3,3'-bis(dimethoxymethylsilyl)propyl ether | 31678-94-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: 3,3'-bis(dimethoxymethylsilyl)propyl ether
• 英文别名: 3-[3-[Dimethoxy(methyl)silyl]propoxy]propyl-dimethoxy-methylsilane；3-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propoxy]propyl-dimethoxy-methylsilane
• CAS: 31678-94-1
• 化学式: C₁₂H₃₀O₅Si₂
• 分子量: 310.538
• InChiKey: YKURPAZSWVFGNK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.51
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  46.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  烯丙基醚 、 甲基二甲氧基硅烷 在 dihydrogen hexachloroplatinate 作用下， 以 正丁醇 为溶剂， 生成 3,3'-bis(dimethoxymethylsilyl)propyl ether
  参考文献：
  名称：

  ORGANIC SILANE COMPOUND FOR FORMING SI-CONTAINING FILM BY PLASMA CVD AND METHOD FOR FORMING SI-CONTAINING FILM

  摘要：

  提供了一种有机硅烷化合物，用于通过等离子体CVD形成含硅膜。该硅烷化合物包含2个或更多硅原子，由介于直链或分支氧含量碳氢链之间的键合而成，其中含有一个由Cp-O-Cq表示的键，其中p和q独立地表示碳原子数，但须满足2≦p≦6和2≦q≦6，且碳链不含有与氧原子共轭的不饱和键，其中所有的2个或更多硅原子具有1个或更多氢原子或具有1到4个碳原子的烷氧基团。

  公开号：

  US20100137626A1

文献信息

• ORGANIC SILANE COMPOUND FOR FORMING SI-CONTAINING FILM BY PLASMA CVD AND METHOD FOR FORMING SI-CONTAINING FILM
  申请人：Hamada Yoshitaka

  公开号：US20100137626A1

  公开（公告）日：2010-06-03

  An organic silane compound for forming a Si-containing film by plasma CVD is provided. The silane compound contains 2 or more silicon atoms bonded by an intervening straight chain or branched oxygen-containing hydrocarbon chain having 4 to 8 carbon atoms containing a bond represented by C p —O—C q wherein p and q independently represent number of carbon atoms with the proviso that 2≦p≦6 and 2≦q≦6 and the carbon chains do not contain an unsaturated bond which conjugates with the oxygen atom, wherein all of the 2 or more silicon atoms has 1 or more hydrogen atom or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.

  提供了一种有机硅烷化合物，用于通过等离子体CVD形成含硅膜。该硅烷化合物包含2个或更多硅原子，由介于直链或分支氧含量碳氢链之间的键合而成，其中含有一个由Cp-O-Cq表示的键，其中p和q独立地表示碳原子数，但须满足2≦p≦6和2≦q≦6，且碳链不含有与氧原子共轭的不饱和键，其中所有的2个或更多硅原子具有1个或更多氢原子或具有1到4个碳原子的烷氧基团。