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triethylsilyl cobalt tetracarbonyl

中文名称
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中文别名
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英文名称
triethylsilyl cobalt tetracarbonyl
英文别名
(CO)4CoSiEt3;Et3SiCo(CO)4
triethylsilyl cobalt tetracarbonyl化学式
CAS
——
化学式
C10H15CoO4Si
mdl
——
分子量
286.305
InChiKey
KCSOSQZWEJZUBG-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.39
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.6
  • 拓扑面积:
    4
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    参考文献:
    名称:
    直接观察 R3SiCo(CO)4 与 R'3SiH 光化学反应的中间体并建立 R'3SiCo(CO)4 形成机制
    摘要:
    Par 辐射 UV de R 3 SiCo(CO) 4 存在 de R' 3 SiH 形成 de R 3 SiCo(CO) 4 et R 3 SiH a 298 K en 溶剂 alcane a 298 K (R=Me, Et, Ph; R '=Et)。Mecanisme en milieu alcalin a 77 K: perte dissociative de CO avec mise en jeu de R 3 SiCo(CO) 3 。幽灵红外线
    DOI:
    10.1021/ja00316a030
  • 作为产物:
    描述:
    一氧化碳 作用下, 以 甲基环己烷 为溶剂, 生成 triethylsilyl cobalt tetracarbonyl
    参考文献:
    名称:
    直接观察 R3SiCo(CO)4 与 R'3SiH 光化学反应的中间体并建立 R'3SiCo(CO)4 形成机制
    摘要:
    Par 辐射 UV de R 3 SiCo(CO) 4 存在 de R' 3 SiH 形成 de R 3 SiCo(CO) 4 et R 3 SiH a 298 K en 溶剂 alcane a 298 K (R=Me, Et, Ph; R '=Et)。Mecanisme en milieu alcalin a 77 K: perte dissociative de CO avec mise en jeu de R 3 SiCo(CO) 3 。幽灵红外线
    DOI:
    10.1021/ja00316a030
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文献信息

  • α-Substitution effect of fluorine atoms in the cobalt-catalyzed hydrosilylation of fluorine-containing aromatic ketones
    作者:Tatsuya Kumon、Siti Asiah Binti Mohd Sari、Shigeyuki Yamada、Tsutomu Konno
    DOI:10.1016/j.jfluchem.2017.12.003
    日期:2018.2
    Hydrosilylation of fluorine-containing aromatic ketones with triethylsilane in the presence of a catalytic amount of a low-cost and an environmentally benign cobalt catalyst proceeded very smoothly to give the corresponding adducts. Interestingly, this hydrosilylation reaction was not applicable to non-fluorinated ketones. As revealed by density functional theory analysis, a fluorine substituent at
    在催化量的低成本催化剂和对环境有益的催化剂的存在下,含芳族酮与三乙基硅烷氢加成反应非常顺利,得到了相应的加合物。有趣的是,这种氢化硅烷化反应不适用于非化酮。如通过密度泛函理论分析所揭示的,在α位的取代基在促进氢化硅烷化反应中起关键作用。
  • Reaction of silylcobalt tetracarbonyls with oxiranes. Kinetics and mechanism
    作者:József Kreisz、Attila Sisak、László Markó、Ferenc Ungváry
    DOI:10.1016/0022-328x(93)83007-i
    日期:1993.6
    It has been shown that (β-silyloxyacyl)cobalt tetracarbonyls are formed in the reaction between silylcobalt tetracarbonyl, terminal oxirane, and carbon monoxide. The linear acyl isomer is obtained with a regioselectivity of about 80%, which is practically independent of the nature of the substituents in the silyl group. Kinetic studies have revealed a first order dependence on Ph3SiCo(CO)4, an increasing
    业已表明,在甲硅烷四羰基,末端环氧乙烷一氧化碳之间的反应中形成了(β-甲硅烷基氧酰基)四羰基。所获得的线性酰基异构体具有大约80%的区域选择性,这实际上与甲硅烷基中取代基的性质无关。动力学研究揭示了对Ph 3 SiCo(CO)4的一阶依赖性,相对于乙基环氧乙烷的升序和相对于[Co(CO)4 ] -和CO的零阶。建议使用紧密的离子对,决定内部S N 2型取代的速率以及快速插入CO的速率。
  • [EN] COBALT-CONTAINING COMPOUNDS, THEIR SYNTHESIS, AND USE IN COBALT-CONTAINING FILM DEPOSITION<br/>[FR] COMPOSÉS CONTENANT DU COBALT, LEUR SYNTHÈSE ET UTILISATION DANS UN DÉPÔT DE FILM CONTENANT DU COBALT
    申请人:AIR LIQUIDE
    公开号:WO2014118748A1
    公开(公告)日:2014-08-07
    Cobalt-containing compounds, their synthesis, and their use for the deposition of cobalt containing films are disclosed. The disclosed cobalt-containing compounds have one of the following formulae: wherein each of R1, R2, R3, R4 and R5 is independently selected from the group consisting of hydrogen and linear, cyclic, or branched hydrocarbon groups; provided that (a) R1≠ R2 and/or R3 when R1 and R2 and R3 are a hydrocarbon group; (b) R1 and R2 are a hydrocarbon group when R3 is H; or (c) R1 is a C2-C4 hydrocarbon group when R2 and R3 are H.
    本文揭示了含化合物的合成以及它们用于沉积含薄膜的用途。所揭示的含化合物具有以下公式之一:其中R1、R2、R3、R4和R5中的每一个都是独立地从氢和线性、环状或支链烃基组成的群体中选择的;前提是当R1和R2和R3是烃基时,(a) R1≠R2和/或R3;(b) 当R3为H时,R1和R2是烃基;或者(c) 当R2和R3为H时,R1是C2-C4烃基。
  • [EN] ORGANOMETALLIC COMPOUNDS<br/>[FR] COMPOSÉS ORGANOMÉTALLIQUES
    申请人:UMICORE AG & CO KG
    公开号:WO2020021080A1
    公开(公告)日:2020-01-30
    The present patent application relates to novel allyl cobalt complexes, to a process for their preparation and to their use for vapor deposition.
    本专利申请涉及新型烯丙基配合物、其制备方法以及它们在蒸气沉积中的应用。
  • Metal-Carbonyl-Functionalized CdSe Nanocrystals: Synthesis, Surface Redox, and Infrared Intensities
    作者:Keaton V. Prather、Seryeong Lee、Emily Y. Tsui
    DOI:10.1021/acs.inorgchem.0c03641
    日期:2021.4.5
    metal carbonyl surface densities. Surface reduction or oxidation, as well as changes to the surface stoichiometry, was shown to shift the metal carbonyl CO stretching frequencies, making these surface-bound metal carbonyl fragments useful spectroscopic reporters of NC surface chemistry. Normal coordinate analysis was used on the metal carbonyl CO stretching vibrations to study the electronic influence
    表征胶体半导体纳米晶体(NCs)的表面仍然是理解和控制其物理性质和化学行为的关键挑战。因此,研究数控表面的新方法引起了人们的极大兴趣。在本文中,我们报告了(Me 3 Si)2 Fe(CO)4和Et 3 SiCo(CO)4的使用用作用有机属四羰基片段官能化CdSe NC表面的试剂。该方法避免了NC表面的还原,并可以实现较高的羰基属表面密度。研究表明,表面还原或氧化以及表面化学计量的变化都会改变羰基属CO的拉伸频率,从而使这些表面结合的羰基属碎片成为NC表面化学的光谱报告者。使用正态坐标分析法对羰基属的CO拉伸振动进行了研究,以研究CdSe NCs对羰基属碎片的过渡属中心的电子影响。这些研究证明了有机属光谱报道分子在研究NCs的表面化学中的实用性。
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