dimethyltetrahydridodisilane | 16342-86-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: dimethyltetrahydridodisilane
• 英文别名: 1,1-Dimethyl-disilan；dimethaneyldisilane；dimethyldisilane；Dimethyl(silyl)silane
• CAS: 16342-86-2
• 化学式: C₂H₁₀Si₂
• 分子量: 90.2724
• InChiKey: UCMVNBCLTOOHMN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  40.6±23.0 °C(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.66
• 重原子数：
  4
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  dimethylsilylene 在 硅烷 作用下， 生成 dimethyltetrahydridodisilane
  参考文献：
  名称：

  时间分辨研究甲基亚甲硅烷基与硅烷和甲基硅烷的气相反应的温度依赖性

  摘要：

  业已发现，气相1,2-二甲基乙硅烷的193 nm激光闪光光解能在454-515 nm波长范围内提供宽带吸收，这可能是由于瞬态物质甲基亚甲硅烷基MeSiH所致。通过进行标题研究，对MeSiH进行了首次直接动力学研究，获得了MeSiH与SiH 4，MeSiH 3，Me 2 SiH 2和Me 3 SiH在温度范围为360-580的反应的二级速率常数。K.反应很快，但显示出负活化能，从SiH 4的–7.5 kJ mol –1增加到Me 3的–18.4 kJ mol –1。SiH。数据被解释为是通过一个中间复合物进行的，该中间复合物的重排在较高温度下决定了速率。MeSiH与其他甲硅烷基的反应活性的比较揭示了这些配合物的甲基取代基作用的一般模式。结合从头算理论（对于SiH 2与SiH 4的反应），这些表明亲电相互作用可能先于亲核相互作用，尽管后者在速率确定（第二步）对于两个MeSiH的插入反应均很重要和SiMe

  DOI：

  10.1039/ft9938900411

文献信息

• Preparation of oligosilanes containing perhalogenated silyl groups and their hydrogenation by stannanes
  作者：U. Herzog、G. Roewer

  DOI：10.1016/s0022-328x(97)00323-9

  日期：1997.10

  SiX3-SiXiMe3−i (i = 0, 1, 2; X = Cl, Br), trisilanes SiX2(SiXiMe3−i) (i = 0, 1) and branched tetrasilanes SiX(SiXMe2)3 were synthesized and their behavior towards the Lewis-base catalyzed hydrogenation by stannanes was investigated. In the case of methylchlorodisilanes SiCl3-SiCliMe3−i Si-Si bond cleavage competes with the hydrogenation reaction.

  从methylphenylsubstituted低聚的乙硅烷起始的SiX 3 -SiX我我3-我（我= 0，1，2; X =氯，溴），三硅烷的SiX 2（SIX我我3-我）（我= 0，1）和合成了支链四硅烷SiX（SiXMe 2）3，研究了它们对锡烷对路易斯碱催化加氢反应的行为。在methylchlorodisilanes的SiCl的情况下3 -SiCl我我3-我与氢化反应的Si-Si键裂解竞争。
• Chemistry of atomic silicon. III. Reactions of electron bombardment produced silicon vapor with silanes
  作者：Philip S. Skell、Peter W. Owen

  DOI：10.1021/ja00770a046

  日期：1972.7
• Time-resolved studies of the temperature dependence of the gas-phase reactions of methylsilylene with silane and the methylsilanes
  作者：Rosa Becerra、H. Monty Frey、Ben P. Mason、Robin Walsh

  DOI：10.1039/ft9938900411

  日期：——

  initio theory (for the reaction of SiH2 with SiH4) these show that the electrophilic interaction probably precedes the nucleophilic interaction, although the latter is important in the rate-determining (second) step for the insertion reactions of both MeSiH and SiMe2. Combination of MeSiH insertion rate constants with the reverse unimolecular decomposition rate constants of the product disilanes enable the

  业已发现，气相1,2-二甲基乙硅烷的193 nm激光闪光光解能在454-515 nm波长范围内提供宽带吸收，这可能是由于瞬态物质甲基亚甲硅烷基MeSiH所致。通过进行标题研究，对MeSiH进行了首次直接动力学研究，获得了MeSiH与SiH 4，MeSiH 3，Me 2 SiH 2和Me 3 SiH在温度范围为360-580的反应的二级速率常数。K.反应很快，但显示出负活化能，从SiH 4的–7.5 kJ mol –1增加到Me 3的–18.4 kJ mol –1。SiH。数据被解释为是通过一个中间复合物进行的，该中间复合物的重排在较高温度下决定了速率。MeSiH与其他甲硅烷基的反应活性的比较揭示了这些配合物的甲基取代基作用的一般模式。结合从头算理论（对于SiH 2与SiH 4的反应），这些表明亲电相互作用可能先于亲核相互作用，尽管后者在速率确定（第二步）对于两个MeSiH的插入反应均很重要和SiMe