| 107396-35-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 乙炔化物
• CAS: 107396-35-0
• 化学式: C₂HSi
• 分子量: 53.1154
• InChiKey: MVWKWKAXTLNRQG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.79
• 重原子数：
  3.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  乙炔 在 silicon cation clusters 作用下， 生成
  参考文献：
  名称：

  使用傅里叶变换质谱研究硅阳离子团簇Sin +的气相反应

  摘要：

  DOI：

  10.1021/j100295a039

文献信息

• Laser vaporization /FTMS as a probe of silicon surface reactivity
  作者：William R. Creasy、Stephen W. McElvany

  DOI：10.1016/0039-6028(88)90597-3

  日期：1988.1

  relative intensities of product ions as a function of exposure are measured for some of the reagent gases. The results from laser vaporization/Fourier transform mass spectrometry (FTMS) are compared to studies of silicon surface reactions using other experimental techniques and to some secondary ion mass spectrometry (SIMS) results.

  摘要 将硅表面暴露于多种反应气体，然后进行激光汽化，除了会产生清洁硅表面典型的硅簇离子 (Si+n) 分布之外，还会产生异常离子。这些离子的出现与硅表面反应有关。已经研究了暴露于气体 NH3、XeF2、CF3I、O2、NO、CH3OH、H2O、C2H4、D2 和 CH4 后硅的激光汽化。对于某些反应气，测量了作为暴露函数的产物离子相对强度的变化。将激光汽化/傅里叶变换质谱 (FTMS) 的结果与使用其他实验技术的硅表面反应研究以及一些二次离子质谱 (SIMS) 结果进行比较。
• Wlodek; Fox; Bohme, Journal of the American Chemical Society, 1991, vol. 113, # 12, p. 4461 - 4468
  作者：Wlodek、Fox、Bohme

  DOI：——

  日期：——