trimethyl (1-(tributylstannyl)vinyl)silane | 121052-02-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: trimethyl (1-(tributylstannyl)vinyl)silane
• CAS: 121052-02-6
• 化学式: C₁₇H₃₈SiSn
• 分子量: 389.284
• InChiKey: FBCUHNOSKZBEEN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.33
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  三甲基乙炔基硅 、 三正丁基氢锡 在 cobalt(II) acetate 、 N-(2-(4,4-dimethyl-4,5-dihydrooxazol-2-yl)phenyl)quinoline-2-carboxamide 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以80 %的产率得到trimethyl (1-(tributylstannyl)vinyl)silane
  参考文献：
  名称：

  一种末端炔烃马氏锡氢化合成高区域选择性的α-烯基锡烷的方法

  摘要：

  本发明公开了一种末端炔烃马氏锡氢化合成高区域选择性的α‑烯基锡烷的方法：惰性气体保护下，式I所示的炔烃类化合物和式II所示的三取代氢化锡为原料，以钴盐CoY2作为金属盐催化剂，以酰胺噁唑啉作为配体，在有机溶剂中反应，制得式III所示的α‑烯基锡烷类化合物；反应式如下式所示。本发明方法使用廉价金属钴作为中心金属，非对称三齿含氮配体喹啉酰胺偕二甲基噁唑啉作为配体，配体简单易得，不需要预制备催化剂，利用金属盐和配体原位络合即可。反应所涉及的配体和金属盐对水、氧均不敏感，增加了该催化体系的实用性。本发明方法反应条件温和，操作简便，原子经济性高，且的产率比较优秀(44％‑>99％)，区域选择性高(≥97:3)，官能团兼容性优秀点。

  公开号：

  CN114853804A

文献信息

• Regioselective Hydrostannation of Terminal Acetylenes under Transition Metal Catalysis
  作者：Kiyoshi Kikukawa、Hideto Umekawa、Fumio Wada、Tsutomu Matsuda

  DOI：10.1246/cl.1988.881

  日期：1988.5.5

  Rhodium complexes (RhClL3, RhCl(CO)L2, [RhCl(COD)]2; L=PPh3) catalyze hydrostannation of terminal acetylenes (RC≡CH; R=Ph, Me3Si, R1OC(R2)(R3), and R1OCH2CH2; R1=THP, OAc; R1, R2=H, Me) with Bu3SnH to produce R(Bu3Sn)C=CH2 selectively. Other transition metal complexes [MCl2L2(M=Ni, Pd, Pt, Co)] are also active for the hydrostannation, but with less selectivity.

  铑配合物（RhClL3、RhCl(CO)L2、[RhCl(COD)]2；L=PPh3）催化末端乙炔（RC≡CH；R=Ph、Me3Si、R1OC(R2)(R3)和R1OCH2CH2； R1=THP, OAc; R1, R2=H, Me) 与 Bu3SnH 选择性地产生 R(Bu3Sn)C=CH2。其他过渡金属配合物 [MCl2L2(M=Ni, Pd, Pt, Co)] 也有利于氢化锡化，但选择性较低。
• ZHANG, H. X.;GUIBE, F.;BALAVOINE, G., J. ORG. CHEM., 55,(1990) N, C. 1857-1867
  作者：ZHANG, H. X.、GUIBE, F.、BALAVOINE, G.

  DOI：——

  日期：——
• KIKUKAWA, KIYOSHI;UMEKAWA, HIDETO;WADA, FUMIO;MATSUDA, TSUTOMU, CHEM. LETT.,(1988) N 5, 881-884
  作者：KIKUKAWA, KIYOSHI、UMEKAWA, HIDETO、WADA, FUMIO、MATSUDA, TSUTOMU

  DOI：——

  日期：——