2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-Dodecamethyl-[1,2,3,4,5,6,7]thiahexasilepane | 121002-06-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-Dodecamethyl-[1,2,3,4,5,6,7]thiahexasilepane
• 英文别名: Dodecamethylthiahexasilepane；2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-dodecamethylthiahexasilepane
• CAS: 121002-06-0
• 化学式: C₁₂H₃₆SSi₆
• 分子量: 380.997
• InChiKey: GQPGXHPZHLKMEP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  295.4±23.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.87±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.37
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  25.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,6-dichlorododecamethylhexasilane 在 lithium sulfide 、 三乙基硼 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 12.0h， 以50%的产率得到2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-Dodecamethyl-[1,2,3,4,5,6,7]thiahexasilepane
  参考文献：
  名称：

  全甲基杂原子环聚硅烷mit VI杂原子。Hauptgruppe。危险与自然灾害

  摘要：

  通过α，ω-二氯聚硅烷和Li 2 S / Li 2 Se或通过简单水解合成了n = 4,5,6的VI组全甲基杂环聚硅烷（SiMe 2）n X和X = O，S，Se 。从紫外光谱结果可以得出杂原子孤对电子对低能电子跃迁的相当大的贡献。SiSiNMR耦合常数与杂原子电负性令人满意地相关，表明占主导地位的费米接触对相应耦合常数的大小有贡献。

  DOI：

  10.1016/0022-328x(92)83280-u

文献信息

• Contributions to the chemistry of silicon-sulphur compounds
  作者：B. Becker、W. Wojnowski

  DOI：10.1016/0022-328x(88)80128-1

  日期：1988.6

  (Me2Si)x react with elemental sulphur at 190–200°C much slowly than (Me2Si)5. Reaction of 1 gives initially the insertion product (Me2Si)6S, and hence (Me2Si)5S, (Me2Si)4S2, and finally hexamethyl-1,3-dithiacyclopentasilane, (Me2SiS)3, and (Me2SiS)2. These last three products are also formed in the reaction of sulphur with the linear polymer. The mechanism of sulphur insertion into the polysilane molecule

  环状六硅烷（Me 2 Si）6（1）和线性聚合物（Me 2 Si）x在190-200°C下与元素硫的反应比（Me 2 Si）5慢得多。1的反应最初得到插入产物（Me 2 Si）6 S，因此得到（Me 2 Si）5 S，（Me 2 Si）4 S 2，最后得到六甲基-1,3-二硫代环戊硅烷（Me 2 SiS）3和（Me 2 SiS）2。这最后三种产物也是在硫与线性聚合物反应中形成的。讨论了硫插入到聚硅烷分子中的机理。并且建议该聚硅烷起亲核试剂的作用，因此其反应性主要与其供电子能力有关。提出了一种涉及数个硫插入和二甲基硅烷硫酮消除的途径。