oxosilanylium | 66106-76-1

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属有机物
• 英文名称: oxosilanylium
• CAS: 66106-76-1
• 化学式: HOSi
• 分子量: 45.0928
• InChiKey: LWQIHOOKTKPELX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  None
• 重原子数：
  None
• 可旋转键数：
  None
• 环数：
  None
• sp3杂化的碳原子比例：
  None
• 拓扑面积：
  None
• 氢给体数：
  None
• 氢受体数：
  None

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  silicon(1+) monohydride 、 一氧化二氮 以 gas 为溶剂， 生成 oxosilanylium
  参考文献：
  名称：

  通过气相化学反应形成高能异构体HSiO +

  摘要：

  高能量异构体HSIO +质子化的SiO已经通过的SiH之间的快速O型原子转移反应产生的+和N 2在0.35乇○在氦气和氢气缓冲气体和HSIO的295±2 K.形成+由O-原子转移与基态SiOH +异构体的形成竞争，这在形式上是一种插入反应。SiH +与CO 2和SO 2的反应中还观察到其他插入反应。从顺序的O原子转移和HSiO +到SiOH +的异构化方面考虑，合理的插入机理在中间配合物中，当初始O原子转移中有足够的过量能量时，异构化可通过配合物中的质子穿梭或单分子实现。在实验的操作条件下，高能异构体HSiO +不会通过与H 2反应而转化为SiOH +。

  DOI：

  10.1016/0009-2614(91)80297-b

文献信息

• Selected ion flow drift tube studies of the reactions of Si⁺(²P) with HCl, H₂O, H₂S, and NH₃: Reactions which produce atomic hydrogen
  作者：J. Glosík、P. Zakouřil、W. Lindinger

  DOI：10.1063/1.470375

  日期：1995.10.15

  The reaction rate coefficients, k, for the reactions of ground-state Si+(2P) with HCl, H2O, H2S, and NH3, have been measured as a function of reactant ion/reactant neutral center-of-mass kinetic energy, KECM, in a selected ion flow drift tube (SIFDT) apparatus, operated with helium at a temperature 298±2 K. The values k of the studied reactions have very pronounced, negative energy dependencies; the rate coefficients decrease by about 1 order of magnitude as KECM increase from near thermal values to ∼2 eV. The results are interpreted in terms of a simple model assuming the reactions to proceed via the formation of long-lived complexes. These intermediate complexes decompose back to reactants or forward to products, the unimolecular decomposition rate coefficients for these reactions being k1 and k2, respectively. It is found that a power law of the form k−1/k2=const(KECM)m closely describes each reaction.
• Formation of the high-energy isomer HSiO+ by chemical reaction in the gas phase
  作者：Arnold Fox、Diethard K. Bohme

  DOI：10.1016/0009-2614(91)80297-b

  日期：1991.12

  high-energy isomer HSiO+ of protonated SiO has been generated by a fast O-atom transfer reaction between SiH+ and N2O in helium and hydrogen buffer gases at 0.35 Torr and 295±2 K. Formation of HSiO+ by O-atom transfer proceeds in competition with formation of the ground-state SiOH+ isomer, which is formally an insertion reaction. Other insertion reactions were observed in the reactions of SiH+ with

  高能量异构体HSIO +质子化的SiO已经通过的SiH之间的快速O型原子转移反应产生的+和N 2在0.35乇○在氦气和氢气缓冲气体和HSIO的295±2 K.形成+由O-原子转移与基态SiOH +异构体的形成竞争，这在形式上是一种插入反应。SiH +与CO 2和SO 2的反应中还观察到其他插入反应。从顺序的O原子转移和HSiO +到SiOH +的异构化方面考虑，合理的插入机理在中间配合物中，当初始O原子转移中有足够的过量能量时，异构化可通过配合物中的质子穿梭或单分子实现。在实验的操作条件下，高能异构体HSiO +不会通过与H 2反应而转化为SiOH +。