二甲基四甲氧基二硅乙烷 | 98789-40-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 中文名称: 二甲基四甲氧基二硅乙烷
• 中文别名: 1,2-双(甲基二甲氧基硅基)乙烷
• 英文名称: 1,2-bis(methyldimethoxysilyl)ethane
• 英文别名: 1,2-bis(dimethoxymethylsilyl)ethane；bis(dimethoxymethylsilyl)ethane；Dimethyltetramethoxydisilethylene；2-[dimethoxy(methyl)silyl]ethyl-dimethoxy-methylsilane
• CAS: 98789-40-3
• 化学式: C₈H₂₂O₄Si₂
• 分子量: 238.431
• InChiKey: KFGSXJLKKLOVNP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  162℃
• 密度：
  0.925
• 闪点：
  44℃

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.72
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  36.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 海关编码：
  2931900090
• 储存条件：
  存储条件：2-8°C，密封保存，干燥环境。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-甲基二乙醇胺 、 二甲基四甲氧基二硅乙烷 反应 2.0h， 以85%的产率得到1,2-bis(2',6'-dimethyl-1',3'-dioxa-6'-aza-2'-silacyclooctyl-2')ethane
  参考文献：
  名称：

  1,2-bis(2',6'-dimethyl-i',3'-dioxa-6'-aza-2'-silacyclooctyl-2')ethane and the corresponding ethylene and acetylene derivatives

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00961948
• 作为产物：
  描述：

  甲基二甲氧基硅烷 、 甲基乙烯基二甲氧基硅烷 在 dihydrogen hexachloroplatinate 作用下， 以 正丁醇 为溶剂， 生成 二甲基四甲氧基二硅乙烷
  参考文献：
  名称：

  ORGANIC SILANE COMPOUND FOR FORMING SI-CONTAINING FILM BY PLASMA CVD AND METHOD FOR FORMING SI-CONTAINING FILM

  摘要：

  提供了一种有机硅烷化合物，用于通过等离子体CVD形成含硅膜。该硅烷化合物包含2个或更多硅原子，由介于直链或分支氧含量碳氢链之间的键合而成，其中含有一个由Cp-O-Cq表示的键，其中p和q独立地表示碳原子数，但须满足2≦p≦6和2≦q≦6，且碳链不含有与氧原子共轭的不饱和键，其中所有的2个或更多硅原子具有1个或更多氢原子或具有1到4个碳原子的烷氧基团。

  公开号：

  US20100137626A1

文献信息

• METHOD OF PRODUCING ORGANOSILICON COMPOUND
  申请人：Nobe Youhei

  公开号：US20110082309A1

  公开（公告）日：2011-04-07

  A simple method of producing an organosilicon compound of a formula R 2 n (OR 4 ) m Si—R 1 —Si(OR 4 ) m R 2 n is disclosed. The method comprises the following two steps, Y—R 1 —Y+SiX m+1 R 2 n ->R 2 n X m Si—R 1 —SiX m R 2 n R 2 n X m Si—R 1 —SiX m R 2 n +M(OR 4 ) r ,->R 2 n (OR 4 ) m Si—R 1 —Si(OR 4 ) m R 2 n In the formulas, R 1 is methylene, alkylene, or arylene, R 2 is alkyl, alkenyl, alkynyl, or aryl, m and n is 0 to 3, provided m+n=3, at least one m being 1 or more, Y is halogen, X is hydrogen or halogen, R 4 is alkyl, alkenyl, alkynyl, or aryl, M is metal, and r is the valence of the metal). The organosilicon compound is used to form a film having excellent heat resistance, chemical resistance, conductivity, and modulus of elasticity.

  一种简单的制备有机硅化合物的方法，其化学式为R2n(OR4)mSi—R1—Si(OR4)mR2n被揭示。该方法包括以下两个步骤，Y—R1—Y+SiXm+1R2n->R2nXmSi—R1—SiXmR2nR2nXmSi—R1—SiXmR2n+M(OR4)r,->R2n(OR4)mSi—R1—Si(OR4)mR2n在上述化学式中，R1是亚甲基、烷基或芳基，R2是烷基、烯基、炔基或芳基，m和n为0至3，满足m+n=3，至少一个m为1或更多，Y是卤素，X是氢或卤素，R4是烷基、烯基、炔基或芳基，M是金属，r是金属的化合价）。这种有机硅化合物用于形成具有出色的耐热性、耐化学性、导电性和弹性模量的薄膜。
• JP5652360
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• BOPOHKOB, M. G.;YAROSH, O. G.;KUZNETSOV, A. L.;SHTERENBERG, B. Z.;RAXLIN,+, IZV. AN CCCP. CEP. XIM.,(1988) N 6, 1420-1421
  作者：BOPOHKOB, M. G.、YAROSH, O. G.、KUZNETSOV, A. L.、SHTERENBERG, B. Z.、RAXLIN,+

  DOI：——

  日期：——