3-(4-methoxyphenyl)-2-methyl-4H-thiochromen-4-one | 1187758-46-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 硫色烯
• 英文名称: 3-(4-methoxyphenyl)-2-methyl-4H-thiochromen-4-one
• 英文别名: 3-(4-methoxyphenyl)-2-methylthiochromen-4-one
• CAS: 1187758-46-8
• 化学式: C₁₇H₁₄O₂S
• 分子量: 282.363
• InChiKey: MAZBDLATVUOMBS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  51.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-(4-methoxyphenyl)-2-methyl-4H-thiochromen-4-one 在 selenium(IV) oxide 作用下， 以 氯苯 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 2-(hydroxymethyl)-3-(4-methoxyphenyl)-4H-thiochromen-4-one
  参考文献：
  名称：

  PHOTODISSOCIABLE PROTECTIVE GROUP

  摘要：

  本发明提供了一种可以在温和条件下通过光照射去除的光敏保护基团。更具体地说，本发明提供了一种方法，包括通过光敏保护基团保护一个反应性功能团（例如，羟基、氨基、羧基、酮基、磷二酯基等），然后在中性条件下简单地通过光照射去除光敏保护基团。本发明涉及一种由公式（3）表示的化合物：其中Ar1是可选地取代的芳香或杂芳环，Ar2是可选地取代的芳基或杂芳基团，X是离去基团，n是1或2的整数；以及一种使用该化合物保护和解保护氨基等的方法。

  公开号：

  US20110028738A1
• 作为产物：
  描述：

  2-甲基-4H-1-苯并噻喃-4-酮 在 bis-triphenylphosphine-palladium(II) chloride cerium(IV)diammonium nitrate 、 碘 、 potassium carbonate 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 、 乙腈 为溶剂， 反应 8.0h， 生成 3-(4-methoxyphenyl)-2-methyl-4H-thiochromen-4-one
  参考文献：
  名称：

  PHOTODISSOCIABLE PROTECTIVE GROUP

  摘要：

  本发明提供了一种可以在温和条件下通过光照射去除的光敏保护基团。更具体地说，本发明提供了一种方法，包括通过光敏保护基团保护一个反应性功能团（例如，羟基、氨基、羧基、酮基、磷二酯基等），然后在中性条件下简单地通过光照射去除光敏保护基团。本发明涉及一种由公式（3）表示的化合物：其中Ar1是可选地取代的芳香或杂芳环，Ar2是可选地取代的芳基或杂芳基团，X是离去基团，n是1或2的整数；以及一种使用该化合物保护和解保护氨基等的方法。

  公开号：

  US20110028738A1

文献信息

• An efficient one-pot synthesis of indanone fused heterocyclic compounds via SeO2/FeCl3 promoted intramolecular Friedel-Craft acylation reaction
  作者：Huan Zhang、Qi Wang、Lu Huang、Ziye Tian、Shunguang Zhang、Youlai Zhang

  DOI：10.1016/j.tetlet.2021.153070

  日期：2021.5

  for generating indanone fused heterocyclic compounds which contains a unique tetracyclic isoflavone moiety was developed. This unprecedented one-pot route utilizes a wide spread of substrates through three-step tandem Riley oxidation/Friedel-Crafts reaction/oxidation with SeO2/FeCl3 in moderate yield. Moreover, some of the synthesized heterocyclic compounds have shown moderate anticancer activities

  茚满酮已显示出广泛的生物活性。开发了一种高效且直接的合成方法，用于生成包含独特的四环异黄酮部分的茚满酮稠合杂环化合物。这种前所未有的一锅法通过中等步骤的三步串联赖利氧化/弗里德尔-克来福特反应/ SeO 2 / FeCl 3氧化利用了广泛的底物。此外，一些合成的杂环化合物显示出中等的抗癌活性。
• Photodissociable protective group
  申请人：National University Corporation Nara Institute of Science and Technology

  公开号：US08222429B2

  公开（公告）日：2012-07-17

  The present invention provides a photolabile protecting group that can be removed by light irradiation under mild conditions. More specifically, the present invention provides a method comprising protecting a reactive functional group (e.g., a hydroxyl group, amino group, carboxyl group, carbonyl group, phosphodiester group, etc.) by the photolabile protecting group, and then removing the photolabile protecting group simply by light irradiation under neutral conditions. The present invention relates to a compound represented by Formula (3): wherein Ar1 is an optionally substituted aromatic or heteroaromatic ring, Ar2 is an optionally substituted aryl or heteroaryl group, X is a leaving group, and n is an integer of 1 or 2; and a method of protecting and deprotecting an amino group etc. using the compound.

  本发明提供了一种光敏保护基，可以在温和条件下通过光照辐射去除。更具体地说，本发明提供了一种方法，包括使用光敏保护基保护反应性官能团（例如，羟基、氨基、羧基、酮基、磷酸二酯基等），然后仅通过中性条件下的光照辐射去除光敏保护基。本发明涉及由式（3）表示的化合物：其中Ar1是可选择取代的芳香或杂芳环，Ar2是可选择取代的芳基或杂芳基团，X是离去基，n是1或2的整数；以及使用该化合物保护和去保护氨基等的方法。
• US8222429B2
  申请人：——

  公开号：US8222429B2

  公开（公告）日：2012-07-17
• PHOTODISSOCIABLE PROTECTIVE GROUP
  申请人：Kakiuchi Kiyomi

  公开号：US20110028738A1

  公开（公告）日：2011-02-03

  The present invention provides a photolabile protecting group that can be removed by light irradiation under mild conditions. More specifically, the present invention provides a method comprising protecting a reactive functional group (e.g., a hydroxyl group, amino group, carboxyl group, carbonyl group, phosphodiester group, etc.) by the photolabile protecting group, and then removing the photolabile protecting group simply by light irradiation under neutral conditions. The present invention relates to a compound represented by Formula (3): wherein Ar 1 is an optionally substituted aromatic or heteroaromatic ring, Ar 2 is an optionally substituted aryl or heteroaryl group, X is a leaving group, and n is an integer of 1 or 2; and a method of protecting and deprotecting an amino group etc. using the compound.

  本发明提供了一种可以在温和条件下通过光照射去除的光敏保护基团。更具体地说，本发明提供了一种方法，包括通过光敏保护基团保护一个反应性功能团（例如，羟基、氨基、羧基、酮基、磷二酯基等），然后在中性条件下简单地通过光照射去除光敏保护基团。本发明涉及一种由公式（3）表示的化合物：其中Ar1是可选地取代的芳香或杂芳环，Ar2是可选地取代的芳基或杂芳基团，X是离去基团，n是1或2的整数；以及一种使用该化合物保护和解保护氨基等的方法。