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1-ethylisothiochroman-4-one | 91452-10-7

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1-ethylisothiochroman-4-one
英文别名
1-ethyl-1H-isothiochromen-4-one
1-ethylisothiochroman-4-one化学式
CAS
91452-10-7
化学式
C11H12OS
mdl
——
分子量
192.282
InChiKey
ISGSCJLCAWADAH-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.9
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.36
  • 拓扑面积:
    42.4
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1-ethylisothiochroman-4-one间氯过氧苯甲酸 生成 (1R,2R)-1-ethyl-2-oxo-1H-isothiochromen-4-one
    参考文献:
    名称:
    TAMURA, YASUMITSU;UENISHI, JUN-ICHI;ISHIBASHI, HIROYUKI, CHEM. AND PHARM. BULL., 1984, 32, N 3, 945-949
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    isothiochroman-4-one 2-oxide正丁基锂 、 titanium(III) chloride 作用下, 以 甲醇 为溶剂, 反应 0.67h, 生成 1-ethylisothiochroman-4-one
    参考文献:
    名称:
    Tamura, Yasumitsu; Uenishi, Jun-ichi; Ishibashi, Hiroyuki, Chemical and pharmaceutical bulletin, 1984, vol. 32, # 2, p. 945 - 949
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • COMPOSITION SILICONE UTILE NOTAMMENT POUR LA REALISATION DE VERNIS ANTI-FRICTION, PROCEDE D'APPLICATION DE CE VERNIS SUR UN SUPPORT ET SUPPORT AINSI TRAITE
    申请人:Rhodia Chimie
    公开号:EP1173505A1
    公开(公告)日:2002-01-23
  • [EN] USE FOR STEREOSCOPIC PHOTOLITHOGRAPHY OF A LIQUID COMPOSITION CROSS-LINKABLE BY IRRADIATION USING A CATION COMPRISING A PHOTOINITIATOR OF THE ONIUM SALTS OR OF ORGANOMETALLIC COMPLEX TYPE<br/>[FR] UTILISATION POUR LA STEREOPHOTOLITHOGRAPHIE D'UNE COMPOSITION LIQUIDE PHOTORETICULABLE PAR VOIE CATIONIQUE COMPRENANT UN PHOTOAMORCEUR DU TYPE SELS D'ONIUM OU DE COMPLEXES ORGANOMETALLIQUES
    申请人:RHODIA CHIMIE
    公开号:WO1998028663A1
    公开(公告)日:1998-07-02
    (EN) The invention concerns LASER stereoscopic photolithography (SPL) from a liquid resin precursor, cross-linkable by cationic process, under actinic activation. The aim of the invention is the improvement of known SPL resins ( decrease of volume shrinkage, lower initial viscosity for the resin, optimisation of the mechanical properties of the objects shaped by SPL). To achieve this aim, the invention proposes the use of specifically selected photoinitiators, of the onium borate type, 1) and/or oxoisothiochromanium 2) and/or monosulphonium or polysulphonium 3) and/or organometallic complexes 4) combined, for example, with polydimethylsiloxanes functionalised by groups cross-linkable by cationic process of the epoxy type, under UV LASER. These borates contain fluorosubstituted phenyls. The invention also concerns the corresponding method for making objects by SPL, as well as the liquid composition for initiating the implementation. The invention is applicable to phototype.(FR) La présente invention concerne la stéréophotolithographie (SPL) LASER à partir d'une résine liquide précurseur, réticulable par voie cationique, sous activation actinique. Le but de l'invention est l'amélioration des résines SPL connues (diminution du retrait volumique, plus faible viscosité initiale pour la résine, optimisation des propriétés mécaniques des objets façonnés par SPL). Pour atteindre ce but, l'invention préconise l'utilisation de photoamorceurs spécifiquement sélectionnés, du type borates d'anium, 1) et/ou d'oxoisothiochromanium, 2) et/ou de mono et/ou polysulfonium, 3) et/ou de complexes organométalliques, 4) en association e.g. avec des polydiméthylsiloxanes fonctionnalisés par des groupements réticulables par voie cationique du genre époxy, sous LASER UV. Ces borates comprennent des phènyles fluorosubstitués. L'invention vise également le procédé correspondant de fabrication d'objets par SPL, de même que la composition liquide de départ mise en oeuvre. Application prototypage.
  • [EN] SILICONE COMPOSITION USED IN THE PRODUCTION OF ANTIFRICTION VARNISHES, METHOD FOR THE APPLICATION OF SAID VARNISHES TO A SUPPORT AND SUPPORT THUS TREATED<br/>[FR] COMPOSITION SILICONE UTILE NOTAMMENT POUR LA REALISATION DE VERNIS ANTI-FRICTION, PROCEDE D'APPLICATION DE CE VERNIS SUR UN SUPPORT ET SUPPORT AINSI TRAITE
    申请人:RHODIA CHIMIE SA
    公开号:WO2000059992A1
    公开(公告)日:2000-10-12
    L'invention concerne des compositions silicones utiles notamment pour la réalisation de vernis applicables sur des supports, dont on cherche à diminuer le coefficient de friction. La composition selon l'invention comprend au moins un polyorganosiloxane A (POS) réticulable par l'intermédiaire de groupements fontionnels de réticulation (GFR) par voie cationique et/ou radicalaire et un amorceur C choisi parmi les borates d'onium, caractérisée en ce qu'elle comporte en outre des molécules (POS D) substituées par des groupements fonctionnels secondaires (GFS) portés par des atomes de silicium et sélectionnées parmi ceux comprenant au moins un motif alcoxy et/ou époxy et/ou carboxy, éventuellement une charge (e.g. silice). Application: Vernis anti-friction pour revêtements silicone RTV de tissu pour 'air bag', de rubans à transfert thermique ou de films d'emballage.
  • TAMURA, YASUMITSU;UENISHI, JUN-ICHI;ISHIBASHI, HIROYUKI, CHEM. AND PHARM. BULL., 1984, 32, N 3, 945-949
    作者:TAMURA, YASUMITSU、UENISHI, JUN-ICHI、ISHIBASHI, HIROYUKI
    DOI:——
    日期:——
  • Tamura, Yasumitsu; Uenishi, Jun-ichi; Ishibashi, Hiroyuki, Chemical and pharmaceutical bulletin, 1984, vol. 32, # 2, p. 945 - 949
    作者:Tamura, Yasumitsu、Uenishi, Jun-ichi、Ishibashi, Hiroyuki
    DOI:——
    日期:——
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