(diethylamino) trimethoxysilane | 34690-72-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: (diethylamino) trimethoxysilane
• 英文别名: N,N-diethyltrimethoxysilylamine；Diethylamino-trimethoxy-silan；N,N-Diethyl-1,1,1-trimethoxysilanamine；N-ethyl-N-trimethoxysilylethanamine
• CAS: 34690-72-7
• 化学式: C₇H₁₉NO₃Si
• 分子量: 193.318
• InChiKey: FDYPWIDITZJTAI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  157.8±23.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.937±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.7
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  30.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  乙烯酮 、 (diethylamino) trimethoxysilane 生成 Diaethylamid der β-Trimethoxysiloxy-vinylessigsaeure
  参考文献：
  名称：

  烯酮与甲硅烷基化胺或酰胺的相互作用

  摘要：

  在对乙烯酮与单或二烷基氨基硅烷的相互作用的研究中，观察到许多新的重排。当受到烯酮作用时，二烷基氨基硅烷根据所施加的条件，会生成β-甲硅烷氧基乙烯基乙酸（I）的酰胺（路线“ a”，方案A）或甲硅烷基乙酸的酰胺（II）（路线“ b”，“ C”）。在两种情况下，均分离出中间体α-甲硅烷氧基乙烯基二烷基胺（III），可以将其重新排列以得到酰胺（II）。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)88613-1
• 作为产物：
  描述：

  正硅酸甲酯 、 二乙胺 在 正丁基锂 作用下， 以 正己烷 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 (diethylamino) trimethoxysilane
  参考文献：
  名称：

  [EN] ORGANOMETALLIC COMPOUND AND METHOD
  [FR] COMPOSÉ ORGANOMÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ

  摘要：

  提供一类有机金属化合物。这些化合物的结构对应于公式1（A）x-M-(OR3)4-x，其中：A选自以下组：-NR1R2，-N（R4）（CH2）nN（R5R6），-N=C（NR4R5）（NR6R7），OCOR1，卤素和Y；R1和R2独立地选自以下组：H和具有1至8个碳原子的环状或非环状烷基，但必须满足R1和R2中至少有一个不是H；R4，R5，R6和R7独立地选自以下组：H和具有1至4个碳原子的非环状烷基；Y选自包含至少一个氮原子的3-至13元杂环基团；R3是具有1至6个碳原子的环状或非环状烷基；M选自Si，Ge，Sn，Ti，Zr和Hf；x是1至3的整数；n是1至4的整数。本发明的化合物可用作化学相沉积过程（如原子层沉积（ALD），化学气相沉积（CVD），等离子体辅助ALD和等离子体辅助CVD）中的前体。还提供了低温气相沉积金属氧化物薄膜（如SiO2薄膜）的方法。

  公开号：

  WO2017136945A1

文献信息

• Interaction of ketene with silylated amines or amides
  作者：I.F. Lutsenko、Yu.I. Baukov、A.S. Kostyuk、N.I. Savelyeva、V.K. Krysina

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)88613-1

  日期：1969.5

  dialkylaminosilanes a number of new rearrangements was observed. When acted upon by ketene, dialkylaminosilanes, depending on the conditions applied, produce either amides of β-siloxyvinylacetic acid (I) (route “a”, scheme A) or amides of silylated acetic acid (II) (routes “b”, “c”). In both cases an intermediate α-siloxyvinyldialkylamine (III) was isolated which may be rearranged to give amide (II).

  在对乙烯酮与单或二烷基氨基硅烷的相互作用的研究中，观察到许多新的重排。当受到烯酮作用时，二烷基氨基硅烷根据所施加的条件，会生成β-甲硅烷氧基乙烯基乙酸（I）的酰胺（路线“ a”，方案A）或甲硅烷基乙酸的酰胺（II）（路线“ b”，“ C”）。在两种情况下，均分离出中间体α-甲硅烷氧基乙烯基二烷基胺（III），可以将其重新排列以得到酰胺（II）。
• Ruthenium-catalyzed dealkenative N-silylation of amines by substituted vinylsilanes
  作者：Bogdan Marciniec、Sylwia Kostera、Bożena Wyrzykiewicz、Piotr Pawluć

  DOI：10.1039/c4dt03084b

  日期：——

  The [RuHCl(CO)(PCy₃)₂]-catalyzed N-silylation of primary and secondary amines with substituted vinylsilanes leads to the formation of a Si–N bond with the evolution of olefin.

  [RuHCl(CO)(PCy3)2]-催化的一级和二级胺与取代乙烯硅烷发生N-硅基化反应，形成Si-N键并释放烯烃。
• [EN] ORGANOMETALLIC COMPOUND AND METHOD<br/>[FR] COMPOSÉ ORGANOMÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ
  申请人：SEASTAR CHEMICALS INC

  公开号：WO2017136945A1

  公开（公告）日：2017-08-17

  A class of organometallic compounds is provided. The compounds correspond in structure to Formula 1 (A)x-M-(OR3)4-x wherein: A is selected from the group consisting of -NR1R2, -N(R4)(CH2)nN(R5R6), -N=C(NR4R5)(NR6R7), OCOR1, halo and Y; R1 and R2 are independently selected from the group consisting of H and a cyclic or acyclic alkyl group having from 1 to 8 carbon atoms, with the proviso that at least one of R1 and R2 must be other than H; R4, R5, R6 and R7 are independently selected from the group consisting of H and an acyclic alkyl group having from 1 to 4 carbon atoms; Y is selected from the group consisting of a 3- to 13-membered heterocyclic radical containing at least one nitrogen atom; R3 is a cyclic or acyclic alkyl group having from 1 to 6 carbon atoms; M is selected from the group consisting of Si, Ge, Sn, Ti, Zr and Hf; x is an integer from 1 to 3; and n is an integer from 1 to 4. Compounds of the invention may be useful as precursors in chemical phase deposition processes such as atomic layer deposition (ALD), chemical vapour deposition (CVD), plasma assisted ALD and plasma assisted CVD. Methods of low temperature vapour phase deposition of metal oxide films, such as SiO2 films, are also provided.

  提供一类有机金属化合物。这些化合物的结构对应于公式1（A）x-M-(OR3)4-x，其中：A选自以下组：-NR1R2，-N（R4）（CH2）nN（R5R6），-N=C（NR4R5）（NR6R7），OCOR1，卤素和Y；R1和R2独立地选自以下组：H和具有1至8个碳原子的环状或非环状烷基，但必须满足R1和R2中至少有一个不是H；R4，R5，R6和R7独立地选自以下组：H和具有1至4个碳原子的非环状烷基；Y选自包含至少一个氮原子的3-至13元杂环基团；R3是具有1至6个碳原子的环状或非环状烷基；M选自Si，Ge，Sn，Ti，Zr和Hf；x是1至3的整数；n是1至4的整数。本发明的化合物可用作化学相沉积过程（如原子层沉积（ALD），化学气相沉积（CVD），等离子体辅助ALD和等离子体辅助CVD）中的前体。还提供了低温气相沉积金属氧化物薄膜（如SiO2薄膜）的方法。
• Kostyuk,A.S. et al., Journal of general chemistry of the USSR, 1970, vol. 40, p. 598 - 606
  作者：Kostyuk,A.S. et al.

  DOI：——

  日期：——
• 一种N，N-二乙基-三烷氧基硅基胺的合成方法
  申请人：江西晨光新材料股份有限公司

  公开号：CN117624215A

  公开（公告）日：2024-03-01

  本发明提供了一种N,N‑二乙基‑三烷氧基硅基胺的合成方法。该合成方法包括如下步骤：在氮气保护下，将二氯亚砜与正硅酸酯在50～70℃下，当体系中正硅酸酯含量不高于2wt％后，继续反应0.5h～1h，减压蒸馏至无气泡，降至室温，滴加二乙胺和溶剂，通过滴加速度控制料温不超过70℃。本发明提供的合成方法不需要使用四氯化硅进行酯化反应制备三烷氧基硅氯，无氯化氢释放，工艺简单，收率高。