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4-(1H-pyrrolo[2,3-b]pyridin-4-yl)piperazine-1-carboxylic acid

中文名称
——
中文别名
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英文名称
4-(1H-pyrrolo[2,3-b]pyridin-4-yl)piperazine-1-carboxylic acid
英文别名
——
4-(1H-pyrrolo[2,3-b]pyridin-4-yl)piperazine-1-carboxylic acid化学式
CAS
——
化学式
C12H14N4O2
mdl
——
分子量
246.27
InChiKey
RZGOLUREZYNJAF-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.8
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.33
  • 拓扑面积:
    72.5
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    4

文献信息

  • [EN] NOVEL AZAINDOLE DERIVATIVES AS SELECTIVE HISTONE DEACETYLASE (HDAC) INHIBITORS AND PHARMACEUTICAL COMPOSITIONS COMPRISING THE SAME<br/>[FR] NOUVEAUX DÉRIVÉS AZAINDOLE COMME INHIBITEURS SÉLECTIFS DE L'HISTONE DÉSACÉTYLASE (HDAC) ET COMPOSITIONS PHARMACEUTIQUES LES COMPRENANT
    申请人:CHONG KUN DANG PHARM CORP
    公开号:WO2015087151A1
    公开(公告)日:2015-06-18
    The present invention relates to novel azaindole derivatives, and more particularly, to novel azaindole derivatives having histone deacetylase (HDAC) inhibitory activity, isomers thereof, pharmaceutically acceptable salts thereof, hydrates thereof or solvates thereof, the use thereof for the preparation of pharmaceutical compositions, pharmaceutical compositions containing the same, a method of treating disease using the pharmaceutical compositions, and methods for preparing the novel azaindole derivatives. The novel azaindole derivatives according to the present invention are selective histone deacetylase (HDAC) inhibitors, and may be used as agents for treating malignant tumor diseases, inflammatory diseases, rheumatoid arthritis, and neurodegenerative diseases.
    本发明涉及新型的吖吲哚生物,特别是具有组蛋白去乙酰化酶(HDAC)抑制活性的新型吖吲哚生物,其异构体,药用可接受的盐,合物或溶剂化物,以及它们用于制备药物组合物的用途,包含同一的药物组合物,使用该药物组合物治疗疾病的方法,以及制备新型吖吲哚生物的方法。根据本发明的吖吲哚生物是选择性的组蛋白去乙酰化酶(HDAC抑制剂,可用作治疗恶性肿瘤疾病,炎症性疾病,类风湿性关节炎和神经退行性疾病的治疗剂。
  • Chemical mechanical planarization for tungsten-containing substrates
    申请人:AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
    公开号:EP2779217A2
    公开(公告)日:2014-09-17
    Chemical mechanical polishing (CMP) compositions for polishing tungsten or tungsten-containing substrates comprise an abrasive, at least one solid catalyst, a chemical additive selected from the groups consisting of piperazine derivatives, salts of cyanate, and combinations thereof; and a liquid carrier. Systems and processes use the aqueous formulations for polishing tungsten or tungsten-containing substrates.
    用于抛光或含基材的化学机械抛光(CMP)组合物包括磨料、至少一种固体催化剂、一种选自哌嗪生物氰酸盐及其组合的化学添加剂;以及一种液体载体。系统和工艺使用性制剂抛光或含基材。
  • NOVEL AZAINDOLE DERIVATIVES AS SELECTIVE HISTONE DEACETYLASE (HDAC) INHIBITORS AND PHARMACEUTICAL COMPOSITIONS COMPRISING THE SAME
    申请人:Chong Kun Dang Pharmaceutical Corp.
    公开号:EP3080125A1
    公开(公告)日:2016-10-19
  • US20140273458A1
    申请人:——
    公开号:US20140273458A1
    公开(公告)日:2014-09-18
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