1-Cyclohexyl-4-(methylsulfonyl)piperazine

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 二嗪烷类
• 英文名称: 1-Cyclohexyl-4-(methylsulfonyl)piperazine
• 英文别名: 1-cyclohexyl-4-methylsulfonylpiperazine
• 化学式: C₁₁H₂₂N₂O₂S
• 分子量: 246.37
• InChiKey: NCYLXMCNJYVWRX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  49
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

文献信息

• Bicyclische Heterocyclen, diese Verbindungen enthaltende Arzneimittel,deren Verwendung und Verfahren zu ihrer Herstellung
  申请人：Boehringer Ingelheim Pharma GmbH & Co. KG

  公开号：EP1956010A1

  公开（公告）日：2008-08-13

  Die vorliegende Erfindung betrifft bicyclische Heterocyclen der allgemeinen Formel in der Ra, Rb und Rc wie im Anspruch 1 definiert sind, deren Tautomere, deren Stereoisomere, deren Gemische und deren Salze, insbesondere deren physiologisch verträgliche Salze mit anorganischen oder organischen Säuren oder Basen, welche wertvolle pharmakologische Eigenschaften aufweisen, insbesondere eine Hemmwirkung auf die durch Tyrosinkinasen vermittelte Signaltransduktion, deren Verwendung zur Behandlung von Krankheiten, insbesondere von Tumorerkrankungen sowie der benignen Prostatahyperplasie (BPH), von Erkrankungen der Lunge und der Atemwege und deren Herstellung.

  本发明涉及通式如下的双环杂环 其中 Ra、Rb 和 Rc 如权利要求 1 所定义，它们的同分异构体、立体异构体、混合物和盐，特别是它们与无机酸或有机酸或碱的生理相容盐，它们具有重要的药理特性，特别是对酪氨酸激酶介导的信号转导的抑制作用，可用于治疗疾病，特别是肿瘤疾病和良性前列腺增生症（BPH）、肺部和呼吸道疾病，以及它们的制备。
• Chemical mechanical planarization for tungsten-containing substrates
  申请人：AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.

  公开号：EP2779217A2

  公开（公告）日：2014-09-17

  Chemical mechanical polishing (CMP) compositions for polishing tungsten or tungsten-containing substrates comprise an abrasive, at least one solid catalyst, a chemical additive selected from the groups consisting of piperazine derivatives, salts of cyanate, and combinations thereof; and a liquid carrier. Systems and processes use the aqueous formulations for polishing tungsten or tungsten-containing substrates.

  用于抛光钨或含钨基材的化学机械抛光（CMP）组合物包括磨料、至少一种固体催化剂、一种选自哌嗪衍生物、氰酸盐及其组合的化学添加剂；以及一种液体载体。系统和工艺使用水性制剂抛光钨或含钨基材。