二甲基氧代-硅烷 | 47956-45-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 中文名称: 二甲基氧代-硅烷
• 英文名称: dimethylsilanone
• 英文别名: Dimethyl-siliciumoxid；Dimethyloxosilane；dimethyl(oxo)silane
• CAS: 47956-45-6
• 化学式: C₂H₆OSi
• mdl: MFCD00084411
• 分子量: 74.1545
• InChiKey: SEUDSDUUJXTXSV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 物理描述：
  Dimethylpolysiloxane is a colorless odorless liquid, Floats on water. (USCG, 1999)
• 沸点：
  greater than 300 °F at 760 mm Hg (USCG, 1999)
• 熔点：
  -50 °C
• 闪点：
  >110 °C
• 溶解度：
  Solubility in water: none
• 密度：
  0.98 at 68 °F (USCG, 1999)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.25
• 重原子数：
  4
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

ADMET

毒理性

• 暴露途径

这种物质可以通过吸入被身体吸收。

The substance can be absorbed into the body by inhalation.

来源:ILO-WHO International Chemical Safety Cards (ICSCs)

毒理性

• 眼睛症状

红斑。疼痛。

Redness. Pain.

来源:ILO-WHO International Chemical Safety Cards (ICSCs)

毒理性

• 摄入症状

恶心。呕吐。腹泻。

Nausea. Vomiting. Diarrhoea.

来源:ILO-WHO International Chemical Safety Cards (ICSCs)

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二甲基氧代-硅烷 生成 六甲基环三硅氧烷
  参考文献：
  名称：

  不稳定的分子与siliconoxygen多重键直接光谱研究：低温基质稳定化（CH 3）2 SiO和（CD 3）2 SiO在气相

  摘要：

  继续中间体的双键合的硅的红外光谱调查，silanones（CH 3）2 SiO和（CD 3）2 SiO已经由相应的6-氧杂-3- silabicyclo的真空热解产生的[ 3.1.0]己烷和水杨吡喃与马来酸酐的DielsAlder加合物。首先将上述硅烷酮在12 K的氩气基质中从气相中稳定下来，并通过红外光谱进行了研究。使用温度和压力在热解区或暖机实验光谱的依赖性（35-40 K）以下的silanones振动谱带已揭示：（CH 3）2 SiO1244，1240，1210 ，822，798，770，657厘米-1; （CD 3）2 SiO1215，1032，1007，995，712，685，674厘米-1。确定了二甲基硅酮的热（≈850℃）和动力学（5×10 -4托）稳定性的极限。通过将发现的频率与计算值进行比较，将（CH 3）2 Si 3 O中的1210 cm -1频带（（CD 3）2

  DOI：

  10.1016/0022-328x(88)80151-7
• 作为产物：
  描述：

  三甲基硅烷 在 O(³P) 作用下， 生成 二甲基氧代-硅烷
  参考文献：
  名称：

  原子氧（3P）与三甲基硅烷的反应

  摘要：

  DOI：

  10.1021/j100259a038

文献信息

• Conversion of the silicone poly(dimethylsiloxane) by thallium(I) ethoxide into the ladder polymer [{Tl2(OSiMe2)O}2] n ; X-ray structure of the product and of thallium(I) triphenylsilanolate
  作者：Stephen Harvey、Michael F. Lappert、Colin L. Raston、Brian W. Skelton、Ghanshyam Srivastava、Allan H. White

  DOI：10.1039/c39880001216

  日期：——

  Treating silicone grease (OSiMe2)m with an excess of TlOEt in PhMe at ambient temperature instantly yields the poly(thalliodimethylsiloxane)[Tl2(OSiMe2)2O}2]n which, like [Tl(µ3-OSiPh3)]4(obtained similarly from the ethoxide and HOSiPh3), has been characterised by X-ray crystallography; both structures contain Tl4O4 cuboids [Tl–O distances and O–Tl–O angles are in the range 2.48(2)–2.78(2)Å and 75

  在环境温度下，用PhMe中的TlOEt过量的TlOEt处理硅脂（OSiMe 2）m会立即产生聚[thalliodimethylsilane）[Tl 2（OSiMe 2）2 O} 2 ] n，它与[Tl（µ 3 -OSiPh 3））] 4（类似地从乙醇盐和HOSiPh 3中获得），已通过X射线晶体学表征；两种结构都包含Tl 4 O 4长方体[Tl–O距离和O–Tl–O角度在2.48（2）–2.78（2）Å和75.4（5）–84.8（6）°范围内]。
• Dimethoxydimethylsilane from Silicon Atoms and Dimethyl Ether: A Combined Matrix-Spectroscopic and Density Functional Theory Study
  作者：Günther Maier、Jörg Glatthaar

  DOI：10.1002/ejoc.200300203

  日期：2003.9

  reaction between silicon atoms and dimethyl ether (6) has been studied in an argon matrix at 10 K and in solid dimethyl ether (6) at temperatures up to 80 K. In the initial step, a triplet n-adduct T-5 is formed between a silicon atom and 6. The next step needs photochemical activation. Depending on the relative dimethyl ether/argon ratio, the photoproduct is either dimethylsilanone (1) or singlet methoxymethylsilylene

  硅原子与二甲醚 (6) 之间的反应在 10 K 的氩基质中和在高达 80 K 的温度下在固体二甲醚 (6) 中进行了研究。 在初始步骤中，三重 n-加合物 T-5 是在硅原子和 6 之间形成。下一步需要光化学活化。根据二甲醚/氩的相对比例，光产物是二甲基硅烷酮 (1) 或单线态甲氧基甲基亚甲硅烷 (S-2)，在过量 6 的情况下，作为甲硅烷 S-2 的二甲醚络合物 8 存在. 更长的辐射将二甲醚加成化合物 S-8-t/S-8-c 转化为二甲氧基二甲基硅烷 (7)。如果在硅原子与 6 共缩合过程中直接进行辐照，则唯一可检测到的产物是 8 和 7。在进一步辐照纯二甲醚基质时，其余 8 种也发生光异构化，仅观察到二甲氧基二甲基硅烷 (7)。所有新物种的结构阐明都是基于实验观察与密度泛函理论计算的比较。(© Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 69451 Weinheim
• The siliconoxygen double-bonded intermediates
  作者：A.V. Tomadze、N.V. Yablokova、V.A. Yablokov、G.A. Razuvaev

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)85524-2

  日期：1981.5

  The kinetics and mechanism of thermal decomposition of R1R2(H)SiOOR3 silylperoxides have been studied. It has been shown that peroxides generated diorganosilanones R1R2Si=O, with a high yield in the temperature range 130-180°C. A mechanism is suggested for the silanone formation. The interaction of si1anones with cyclosiloxanes, triethylsilane, α-methylstyrene has been investigated as well as the cyclisation

  研究了R 1 R 2（H）SiOOR 3甲硅烷基过氧化物的热分解动力学和机理。已经表明，过氧化物在130-180℃的温度范围内以高产率产生了二有机硅酮酮R 1 R 2 Si ＝ O。建议了一种机制来形成硅烷酮。已经研究了硅烷酮与环硅氧烷，三乙基硅烷，α-甲基苯乙烯的相互作用以及硅烷酮的环化。
• Reactivity studies of a soluble LiH-complex and non-spectator behaviour of its stabilising phosphinoamide ligand
  作者：Andreas Stasch

  DOI：10.1039/c3dt52140k

  日期：——

  The reactivity of a soluble phosphinoamide stabilized lithium hydride complex towards some unsaturated organic substrates is described and hydrolithiation and phosphinoamide addition products are reported.

  可溶性膦胺稳定的锂氢化合物对一些不饱和有机底物的反应性进行了描述，并报告了氢化锂和膦胺加成产物。
• PHOTOLYSIS AND PYROLYSIS OF POLYSILYLATED DIAZOMETHANES. EFFECTIVE MIGRATING TENDENCY OF TRIMETHYLSILYL GROUP TO A CARBENE CENTER
  作者：Akira Sekiguchi、Wataru Ando

  DOI：10.1246/cl.1983.871

  日期：1983.6.5

  Photolysis and pyrolysis of polysilylated diazomethanes were investigated, and a selective migration of trimethylsilyl group to a carbene center was observed.

  研究了聚甲硅烷基化重氮甲烷的光解和热解，并观察到三甲基甲硅烷基选择性迁移到卡宾中心。