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(t-Bu)Sn(NMe2)2 | 52195-97-8

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
(t-Bu)Sn(NMe2)2
英文别名
Di-tert-butyl-stannyl-bis-(dimethylamin);Di-tert.-butylbis(dimethylamino)stannan;N-[ditert-butyl(dimethylamino)stannyl]-N-methylmethanamine
(t-Bu)Sn(NMe2)<sub>2</sub>化学式
CAS
52195-97-8
化学式
C12H30N2Sn
mdl
——
分子量
321.094
InChiKey
POYXZKRAMUWFIP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    90 °C(Press: 0.4 Torr)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.15
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    6.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    四(二甲氨基)锡叔丁基锂 作用下, 以 not given 为溶剂, 生成 (t-Bu)Sn(NMe2)2
    参考文献:
    名称:
    Synthese der ersten mono-t-butylzinnelementverbindungen
    摘要:
    DOI:
    10.1016/0022-328x(85)80287-4
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文献信息

  • [EN] ORGANOMETALLIC COMPOUNDS AND METHODS FOR THE DEPOSITION OF HIGH PURITY TIN OXIDE<br/>[FR] COMPOSÉS ORGANOMÉTALLIQUES ET PROCÉDÉS DE DÉPÔT D'OXYDE D'ÉTAIN DE HAUTE PURETÉ
    申请人:SEASTAR CHEMICALS INC
    公开号:WO2019023797A1
    公开(公告)日:2019-02-07
    Disclosed herein are compounds useful for the deposition of high purity tin oxide. Also disclose are methods for the deposition of tin oxide films using such compounds. Such films demonstrate high conformality, high etch selectivity and are optically transparent. Such compounds are those of the Formula as follows R x -Sn-A 4-x wherein: A is selected from the group consisting of (Y a R' z ) and a 3- to 7-membered N- containing heterocyclic group; each R group is independently selected from the group consisting of an alkyl or aryl group having from 1 to 10 carbon atoms; each R' group is independently selected from the group consisting of an alkyl, acyl or aryl group having from 1 to 10 carbon atoms; x is an integer from 0 to 4; a is an integer from 0 to 1; Y is selected from the group consisting of N, O, S, and P; and z is 1 when Y is O, S or when Y is absent and z is 2 when Y is N or P.
    本文揭示了用于沉积高纯度氧化的化合物。还披露了使用这些化合物进行氧化薄膜沉积的方法。这些薄膜表现出高一致性、高刻蚀选择性并具有光学透明性。这些化合物的化学式如下:Rx-Sn-A4-x,其中:A选自(YaR'z)和含有3至7个成员的含氮杂环基团的群;每个R基独立地选自具有1至10个碳原子的烷基或芳基群;每个R'基独立地选自具有1至10个碳原子的烷基、酰基或芳基群;x为0至4的整数;a为0至1的整数;Y选自N、O、S和P的群;z为1(当Y为O、S或Y不存在时)或z为2(当Y为N或P时)。
  • HAENSSGEN D.; POHL I., CHEM. BER., 1979, 112, NO 8, 2798-2803
    作者:HAENSSGEN D.、 POHL I.
    DOI:——
    日期:——
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