hafnium(IV) butoxide

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: hafnium(IV) butoxide
• 英文别名: hafnium-n-butoxide；Hafnium(IV)-butoxid
• 化学式: 4C₄H₉O*Hf
• 分子量: 470.949
• InChiKey: JKMZUBCRWRPBGA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.14
• 重原子数：
  6.0
• 可旋转键数：
  2.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  23.06
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  1.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  hafnium(IV) butoxide 、 乙酰丙酮 以 甲苯 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  The structures of the precursor Hf(OnBu)4 and its modification in solution: EXAFS-investigation in combination with XANES- and IR-spectroscopy

  摘要：

  溶胶凝胶法制备含氧化铪材料的重要前驱体--正丁氧化铪 Hf(OnBu)4 的溶液结构在纯甲苯溶液中以及在乙酰丙酮、异丙醇和四氢呋喃存在下通过 EXAFS、XANES 和红外光谱进行了研究。通过这三种方法的结合以及对已知固态参考文献的额外测量和讨论，我们可以确定结构动机，并在对溶液中形成的结构没有任何先验知识的情况下详细了解这些结构。晶体 Hf(OnBu)4 的二聚体结构在溶液中没有得到保留，而是形成了三聚环状结构。虽然加入 HOiPr 和 THF 不会导致所形成的复合物发生任何变化，但一当量的 Hacac 会通过部分形成二聚体而降低聚集程度。在含有两个和三个当量的 Hacac 时，形成的只是单体。利用所获得的结构参数，首次建立了 XANES 区域光谱特征与平均氧配位数之间的经验相关性。

  DOI：

  10.1039/b707079a
• 作为产物：
  描述：

  氯化铪 、 正丁醇 在 正丁基锂 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 hafnium(IV) butoxide
  参考文献：
  名称：

  Hafnium-containing material for film formation, method for producing the same, and method for producing hafnium-containing thin film using the same

  摘要：

  提供了一种含有铪的材料，用于形成具有出色蒸发稳定性和更高膜形成速率的薄膜。同时提供了一种制备该薄膜的方法。用于薄膜形成的含铪材料具有铪原子与氮原子的键合或铪原子与氧原子的键合。材料中含有的锆含量小于或等于650 ppm。

  公开号：

  US20050065358A1

文献信息

• Synthesis of New Boron-Containing Ligands and Their Hafnium(IV) Complexes
  作者：V. V. Voinova、I. N. Klyukin、A. P. Zhdanov、M. S. Grigor’ev、K. Yu. Zhizhin、N. T. Kuznetsov

  DOI：10.1134/s0036023620060261

  日期：2020.6

  two-stage method for the synthesis of a boron-containing complexone on the basis of aminomalonic acid was proposed. The products were studied by multinuclear NMR spectroscopy, IR absorption spectroscopy, and ESI mass spectrometry at all the stages of synthesis. The product (NBu4)[2-B10H9NHC(CH3)NHCH(COOEt)2] was structurally characterized by singe-crystal X-ray diffraction. The complexation reaction

  摘要提出了一种基于氨基丙二酸合成含硼配合物的两步法。在合成的所有阶段，通过多核NMR光谱，IR吸收光谱和ESI质谱对产物进行了研究。通过单晶X射线衍射对产物（NBu 4）[2-B 10 H 9 NHC（CH 3）NHCH（COOEt）2 ]进行结构表征。研究了氨基丙二酸的硼酸酯化衍生物与Hf（NEt 2）4和Hf（OBu）4的络合反应。
• Hafnium-containing material for film formation, method for producing the same, and method for producing hafnium-containing thin film using the same
  申请人：Itsuki Atsushi

  公开号：US20050065358A1

  公开（公告）日：2005-03-24

  A hafnium-containing material is presented for forming a film having excellent vaporization stability and higher film formation rate. Also a method for producing the film is presented. The hafnium-containing material for film formation has a bond of a hafnium atom with a nitrogen atom, or a bond of a hafnium atom and an oxygen atoms. Zr content contained in the material is equal to or less than 650 ppm.

  提供了一种含有铪的材料，用于形成具有出色蒸发稳定性和更高膜形成速率的薄膜。同时提供了一种制备该薄膜的方法。用于薄膜形成的含铪材料具有铪原子与氮原子的键合或铪原子与氧原子的键合。材料中含有的锆含量小于或等于650 ppm。
• The structures of the precursor Hf(OnBu)4 and its modification in solution: EXAFS-investigation in combination with XANES- and IR-spectroscopy
  作者：Matthias Bauer、Sonja Müller、Guido Kickelbick、Helmut Bertagnolli

  DOI：10.1039/b707079a

  日期：——

  The solution structure of hafnium-n-butoxide Hf(OnBu)4, an important precursor for the sol–gel preparation of hafnium oxide containing materials, was studied in solution in pure toluene, and in presence of acetylacetone, iso-propanol and tetrahydrofuran by EXAFS-, XANES- and IR-spectroscopy. The combination of these three methods and the additional measurements and discussions of well known solid state references allow us to identify structural motives and to gain a detailed picture of the structures formed in solution without any a priori knowledge about these structures. The dimeric structure of crystalline Hf(OnBu)4 is not preserved in solution and a trimeric cyclic structure is formed. While the addition of HOiPr and THF does not induce any change of the formed complexes, one equivalent of Hacac reduces the degree of aggregation by the partial formation of dimers. In the presence of two and three equivalents of Hacac, solely monomeric species are formed. The obtained structural parameters are used to establish for the first time an empirical correlation of a spectral feature in the XANES region with the average oxygen coordination number.

  溶胶凝胶法制备含氧化铪材料的重要前驱体--正丁氧化铪 Hf(OnBu)4 的溶液结构在纯甲苯溶液中以及在乙酰丙酮、异丙醇和四氢呋喃存在下通过 EXAFS、XANES 和红外光谱进行了研究。通过这三种方法的结合以及对已知固态参考文献的额外测量和讨论，我们可以确定结构动机，并在对溶液中形成的结构没有任何先验知识的情况下详细了解这些结构。晶体 Hf(OnBu)4 的二聚体结构在溶液中没有得到保留，而是形成了三聚环状结构。虽然加入 HOiPr 和 THF 不会导致所形成的复合物发生任何变化，但一当量的 Hacac 会通过部分形成二聚体而降低聚集程度。在含有两个和三个当量的 Hacac 时，形成的只是单体。利用所获得的结构参数，首次建立了 XANES 区域光谱特征与平均氧配位数之间的经验相关性。