5-methyl-3,3-diphenyl-phthalide | 500698-13-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并呋喃
• 英文名称: 5-methyl-3,3-diphenyl-phthalide
• 英文别名: 5-Methyl-3,3-diphenyl-phthalid；5-Methyl-3,3-diphenyl-1(3H)-isobenzofuranone；5-methyl-3,3-diphenyl-2-benzofuran-1-one
• CAS: 500698-13-5
• 化学式: C₂₁H₁₆O₂
• 分子量: 300.357
• InChiKey: VONRUTQQPQLVCO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.9
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-methyl-3,3-diphenyl-phthalide 在 alkaline potassium permanganate 作用下， 生成 1-oxo-3,3-diphenyl-phthalan-5-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  Hemilian, Chemische Berichte, 1883, vol. 16, p. 2361

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  ((2,5-dimethylphenyl)methylene)dibenzene 在 potassium dichromate 、 硫酸 、 水 作用下， 生成 5-methyl-3,3-diphenyl-phthalide
  参考文献：
  名称：

  Hemilian, Chemische Berichte, 1883, vol. 16, p. 2361

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Oxidative lactonization of C(sp3)-H bond in methyl aromatic alcohols enabled by proton-coupled electron transfer
  作者：Shanyi Chen、Qihong Lai、Chao Liu、Hui Liu、Mingqiang Huang、Shunyou Cai

  DOI：10.1007/s11426-022-1283-7

  日期：2022.8

  Direct functionalization of inert C(sp3)-H bonds in pharmaceutically significant compounds is very important in modern synthetic organic chemistry. In this article, we disclose a practical and efficient method for the oxidative lactonization of benzylic C(sp3)-H bonds enabled by the synergistic interactions of organic dye-type rose bengal, n-Bu4N·Br, O2 and Na2HPO4 under visible light irradiation.

  在药学上显着的化合物中惰性 C(sp 3 )-H 键的直接官能化在现代合成有机化学中非常重要。在本文中，我们公开了一种通过有机染料型玫瑰红、n -Bu 4 N·Br、O 2和 Na的协同作用实现苄基 C(sp 3 )-H 键氧化内酯化的实用且有效的方法。 2高压氧4在可见光照射下。该反应不需要过渡金属催化剂或强氧化剂。已经合成了一系列结构多样的苯酞，具有优异的选择性和高官能团相容性。该反应在制备结构复杂的苯酞的后期应用证明了其合成效用。
• Hemilian, Chemische Berichte, 1886, vol. 19, p. 2361
  作者：Hemilian

  DOI：——

  日期：——
• OVERLAY FILM FORMING COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD USING SAME
  申请人：AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.a.r.l.

  公开号：US20150140490A1

  公开（公告）日：2015-05-21

  An object of the present invention is to provide a composition enabling to form a topcoat layer capable of preventing outgassing and of keeping deep UV light from impairing pattern shape in a lithographic process with extreme UV light. The object can be achieved by a composition of the invention for forming a topcoat layer. The composition contains a water-soluble polymer comprising hydrophilic groups and deep-UV absorbing groups absorbing light of 170 to 300 nm, and an aqueous solvent. The solvent comprises 70 weight % or more of water. The composition is cast on a resist layer and heated to harden, and thereafter the resist layer is subjected to exposure by use of extreme UV light and then developed to form a pattern.
• Hemilian, Chemische Berichte, 1883, vol. 16, p. 2361
  作者：Hemilian

  DOI：——

  日期：——