chlrosilyl dichloroborylethane

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: chlrosilyl dichloroborylethane
• 英文别名: Chloro-(1-dichloroboranylethyl)-dimethylsilane
• 化学式: C₄H₁₀BCl₃Si
• 分子量: 203.379
• InChiKey: FAPWAEYZWXYBQF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.33
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  chlrosilyl dichloroborylethane 、 氮 在 六甲基二硅氮烷 作用下， 反应 4.0h， 以67%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  一种新型硼嗪型紫外光诱导陶瓷前驱体聚合的合成与表征

  摘要：

  B,B',B''-(二甲基)乙基-丙烯酸酯-甲硅烷氧基乙基-环硼氮烷的陶瓷前体聚合物由分子单源前驱体通过三步合成，并通过傅里叶变换红外 (FTIR) 和核磁共振 (NMR) 表征) 光谱法。六元环硼氮烷环和丙烯酸酯基团被有效地引入到陶瓷前驱体聚合物中，以激活紫外光诱导聚合。光差扫描量热法 (Photo-DSC) 和实时 FTIR 技术适用于研究光聚合过程。结果表明，环硼氮烷衍生物通过紫外聚合表现出显着的活性，其双键转化率在 40 s 内达到最大值。此外，通过扫描电子显微镜 (SEM) 和 X 射线衍射 (XRD) 研究了热解产物的性质，

  DOI：

  10.3390/molecules21060801
• 作为产物：
  描述：

  二甲基乙烯基氯硅烷 、 三氯化硼 在 三乙基硅烷 作用下， 生成 chlrosilyl dichloroborylethane
  参考文献：
  名称：

  一种新型硼嗪型紫外光诱导陶瓷前驱体聚合的合成与表征

  摘要：

  B,B',B''-(二甲基)乙基-丙烯酸酯-甲硅烷氧基乙基-环硼氮烷的陶瓷前体聚合物由分子单源前驱体通过三步合成，并通过傅里叶变换红外 (FTIR) 和核磁共振 (NMR) 表征) 光谱法。六元环硼氮烷环和丙烯酸酯基团被有效地引入到陶瓷前驱体聚合物中，以激活紫外光诱导聚合。光差扫描量热法 (Photo-DSC) 和实时 FTIR 技术适用于研究光聚合过程。结果表明，环硼氮烷衍生物通过紫外聚合表现出显着的活性，其双键转化率在 40 s 内达到最大值。此外，通过扫描电子显微镜 (SEM) 和 X 射线衍射 (XRD) 研究了热解产物的性质，

  DOI：

  10.3390/molecules21060801

文献信息

• Synthesis of Silicon Molecular Precursor Chlorosilyl Dichloroboryl Ethane (CSDE) through Experiment Optimization
  作者：Weiqi He、Lixin Chen、Tingting Xu、Dan Wei、Yi Wang

  DOI：10.1246/cl.140868

  日期：2015.1.5

  Chlorosilyl dichloroboryl ethane, Cl[(CH3)2]Si–CH(CH3)–BCl2 (CSDE), is an important precursor used to prepare Si/B/C/(N) ceramics, which can be synthesized by the hydroboration reaction. An optimiz...

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