p-tert-Butoxytriphenylmethan | 10357-72-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 三苯基化合物
• 英文名称: p-tert-Butoxytriphenylmethan
• 英文别名: 1,1'-[(4-tert-Butoxyphenyl)methylene]dibenzene；1-benzhydryl-4-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]benzene
• CAS: 10357-72-9
• 化学式: C₂₃H₂₄O
• 分子量: 316.443
• InChiKey: VOXJGTHQOUDQKP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  424.4±24.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.033±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.3
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.22
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  二苯甲醇 在 tetrabutylammonium tetrafluoroborate 、 potassium hydride 、 碳酸氢钠 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 、 mineral oil 为溶剂， 反应 0.84h， 生成 p-tert-Butoxytriphenylmethan
  参考文献：
  名称：

  苯甲基甲基醚的电化学氧化生成的弗里德尔-克拉夫特与碳离子烷基化

  摘要：

  富电子芳烃的Friedel-Crafts烷基化可通过稳定的碳氧离子实现，该离子由低电位的苯乙烯甲基甲醚的单细胞阳极氧化产生。使用碳酸氢钠的3作为添加剂确保贴近中性条件使得能够与芳烃带有酸敏感基团，如反应Ó -TBS，ö -Tr，ö -MOM，ö -THP。

  DOI：

  10.1002/ejoc.202000568

文献信息

• Hszthy, Peter; Lemport, Karoly; Simig, Gyula, Journal of Chemical Research, Miniprint, 1985, # 10, p. 3419 - 3430
  作者：Hszthy, Peter、Lemport, Karoly、Simig, Gyula、Tamas, Jozsef

  DOI：——

  日期：——
• HUSZTHY, P.;LEMPERT, K.;SIMIG, G.;TAMAS, J., J. CHEM. RES. MICROFICHE, 1985, N 10, 309
  作者：HUSZTHY, P.、LEMPERT, K.、SIMIG, G.、TAMAS, J.

  DOI：——

  日期：——
• ORGANOMETALLIC COMPLEXES
  申请人：Radu Nora Sabrina

  公开号：US20090206327A1

  公开（公告）日：2009-08-20

  Organometallic complexes are provided having at least one charge transporting ligand, and methods for making the same, as well as devices and sub-assemblies including the same.
• RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POLYMER
  申请人：Sakakibara Hirokazu

  公开号：US20100255420A1

  公开（公告）日：2010-10-07

  A radiation-sensitive resin composition includes a polymer, an acid-labile group-containing resin, a radiation-sensitive acid generator, and a solvent, the polymer including repeating units shown by following general formulas (1) and (2). wherein R 1 and R 2 represent a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group, R 3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom, or a derivative thereof, and Z represents a group that includes a group that generates an acid upon exposure to light. The radiation-sensitive resin composition produces an excellent pattern shape, reduces the amount of elution into an immersion liquid upon contact during liquid immersion lithography, ensures that a high receding contact angle is formed by a resist film and an immersion liquid, and rarely causes development defects.
• US8362463B2
  申请人：——

  公开号：US8362463B2

  公开（公告）日：2013-01-29