(tris(trimethylsilyl)methyl)silyl acetate | 68260-18-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: (tris(trimethylsilyl)methyl)silyl acetate
• CAS: 68260-18-4
• 化学式: C₁₂H₃₂O₂Si₄
• 分子量: 320.727
• InChiKey: IFEMSGGLTNHAOB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.42
• 重原子数：
  18.0
• 可旋转键数：
  5.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  2.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  tris(trimethylsilyl)methylsilane 在 一氯化碘 作用下， 以 四氯化碳 、 溶剂黄146 为溶剂， 生成 (tris(trimethylsilyl)methyl)silyl acetate
  参考文献：
  名称：

  硅的三（三甲基硅烷基）甲基（“三烷基”）衍生物的制备

  摘要：

  用适当的卤化硅处理（Me 3 Si）3 CLi（“三基”锂，TsiLi）产生了一系列类型为（Me 3 Si）3 CSiRR'X的化合物。例如，TsiSiCl 3，TsiSiMeCl 2，TsiSiMe 2 X（X = Cl，OMe），TsiSiPh 2 X（X = F，Cl，OMe）和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻，因此（除非存在一个或多个氢化物配体）在硅上不会发生大多数常见的位移。但是，LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物，并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍，因此，例如，TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH（OMe）。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)87861-4

文献信息

• The unusual behaviour of tris[(trimethylsilyl)methyl]silicon compounds
  作者：Colin Eaborn、Duncan A.R. Happer、Kazem D. Safa、David R.M. Walton

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)91722-4

  日期：1978.9

  atom to which it is attached, and (Me3Si)3CSiMe2Cl is even less reactive than t-Bu3SiCl towards base. The compounds (Me3Si)3CSiMe2X (X = Cl, Br, or I) are cleaved by MeOH/MeONa to give (Me3Si)2CHSiMe2OMe, possibly via the silaolefin (Me3Si)2 CSiMe2, and the correspondLug (Me3Si)3 CSiPh2X compounds undergo the analogous reaction even more readily. The halides (Me3Si)3CSiR2X (X = Cl or Br) and (Me3Si)3CSiCl3

  （Me 3 Si）3 C基团对与其连接的硅原子上的亲核位移造成很大的空间位阻，并且（Me 3 Si）3 CSiMe 2 Cl对碱的反应性甚至比t-Bu 3 SiCl低。将化合物（Me 3 Si）3 CSiMe 2 X（X = Cl，Br或I）用MeOH / MeONa裂解，可能通过硅烯烃（Me 3 Si）2 C产生（Me 3 Si）2 CHSiMe 2 OMe SiMe 2，和correspondLug（ME 3 Si）的3 CSiPh 2X化合物甚至更容易经历类似的反应。卤化物（Me 3 Si）3 CSiR 2 X（X = Cl或Br）和（Me 3 Si）3 CSiCl 3不与沸腾的醇式硝酸银反应，但是碘化物（Me 3 Si）3 CSiR 2 I迅速被攻击。
• DUA S. S.; EABORN C.; HAPPER D. A. R.; HOPPER S. P.; SAFA K. D.; WALTON D+, J. ORGANOMETAL. CHEM., 1979, 178, NO 1, 75-82
  作者：DUA S. S.、 EABORN C.、 HAPPER D. A. R.、 HOPPER S. P.、 SAFA K. D.、 WALTON D+

  DOI：——

  日期：——