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2-(1-tert-butoxycarbonylpiperidin-2-yl)ethyl 5-norbornene-2,3-dicarboxylate | 334786-08-2

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2-(1-tert-butoxycarbonylpiperidin-2-yl)ethyl 5-norbornene-2,3-dicarboxylate
英文别名
Bis[2-[1-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonyl]piperidin-2-yl]ethyl] bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylate
2-(1-tert-butoxycarbonylpiperidin-2-yl)ethyl 5-norbornene-2,3-dicarboxylate化学式
CAS
334786-08-2
化学式
C33H52N2O8
mdl
——
分子量
604.784
InChiKey
ZRYSSMRCVRKQBM-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5.3
  • 重原子数:
    43
  • 可旋转键数:
    14
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.82
  • 拓扑面积:
    112
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    8

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    tert-butyl 2-(1-hydroxyethyl)piperidine-1-carboxylate 、 5-降冰片烯-2,3-二羧酸氯化亚砜三乙胺 作用下, 以72%的产率得到2-(1-tert-butoxycarbonylpiperidin-2-yl)ethyl 5-norbornene-2,3-dicarboxylate
    参考文献:
    名称:
    Novel photoresist monomer, polymer thereof and photoresist composition containing it
    摘要:
    本发明提供了新型的双环光刻单体和由其衍生的光刻共聚物。本发明的双环光刻单体包含氨基官能团和酸敏保护基,并由公式1表示:其中,m、n、R、V和B的定义如本文所述。本发明的光刻共聚物组成的光刻组合物具有优异的蚀刻抗性和耐热性,并且具有显著提高的后曝光延迟稳定性(PED稳定性)。
    公开号:
    US20020151666A1
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文献信息

  • US6448352B1
    申请人:——
    公开号:US6448352B1
    公开(公告)日:2002-09-10
  • US6531562B2
    申请人:——
    公开号:US6531562B2
    公开(公告)日:2003-03-11
  • Novel photoresist monomer, polymer thereof and photoresist composition containing it
    申请人:Hyundai Electronics Industries Co., Ltd.
    公开号:US20020151666A1
    公开(公告)日:2002-10-17
    The present invention provides novel bicyclic photoresist monomers, and photoresist copolymer derived from the same. The bicyclic photoresist monomers of the present invention comprise both amine functional group and acid labile protecting group, and are represented by the formula: 1 where m, n, R, V and B are those defined herein. The photoresist composition comprising the photoresist copolymer of the present invention has excellent etching resistance and heat resistance, and remarkably enhanced PED stability (post exposure delay stability).
    本发明提供了新型的双环光刻单体和由其衍生的光刻共聚物。本发明的双环光刻单体包含氨基官能团和酸敏保护基,并由公式1表示:其中,m、n、R、V和B的定义如本文所述。本发明的光刻共聚物组成的光刻组合物具有优异的蚀刻抗性和耐热性,并且具有显著提高的后曝光延迟稳定性(PED稳定性)。
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