(4-羟苯基)二苯基甲醇 | 15658-11-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 三苯基化合物
• 中文名称: (4-羟苯基)二苯基甲醇
• 中文别名: (4-羟基苯基)二苯基甲醇
• 英文名称: p-hydroxytrityl alcohol
• 英文别名: p-hydroxy-α,α-diphenylbenzyl alcohol；4-[hydroxy(diphenyl)methyl]phenol；4-Hydroxy-triphenylcarbinol；4-Methoxy-triphenyl-carbinol；(p-Hydroxyphenyl)-diphenylmethanol；Hydroxy-diphenyl-(4-hydroxy-phenyl)-methan；(4-Hydroxy-phenyl)-diphenyl-methanol；Diphenyl-(4-oxy-phenyl)-carbinol；4-Oxy-triphenylcarbinol；4-Oxy-tritanol；(4-Hydroxyphenyl)diphenylmethanol
• CAS: 15658-11-4
• 化学式: C₁₉H₁₆O₂
• mdl: MFCD00973626
• 分子量: 276.335
• InChiKey: QEIRHBKKYVWAOM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  160.0 to 164.0 °C
• 沸点：
  473.4±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.208±0.06 g/cm3(Predicted)
• 溶解度：
  溶于甲醇

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.052
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2907299090
• 储存条件：
  2-8°C

SDS

(4-羟苯基)二苯基甲醇 修改号码：5

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模块 1. 化学品
产品名称： (4-Hydroxyphenyl)diphenylmethanol
修改号码： 5

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： (4-羟苯基)二苯基甲醇
百分比： >98.0%(LC)
CAS编码： 15658-11-4
俗名： 4-Hydroxytrityl Alcohol
(4-羟苯基)二苯基甲醇 修改号码：5

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模块 3. 成分/组成信息
分子式： C19H16O2

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项： 如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。冷藏储存。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
热敏
包装材料： 依据法律。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块 9. 理化特性
外形（20°C）： 固体
外观： 晶体-粉末
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模块 9. 理化特性
颜色： 微浅黄色-黄色
气味： 无资料
pH: 无数据资料
熔点：
162°C
沸点/沸程 无资料
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 无资料
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂]
溶于： 甲醇

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： 无资料
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合，在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。
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模块 14. 运输信息
联合国分类： 与联合国分类标准不一致
UN编号： 未列明

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (4-羟苯基)二苯基甲醇 在 四氯化碳 、 氯 作用下， 生成 2,6-dichlorofuchsone
  参考文献：
  名称：

  Transition from Classic Aortic Dissection to Aortic Intramural Hemorrhage

  摘要：

  一名64岁男性因胸痛和背痛主诉入院。根据计算机断层扫描（CT）的结果，诊断为Stanford A型主动脉夹层，伪腔从升主动脉延伸至降主动脉。第二天进行的CT显示伪腔消失，主动脉壁亮度增加，典型的主动脉夹层伴有壁内出血。尽管先前的研究描述了主动脉壁内出血逐渐过渡为伪腔型主动脉夹层，但没有报道过从伪腔型主动脉夹层过渡为壁内出血型主动脉夹层。在考虑主动脉夹层伴有壁内出血的发病机制和壁内出血与伪腔型主动脉夹层之间的关系时，这名患者具有重要意义。

  DOI：

  10.1177/000331970005101111
• 作为产物：
  描述：

  4-(二苯基亚甲基)-2,5-环己二烯-1-酮 在 高氯酸 、 水 作用下， 生成 (4-羟苯基)二苯基甲醇
  参考文献：
  名称：

  水溶液中的快速光解和对苯二酚α-苯甲基和对苯二酚α，α-二苯甲基的研究† ‡

  摘要：

  对苯二酚α-苯甲基（7）和对苯醌α，α-二苯甲基（8）是通过对羟基-α-苯基苯甲醇（9，R 1  = Ph，R 2  = H）的快速光解脱水制得的。对羟基-α，α-二苯基苄醇（9，R 1  = R 2 分别在高氯酸水溶液和氢氧化钠溶液中以及在乙酸，二磷酸根离子，三（羟甲基）甲基铵离子，铵离子和碳酸氢根离子缓冲液中测量其衰减速率。这些数据提供的这些醌甲基化物的水合速率分布图显示了hydro离子和氢氧根离子催化的区域以及“未催化的”水反应，在稀溶液中对于二苯基取代的底物饱和了nium离子的催化，但仅在浓缩状态下有效。碱性较低的单苯基底物的酸性溶液。两种底物也都具有相反的水合氢离子同位素效应（k H + / k D + <1）。这些结果表明，氢醌离子催化的反应是通过醌甲基化物在其羰基氧原子上的快速预平衡质子化，然后确定由水形成的苄型碳正离子的捕获率而发生的。苯基取代会延迟水合速率，还会降低醌甲基

  DOI：

  10.1002/poc.767

文献信息

• A Linker for the Solid-Phase Synthesis of Hydroxamic Acids and Identification of HDAC6 Inhibitors
  作者：Claus G. Bang、Jakob F. Jensen、Emil O’Hanlon Cohrt、Lasse B. Olsen、Saba G. Siyum、Kim T. Mortensen、Tine Skovgaard、Jens Berthelsen、Liang Yang、Michael Givskov、Katrine Qvortrup、Thomas E. Nielsen

  DOI：10.1021/acscombsci.7b00068

  日期：2017.10.9

  readily available and nonintegral hydroxylamine linkers for the routine solid-phase synthesis of hydroxamic acids. The developed protocols enable the efficient synthesis and release of a wide range of hydroxamic acids from various resins, relying on high control and flexibility with respect to reagents and synthetic processes. A trityl-based hydroxylamine linker was used to synthesize a library of peptide

  我们在此提出了广泛有用的，容易获得的和非整体的羟胺连接基，用于羟肟酸的常规固相合成。所开发的方案能够有效地从各种树脂合成和释放各种异羟肟酸，这取决于试剂和合成方法的高度控制和灵活性。基于三苯甲基的羟胺接头用于合成肽异羟肟酸的文库。使用基于化学发光的测定法检查了化合物对7种HDAC酶亚型的抑制作用。
• 一种含有二苯甲烷结构的化合物
  申请人：广州同隽医药科技有限公司

  公开号：CN109678751A

  公开（公告）日：2019-04-26

  本发明涉及一种含有二苯甲烷结构的化合物，属于化合物及多肽合成技术领域。本发明含有二苯甲烷结构的化合物的结构如通式(1)所示。本发明含有二苯甲烷结构的化合物，含有羟基、氨基、取代氨基、活性基团，可用作氨基酸或肽C端保护试剂。使用这种保护载体的肽合成反应，在合适的溶剂体系中反应速度快，试剂利用率高；后处理通过简单的液液萃取分离即能够进行有效纯化，最终可获得纯度较高的产品；合成过程中溶解度变化小，操作流程通用性强，可以发展成一种普适型的生产方法。
• Molybdenum-Catalyzed Cross-Coupling of Benzyl Alcohols: Direct C–OH Bond Transformation via [2 + 2]-Type Addition and Elimination
  作者：Pan Zhou、Yuqiang Li、Tao XU

  DOI：10.1021/acs.orglett.2c01537

  日期：2022.6.17

  Traditional cross-couplings catalyzed by transition metal catalysts generally rely on the classic oxidative addition–transmetalation–reductive elimination process, which requires low-valent precious metals and an inert atmosphere and which initiates from carbon–alide or pesudo carbon–halide bonds. Herein, an unprecedented molybdenum–oxo-complex-catalyzed intermolecular cross-coupling of benzyl alcohols

  由过渡金属催化剂催化的传统交叉偶联通常依赖于经典的氧化加成-金属转移-还原消除过程，该过程需要低价贵金属和惰性气氛，并从碳-卤化物或拟碳-卤化物键引发。在此，报道了前所未有的钼-氧络合物催化苯甲醇的分子间交叉偶联。包括伯、仲和叔底物在内的各种醇可以在这些条件下有效地进行。对低价过渡金属敏感的几个官能团，如芳基卤化物，可以很好地耐受。机理研究和DFT计算表明分子内协同环化参与了反向[2 + 2]型消除过程。
• COMPOUND CONTAINING DIPHENYLMETHANE STRUCTURE AND USE THEREOF
  申请人：Guangzhou Trojan Pharmatec Ltd.

  公开号：EP3901132A1

  公开（公告）日：2021-10-27

  Disclosed are a compound containing a diphenylmethane structure and a use thereof, belonging to the technical field of compound and polypeptide synthesis. The structure of the compound containing a diphenylmethane structure of the present invention is represented by General Formula (1). The compound containing a diphenylmethane structure of the present invention contains a hydroxyl group, an amino group, a substituted amino group, and an active group, and can be used as an amino acid or peptide C-terminal protection reagent. A peptide synthesis reaction using this protection carrier has a fast reaction speed and a high reagent utilization rate in a suitable solvent system; post-treatment is carried out by means of simple liquid-liquid extraction separation, i.e. effective purification can be carried out, and finally, a product with a high purity can be obtained; and during a synthesis process, the change in solubility is small and an operation process has a strong universality, and therefore, the present method can be developed into a universal production method.

  本发明公开了一种含有二苯基甲烷结构的化合物及其用途，属于化合物和多肽合成技术领域。本发明含有二苯基甲烷结构的化合物的结构由通式（1）表示。本发明的含二苯基甲烷结构的化合物含有羟基、氨基、取代氨基和活性基团，可用作氨基酸或肽的 C-末端保护试剂。使用该保护载体进行多肽合成反应，在合适的溶剂体系中，反应速度快，试剂利用率高；通过简单的液液萃取分离进行后处理，即可以进行有效的纯化，最终可以得到纯度较高的产品；并且在合成过程中，溶解度变化小，操作过程具有较强的通用性，因此，本发明方法可以发展成为一种通用的生产方法。
• Composition for forming a resist upper-layer film and method for producing a semiconductor device using the composition
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US10042258B2

  公开（公告）日：2018-08-07

  This composition for forming an extreme-ultraviolet (EUV) or electron-beam upper-layer resist film including (a) a polymer (P) and (b) a solvent, the solvent containing 1 to 13 mass % of a C4-12 ketone compound with respect to the entire solvent, is used in the lithography process of a procedure for manufacturing a semiconductor device. Without needing to be intermixed with a resist, and particularly on the occasion of EUV exposure, the composition for forming an EUV or electron-beam upper-layer resist film blocks undesirable exposure light, e.g., ultraviolet (UV) or deep ultraviolet (DUV) rays, and selectively transmits only the EUV rays, and can be developed using a developing solution after exposure.

  这种用于形成极紫外（EUV）或电子束上层抗蚀剂薄膜的组合物包括（a）聚合物（P）和（b）溶剂，溶剂中的C4-12酮化合物占整个溶剂的1-13质量％，用于半导体设备制造过程中的光刻工艺。这种用于形成 EUV 或电子束上层抗蚀剂薄膜的组合物无需与抗蚀剂混合，尤其是在进行 EUV 曝光时，可阻挡不希望的曝光光（例如紫外线 (UV) 或深紫外线 (DUV)），并选择性地只透射 EUV 射线，曝光后可使用显影液进行显影。