본원에는 실리콘-기반 필름 및 조성물 및 이를 형성시키는 방법이 기술된다. 실리콘-기반 필름은 50 원자% 미만의 실리콘을 함유한다. 일 양태에서, 실리콘-기반 필름은 조성 SiCN를 가지며, 여기서 XPS로 측정하는 경우에, x는 약 0 내지 약 55 원자중량%이며, y는 약 35 내지 약 100 원자중량%이며, z는 약 0 내지 약 50 원자중량%이다. 다른 양태에서, 실리콘-기반 필름은 1,4-디실라펜탄과 같은 두 개의 실리콘 원자들, 적어도 하나의 Si-Me 기, 및 실리콘 원자들 사이의 에틸렌 또는 프로필렌 연결을 포함하는 적어도 하나의 오가노실리콘 전구체를 사용하여 증착된다.
本发明涉及一种基于
硅的薄膜和组合物及其制备方法。基于
硅的薄膜含有少于50个原子%的
硅。在一种形式中,基于
硅的薄膜具有SiCN组成,在此情况下,当通过XPS测量时,x约为0至约55原子重量%,y约为35至约100原子重量%,z约为0至约50原子重量%。在另一种形式中,基于
硅的薄膜是使用至少包含两个
硅原子,至少一个Si-Me基团和至少一个有机
硅前体,其中该有机
硅前体包含
硅原子之间的
乙烯或
丙烯连接的有机
硅前体沉积而成的,例如1,4-
二甲基戊烷。