(Chloromethyl-dimethyl-silanyl)-isopropyl-amine | 192764-86-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: (Chloromethyl-dimethyl-silanyl)-isopropyl-amine
• 英文别名: 1-(Chloromethyl)-1,1-dimethyl-N-(propan-2-yl)silanamine；N-[chloromethyl(dimethyl)silyl]propan-2-amine
• CAS: 192764-86-6
• 化学式: C₆H₁₆ClNSi
• mdl: MFCD19236016
• 分子量: 165.738
• InChiKey: CYKYSLUITACOGK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  134.3±23.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.901±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.04
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  12
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  sodium cyclopentadienide 、 (Chloromethyl-dimethyl-silanyl)-isopropyl-amine 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 24.0h， 以74%的产率得到isopropyl amino(cyclopentadienylmethyl)dimethylsilane
  参考文献：
  名称：

  TRANSITION METAL COMPOUND, PREPARATION METHOD THEREFOR, AND COMPOSITION FOR DEPOSITING TRANSITION METAL-CONTAINING THIN FILM, CONTAINING SAME

  摘要：

  本发明涉及一种新型过渡金属化合物；其制备方法；包含该化合物的用于沉积含有过渡金属薄膜的组合物；使用该组合物沉积含有过渡金属薄膜的过渡金属薄膜；以及制备含有过渡金属薄膜的方法。本发明的过渡金属化合物具有高热稳定性、高挥发性和高储存稳定性，因此可以通过将其用作前体物质，轻松制备具有高密度和高纯度的含有过渡金属薄膜。

  公开号：

  US20190135840A1
• 作为产物：
  描述：

  氯甲基二甲基氯硅烷 、 异丙胺 在 三乙胺 作用下， 以 正己烷 为溶剂， 以50%的产率得到(Chloromethyl-dimethyl-silanyl)-isopropyl-amine
  参考文献：
  名称：

  酰胺基芴基配体[（NBu t）SiMe 2 CH 2（C 13 H 8）] 2-和[（NPr i）SiMe 2 CH 2（C 13 H 8）] 2-的锆和ha配合物的合成和表征

  摘要：

  Pr i N（H）SiMe 2 CH 2 Cl与两当量芴基锂在THF中的反应导致[Pr i N（H）SiMe 2 CH 2（C 13 H 8）] Li（THF）（1）升高屈服。的X射线衍射研究1显示具有单体结构为η 2配位的芴基配体。锂化，随后用锆或四氯化铪治疗，得到相应的二氯络合物[（η 1 -nPr我）森达2 CH 2（η 5 -C13 ħ 8）]的ZrCl 2（2）和[（η 1 -nPr我）森达2 CH 2（η 5 -C 13 ħ 8）]的HfCl 2（3）。这些金属加合物通过NMR光谱表征，在3的情况下也通过X射线衍射表征。化合物3在形式上为14电子的Hf中心与异丙基的CH之间显示弱相互作用。二烷基化合物[（η 1 -nBu吨）森达2 CH 2（η 5 -C 13 ħ 8）]锆（CH 2森达3）2（4）从我制备3 SICH 2的MgCl和[（η 1 -nBu吨）森达2 CH 2（η

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(97)00056-9

文献信息

• TRANSITION METAL COMPOUND, PREPARATION METHOD THEREFOR, AND COMPOSITION FOR DEPOSITING TRANSITION METAL-CONTAINING THIN FILM, CONTAINING SAME
  申请人：DNF CO., LTD.

  公开号：US20190135840A1

  公开（公告）日：2019-05-09

  The present invention relates to: a novel transition metal compound; a preparation method therefor; a composition for depositing a transition metal-containing thin film, containing the same; a transition metal-containing thin film using the composition for depositing a transition metal-containing thin film; and a method for preparing a transition metal-containing thin film. The transition metal compound of the present invention has high thermal stability, high volatility, and high storage stability, and thus a transition metal-containing thin film having high-density and high-purity can be easily prepared by using the same as a precursor.

  本发明涉及一种新型过渡金属化合物；其制备方法；包含该化合物的用于沉积含有过渡金属薄膜的组合物；使用该组合物沉积含有过渡金属薄膜的过渡金属薄膜；以及制备含有过渡金属薄膜的方法。本发明的过渡金属化合物具有高热稳定性、高挥发性和高储存稳定性，因此可以通过将其用作前体物质，轻松制备具有高密度和高纯度的含有过渡金属薄膜。
• Syntheses and characterization of zirconium and hafnium complexes of amido-fluorenyl ligands [(NBut)SiMe2CH2(C13H8)]2− and [(NPri)SiMe2CH2(C13H8)]2−
  作者：H.V. Rasika Dias、Ziyun Wang

  DOI：10.1016/s0022-328x(97)00056-9

  日期：1997.7

  fluorenyl ligand. Lithiation followed by the treatment with zirconium or hafnium tetrachloride afforded the corresponding dichloro complexes [(η1-NPri)SiMe2CH2(η5-C13H8)]ZrCl2 (2) and [(η1-NPri)SiMe2CH2(η5-C13H8)]HfCl2 (3). These metal adducts were characterized by NMR spectroscopy, and in the case of 3 also by X-ray diffraction. Compound 3 shows a weak interaction between the formally 14-electron

  Pr i N（H）SiMe 2 CH 2 Cl与两当量芴基锂在THF中的反应导致[Pr i N（H）SiMe 2 CH 2（C 13 H 8）] Li（THF）（1）升高屈服。的X射线衍射研究1显示具有单体结构为η 2配位的芴基配体。锂化，随后用锆或四氯化铪治疗，得到相应的二氯络合物[（η 1 -nPr我）森达2 CH 2（η 5 -C13 ħ 8）]的ZrCl 2（2）和[（η 1 -nPr我）森达2 CH 2（η 5 -C 13 ħ 8）]的HfCl 2（3）。这些金属加合物通过NMR光谱表征，在3的情况下也通过X射线衍射表征。化合物3在形式上为14电子的Hf中心与异丙基的CH之间显示弱相互作用。二烷基化合物[（η 1 -nBu吨）森达2 CH 2（η 5 -C 13 ħ 8）]锆（CH 2森达3）2（4）从我制备3 SICH 2的MgCl和[（η 1 -nBu吨）森达2 CH 2（η