发剂 其中 R1、R2 和 R3 的含义如权利要求 1 所述，以及可选的 (c) 一种多元醇的丙烯酸或甲基丙烯酸酯、烯丙基醚或烯丙基酯，由于其光敏性高，适用于经济地生产具有高分辨率和良好边缘清晰度的耐高温保护涂层和浮雕结构。
• Polyimide, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0132221A1

  公开（公告）日：1985-01-23

  Homo- und Copolyimide aus aromarischen Tetracarbonsäuren und aromatischen Diaminen, die in beiden Orthostellungen mindestens eines N-Atomes durch Alkyl, Alkoxy, Alkoxyalkyl, Cycloalkyl oder Aralkyl substituiert sind, sind in organischen Lösungsmitteln löslich und weisen erhöhte Glasumwandlungstemperaturen und damit sehr gute Thermostabilitäten auf. Solche Polyimide, die Reste von einer Banzophenontetracarbonsäure enthalten, sind strahlungsempfindlich und autophotovernetzbar. Die Polyimide eignen sich zur Herstellung von Filmen, Schutzüberzügen und photographischen Reliefabbildungen.

  芳香族四羧酸和芳香族二胺的均聚酰亚胺和共聚酰亚胺（在至少一个 N 原子的两个正交位置上被烷基、烷氧基、烷氧基烷基、环烷基或芳烷基取代）可溶于有机溶剂，并显示出较高的玻璃化转变温度，因此具有非常好的热稳定性。这种聚酰亚胺含有二苯甲酮四羧酸残基，对辐射敏感，可自光交联。这种聚酰亚胺适用于生产薄膜、保护涂层和照相浮雕图像。