Gas-phase reaction of silyl and trimethylsilyl anions. The formation of silicon-oxygen and silicon-sulfur bonds. A flowing afterglow and ab initio study
作者:John C. Sheldon、John H. Bowie、Charles H. DePuy、Robert. Damrauer
DOI:10.1021/ja00281a055
日期:1986.10
Les ions H 3 Si − et Me 3 Si − reagissent avec CO 2 , COS, CS 2 , SO 2 , N 2 O, MeNCO et MeNCS formant H 3 SiO − , Me 3 SiO − , Me 3 SiO − , H 3 SiS − ou Me 3 SiS − . Cinetique
Les 离子 H 3 Si - et Me 3 Si - reagissent CO 2 , COS, CS 2 , SO 2 , N 2 O, MeNCO et MeNCS共振峰 H 3 SiO - , Me 3 SiO - , Me 3 SiO - , H 3 SiS - ou Me 3 SiS - 。电影