摩熵化学
数据库官网
小程序
打开微信扫一扫
首页 分子通 化学资讯 化学百科 反应查询 关于我们
请输入关键词

Labotest-BB LT00007836 | 387360-45-4

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
Labotest-BB LT00007836
英文别名
1,2-bis[4-(4-fluorophenyl)piperazin-1-yl]ethane-1,2-dione
Labotest-BB LT00007836化学式
CAS
387360-45-4
化学式
C22H24F2N4O2
mdl
——
分子量
414.4
InChiKey
SUFZRFPHCKURNS-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3
  • 重原子数:
    30
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.36
  • 拓扑面积:
    47.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

文献信息

  • Chemical mechanical planarization for tungsten-containing substrates
    申请人:AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
    公开号:EP2779217A2
    公开(公告)日:2014-09-17
    Chemical mechanical polishing (CMP) compositions for polishing tungsten or tungsten-containing substrates comprise an abrasive, at least one solid catalyst, a chemical additive selected from the groups consisting of piperazine derivatives, salts of cyanate, and combinations thereof; and a liquid carrier. Systems and processes use the aqueous formulations for polishing tungsten or tungsten-containing substrates.
    用于抛光钨或含钨基材的化学机械抛光(CMP)组合物包括磨料、至少一种固体催化剂、一种选自哌嗪衍生物、氰酸盐及其组合的化学添加剂;以及一种液体载体。系统和工艺使用水性制剂抛光钨或含钨基材。
  • US20140273458A1
    申请人:——
    公开号:US20140273458A1
    公开(公告)日:2014-09-18
查看更多