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硅烷,氯乙烯基- | 1504-89-8

中文名称
硅烷,氯乙烯基-
中文别名
——
英文名称
vinyl silyl chloride
英文别名
vinyl chlorosilane;Chloro(ethenyl)silane;chloro(ethenyl)silane
硅烷,氯乙烯基-化学式
CAS
1504-89-8
化学式
C2H5ClSi
mdl
——
分子量
92.6002
InChiKey
DMZWVCJEOLBQCZ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 相关功能分类
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物化性质

  • 沸点:
    29.7±13.0 °C(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.45
  • 重原子数:
    4
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    0

SDS

SDS:a3d6f92dbc8a795c8b372c10a6301282
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反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    硅烷,氯乙烯基- 在 lithium aluminium deuteride 作用下, 以 二丁醚 为溶剂, 生成 Monodeuteriosilylethylen
    参考文献:
    名称:
    乙烯基硅烷的微波光谱;甲硅烷基的结构、偶极矩和内旋度
    摘要:
    摘要 对乙烯基硅烷及其十二种同位素取代物质的微波光谱进行了测量。分子的 rs 结构已根据观察到的惯性矩确定。正常和SiD 3 CHCH 2 物种的偶极矩由斯塔克效应测量确定,并讨论了分子中偶极矩的方向。从 5 个物种观察到的光谱的 A-E 分裂中,确定了甲壳素基团内部旋转的障碍。
    DOI:
    10.1016/0022-2860(82)80005-7
  • 作为产物:
    描述:
    乙烯基硅烷盐酸乙醚 作用下, 以 氘代苯 为溶剂, 反应 22.0h, 以100%的产率得到硅烷,氯乙烯基-
    参考文献:
    名称:
    Lewis碱催化的甲硅烷选择性氯化反应
    摘要:
    据报道,双官能甲硅烷R 2 SiHCl,RSiHCl 2和RSiH 2 Cl的制备容易,选择性高。通过氯化R 2 SiH 2和RSiH 3在浓盐酸/乙醚溶液中,Si-Cl键的逐步引入很容易受温度和反应时间的控制,适用于多种基材。在一项组合的实验和计算研究中,我们建立了一种新的Si-H键激活模式,该模式由路易斯碱(例如醚,胺,膦和氯离子)辅助。对基本反应机理的阐明表明,通过氢键网络的酒精辅助同样有效且具有选择性。值得注意的是,在中等反应条件下未观察到烷氧基硅烷或硅氧烷的形成。
    DOI:
    10.1002/chem.201803921
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文献信息

  • [EN] SYNTHESIS OF ORGANO CHLOROSILANES FROM ORGANOSILANES<br/>[FR] SYNTHÈSE D'ORGANO-CHLOROSILANES À PARTIR D'ORGANOSILANES
    申请人:MOMENTIVE PERFORMANCE MAT INC
    公开号:WO2019060475A3
    公开(公告)日:2019-05-02
  • Synthesis of disilylmethanes and polysilacarbosilanes, precursors of silicon carbide-based materials
    作者:Eric Bacqué、Marc Birot、Jean-Paul Pillot、Paulette Lapouyade、Pierre Gerval、Claude Biran、Jacques Dunoguès
    DOI:10.1016/0022-328x(96)06418-2
    日期:1996.8
    Using a new procedure, substituted disilylmethanes have been prepared from chlorosilanes, dichloromethane, and magnesium in tetrahydrofuran. Bis(chlorosilyl)methanes can be used as comonomers for the synthesis of polysilacarbosilanes, which are transformed into polycarbosilanes, precursors of silicon carbide.
  • HOSMANE, N. S.;CRADOCK, S.;EBSWORTH, E. A. V., INORG. CHIM. ACTA, 1983, 72, N 2, 181-186
    作者:HOSMANE, N. S.、CRADOCK, S.、EBSWORTH, E. A. V.
    DOI:——
    日期:——
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