3-(trimethoxysilyl)propyl vinyl thioether | 63823-06-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: 3-(trimethoxysilyl)propyl vinyl thioether
• 英文别名: 3-(Vinylthio)propyltrimethoxysilane；3-ethenylsulfanylpropyl(trimethoxy)silane
• CAS: 63823-06-3
• 化学式: C₈H₁₈O₃SSi
• 分子量: 222.381
• InChiKey: XIOWFGAZSNMDKS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.13
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  53
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-乙烯基亚磺酰乙烯 、 巯丙基三甲氧基硅烷 在 sodium methylate 作用下， 生成 3-(trimethoxysilyl)propyl vinyl thioether
  参考文献：
  名称：

  Divinyl sulfoxide II. Vinylation and vinylsulfinylation of triorganylsilylalkanethiols by divinyl sulfoxide

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00955301

文献信息

• Preparation of silicon-containing vinyl ethers and vinyl thioethers
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：US05587503A1

  公开（公告）日：1996-12-24

  Process for preparing silicon-containing vinyl ethers and vinyl thioethers of the general formula I ##STR1## where the variables have the following meanings: X is oxygen or sulfur, R.sup.1 is C.sub.1 -C.sub.20 -alkylene, C.sub.3 -C.sub.12 -cycloalkylene or C.sub.6 -C.sub.10 -arylene, R.sup.2, R.sup.3 and R.sup.4 are hydrogen, C.sub.1 -C.sub.20 -alkyl, C.sub.3 -C.sub.12 -cycloalkyl, C.sub.1 -C.sub.12 -alkoxy, phenoxy, heteroaryl or together with R.sup.1 form a C.sub.3 -C.sub.12 -cycle, by reaction of silicon-containing alcohols or thiols of the general formula II ##STR2## where the variables have the meaning indicated above, with acetylene, by carrying out the reaction in phenyl methyl sulfoxide, dimethyl sulfoxide, sulfolane or hexamethylphosphoramide in the presence of an alkali metal hydroxide.

  制备含硅基的通式I的乙烯基醚和乙硫基醚的过程，其中变量的含义如下：X为氧或硫，R1为C1-C20-烷基，C3-C12-环烷基或C6-C10-芳基，R2、R3和R4为氢，C1-C20-烷基，C3-C12-环烷基，C1-C12-烷氧基，苯氧基，杂环芳基或与R1一起形成C3-C12-环。通过将通式II的含硅醇或硫醇（其中变量的含义如上所述）与乙炔反应，在苯甲基亚磺酰甲烷，二甲基亚磺酰甲烷，磺缩醛或六甲基膦酰胺存在碱性金属氢氧化物的情况下进行反应。
• BOPOHKOB M. G.; VLASOVA N. N.; KLETSKO F. P.; GUSAROVA N. K.; EFREMOVA G.+, IZV. AN CCCP. CEP. XIM., 1981, HO 5, 1104-1108
  作者：BOPOHKOB M. G.、 VLASOVA N. N.、 KLETSKO F. P.、 GUSAROVA N. K.、 EFREMOVA G.+

  DOI：——

  日期：——