(tris(trimethylsilyl)methyl)dimethylbromosilane | 72190-71-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: (tris(trimethylsilyl)methyl)dimethylbromosilane
• 英文别名: {[Bromo(dimethyl)silyl]methanetriyl}tris(trimethylsilane)；bromo-dimethyl-[tris(trimethylsilyl)methyl]silane
• CAS: 72190-71-7
• 化学式: C₁₂H₃₃BrSi₄
• 分子量: 369.64
• InChiKey: FASREWNEJSCFRC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  185.5±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.965±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.96
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (tris(trimethylsilyl)methyl)dimethylbromosilane 在 silver tetrafluoroborate 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 反应 48.0h， 生成 fluor-dimethyl-tris(trimethylsilyl)methyl-silan
  参考文献：
  名称：

  在溴化物（Me 3 Si）2（ZMe 2 Si）CSiMe 2 Br与AgBF 4的反应中，由γ-取代基Z（Z = MeO，PhO，MeS或PhS ）进行的邻位辅助

  摘要：

  制备了Z = PhO或MeS的新型有机硅溴化物（Me 3 Si）2（ZMe 2 Si）CSiMe 2 Br，并获得了先前报道的Z = H，F，Br，Me，Ph， MeO或PhS。通过19 F-NMR光谱法确定氟化物产物的比率，对成对的溴化物之间因Et 2 O中AgBF 4缺乏而产生的竞争导致了以下近似的溴化物相对反应性，因此也带来了相对能力该γ-Z组，以提供BR的邻位留下的援助-在这个反应中：我1；40岁；博士，3400; PhS，5000；MeS，7000；MeO，54000 。在CH 2 Cl 2的甲醇分解反应中，发现（Me 3 Si）2（MeOMe 2 Si）CSiMe 2 Cl的反应活性约为（Me 3 Si）2（PhOMe 2 Si）CSiMe的120倍。2 Cl。结果与先前可用信息的结合表明，在化合物（Me 3 Si）2（ZMe 2 Si）CSiMe 2 X：OCOMe中，Si-

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(01)01169-x
• 作为产物：
  描述：

  dimethyl[tris(trimethylsilyl)methyl]silane 在 溴 作用下， 以 四氯化碳 为溶剂， 生成 (tris(trimethylsilyl)methyl)dimethylbromosilane
  参考文献：
  名称：

  硅的三（三甲基硅烷基）甲基（“三烷基”）衍生物的制备

  摘要：

  用适当的卤化硅处理（Me 3 Si）3 CLi（“三基”锂，TsiLi）产生了一系列类型为（Me 3 Si）3 CSiRR'X的化合物。例如，TsiSiCl 3，TsiSiMeCl 2，TsiSiMe 2 X（X = Cl，OMe），TsiSiPh 2 X（X = F，Cl，OMe）和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻，因此（除非存在一个或多个氢化物配体）在硅上不会发生大多数常见的位移。但是，LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物，并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍，因此，例如，TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH（OMe）。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)87861-4

文献信息

• Preparation of tris(trimethylsilyl)methyl (“trisyl”) derivatives of silicon
  作者：Sujan S. Dua、Colin Eaborn、Duncan A.R. Harper、Steven P. Hopper、Kazem D. Safa、David R.M. Walton

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)87861-4

  日期：1979.9

  Treatment of (Me3Si)3CLi (“trisyl”lithium, TsiLi) with appropriate silicon halides has given a range of compounds of the type (Me3Si)3CSiRR′X; e.g., TsiSiCl3, TsiSiMeCl2, TsiSiMe2X (X = Cl, OMe), TsiSiPh2X (X = F, Cl, OMe), and TsiSiPhMeH. The trisyl group causes very large steric hindrance to nucleophilic displacements at the silicon to which it is attached, so that (unless one or more hydride ligands

  用适当的卤化硅处理（Me 3 Si）3 CLi（“三基”锂，TsiLi）产生了一系列类型为（Me 3 Si）3 CSiRR'X的化合物。例如，TsiSiCl 3，TsiSiMeCl 2，TsiSiMe 2 X（X = Cl，OMe），TsiSiPh 2 X（X = F，Cl，OMe）和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻，因此（除非存在一个或多个氢化物配体）在硅上不会发生大多数常见的位移。但是，LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物，并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍，因此，例如，TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH（OMe）。
• 1,3-Migration of a phenyl group in the conversion of (Me3Si)2(PhMe2Si)CSiMePhX into (Me3Si)2(Ph2MeSi)CSiMe2Y species
  作者：Colin Eaborn、Anna Kowalewska、Wlodzimierz Stanczyk

  DOI：10.1016/s0022-328x(97)00697-9

  日期：1998.6

  which the anchimerically-assisted departure of X− gives the Ph-bridged cation [(Me3Si)2MePh]+ which is attacked by the nucleophile at the less hindered centre bearing two Me groups rather than that bearing one Me and one Ph group, with the outcome determined by kinetic rather than thermodynamic factors. Both (Me3Si)2(Ph2MeSi)CSiMe2Br and its isomer (Me3Si)2(PhMe2Si)CSiMePhBr react with AgBF4 in CH2Cl2

  发现（Me 3 Si）2（PhMe 2 Si）CSiMePhX类型的化合物与亲电试剂反应生成非常主要的重排产物（Me 3 Si）2（Ph 2 MeSi）CSiMe 2 Y处境不利，可以在一个机构而言，其中X的anchimerically辅助出发合理化-使PH-桥接阳离子[（ME 3 Si）的2麦菲] +它在受阻较轻的中心由带有两个Me基团的亲核试剂攻击，而不是由带有一个Me和一个Ph基团的亲核试剂攻击，其结果由动力学而非热力学因素决定。（Me 3 Si）2（Ph 2 MeSi）CSiMe 2 Br及其异构体（Me 3 Si）2（PhMe 2 Si）CSiMePhBr均与AgBF 4在CH 2 Cl 2或Et 2 O中反应，得到95％以上的氟化物（Me 3 Si）2（Ph 2 MeSi）CSiMe 2 F.溴化物（Me 3 Si）2的反应（PhMe中2 Si）的CSiMePhBr用的AgO 2
• Reaction of tris(trimethylsilyl)methylsilicon halides with methanolic sodium methoxide. Probability of sila-olefin intermediates
  作者：Colin Eaborn、Duncan A.R Happer、Kazem D Safa

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)81064-5

  日期：1980.6

  compounds TsiSiR2X [Tsi = Me3Si)3C; R = Me, X = Cl, Br, I, or R = Ph, X = F, Cl, Br, I)] react with boiling 2 M MeONa-MeOH to give products of the type (Me3Si)2CHSiR2OMe. It is suggested that the reaction proceeds through an elimination, analogous to E2 eliminations of alkyl halides, involving synchronous attack of MeO− at an Me3Si group, liberation of X−, and formation of (Me3Si)2CSiR2. The compounds

  化合物TsiSiR 2 X [Tsi ＝ Me 3 Si）3 C; R = Me，X = Cl，Br，I，或R = Ph，X = F，Cl，Br，I）]与沸腾的2 M MeONa-MeOH反应，得到（Me 3 Si）2 CHSiR 2类型的产物OMe。有人建议，通过消除，类似于该反应进行ë 2所抵销烷基卤化物，涉及的MeO的同步攻击-在我3的Si基团，X的解放- ，和形成（ME 3 Si）的2 CSiR 2。化合物TsiSiPhMeF TsiSiPhCl 2类似地反应，得到（Me 3 Si）2 CHSiPhMe（OMe）和（Me 3 Si）2 CHSiPh（OMe）2 [后者可能是通过溶剂化最初形成的（Me 3 Si）2 CHSiPhCl（OMe）]。化合物TsiSiMe 2 OMe和TsiSiMe 3不反应，而TsiSiMe 2 H给出TsiH。化合物TsiSiCl 3与0.1 M M
• Reactions of the highly sterically hindered compounds (Me3Si)3CSiMe2X (X  Cl, Br, I, or ONO2) with NaN3, CsF, KSCN, and KOCN in MeOH
  作者：Yousef Y. El-Kaddar、Colin Eaborn、Paul D. Lickiss

  DOI：10.1016/0022-328x(93)80351-b

  日期：1993.11

  these side-products increases in the sequence (X ) I < Br < Cl, in line with the decreasing reactivity of the substrate towards the salts. With KOCN, the least reactive of the salts used, substantial amounts of the side-products are formed even from the reactions of the nitrate. The rough relative reactivities of 3, 2, 1, and 9 at 60°C are: 0.1/1.0/4.5/83 towards NaN3; 0.5/1.0/2.6/115 towards CsF; and

  硝酸盐TsiSiMe的反应2 ONO 2，9，（TSI（ME 3 Si）的3 C）与盐MY，的0.25M的溶液即。NaN 3，CsF和KSCN在MeOH中分别在45°C和60°C时给出相应的取代产物TsiSiMe 2 Y，但对于卤化物TsiSiMe 2 X，则X X I（1）为Br（2）或Cl（3）形成一些副产物，主要是碎片产物（Me 3 Si）2 CHSiMe 2-OMe; 这些副产物的比例按（X）I
• Reactions of (Me3Si)3CSiMe2R compounds (R = CHCH2 CH2CHCH2, CCPh, Ph, and CH2Ph) with electrophiles
  作者：Ramadan I. Damja、Colin Eaborn、Wing-Cheong Sham

  DOI：10.1016/0022-328x(85)80199-6

  日期：1985.8

  No products of addition to the multiple bond are formed in reactions of TsiSiMe2R species (Tsi = (Me3Si)3C; R = CHCH2, CH2CHCH2, or (CCPh) with halogens or hydrogen halides. TsiSiMe2CHCH2 gave (a) TsiSiMe2Cl on treatment with ICl in CCl4; (b) TsiSiMe2Br on treatment with Br2 in CCl4; (c) TsiSiMe2I (slowly) on treatment with I2 in CCl4 and (d) TsiSiMe2OCOCF3 on treatment with neat CF3CO2H. TsiSiMe2CH2CHCH2

  形成在TsiSiMe的反应除了多重键的没有产品2 - [R物种（TSI =（ME 3 Si）的3 C; R 1 =CHCH 2，CH 2 CHCH 2，或（CCPh）用卤素TsiSiMe 2 CH = CH 2产生（a）在CCl 4中用ICl处理的TsiSiMe 2 Cl ；（b）在CCl 4中用Br 2处理的TsiSiMe 2 Br ；（c）在TclSiMe 2 I（缓慢）用I 2在CCl 4和（d）TsiSiMe 2 OCOCF 3中进行处理上用纯CF治疗3 CO 2 H. TsiSiMe 2 CH 2 CHCH 2，得到：（1）TsiSiMe 2 Cl和TsiSiMe 2我与ICl的四氯化碳中处理4 ; （b）在CCl 4中用Br 2处理的TsiSiMe 2 Br ；（c）用CCl 2中的I 2处理的TsiSiMe 2 I ；及（d）TsiSiMe 2 OCOCF 3迅速上用纯CF治疗3