[3-(三甲氧基硅烷基)丙基]琥珀酸酐 | 156088-53-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 中文名称: [3-(三甲氧基硅烷基)丙基]琥珀酸酐
• 中文别名: 二氢-3-[3-(三甲氧基硅基)丙基]呋喃-2,5-二酮
• 英文名称: [3-(trimethoxysilyl)propyl]succinic anhydride
• 英文别名: 2,5-Furandione, dihydro-3-[3-(trimethoxysilyl)propyl]-；3-(3-trimethoxysilylpropyl)oxolane-2,5-dione
• CAS: 156088-53-8
• 化学式: C₁₀H₁₈O₆Si
• 分子量: 262.335
• InChiKey: ZADOWCXTUZWAKL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  320.9±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.134±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.73
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  71.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  [3-(三甲氧基硅烷基)丙基]琥珀酸酐 以 水 为溶剂， 生成 2-(3-Trihydroxysilylpropyl)butanedioic acid
  参考文献：
  名称：

  KR2015/17671

  摘要：

  公开号：

文献信息

• 一种环氧硅烷偶联剂低聚物的制备方法
  申请人：安徽硅宝有机硅新材料有限公司

  公开号：CN113087739A

  公开（公告）日：2021-07-09

  本发明公开了一种环氧硅烷偶联剂低聚物的制备方法，包括以下步骤:将树状有机硅、氟单体分别用有机溶剂进行溶解，向含树状有机硅的溶液中加入催化剂，获得混合溶液，然后向所获的混合溶液中滴加含氟单体的溶液，40‑60mi n内滴完，再继续保温反应1‑2h，再加入环氧硅烷偶联剂，恒速搅拌，反应2‑3h后获得该低聚物。且本发明以拥有树状骨架的有机硅为底物，利用树状物中的双键与含氟单体中的双键、环氧硅烷偶联剂中环氧基进行聚合和接枝反应，形成超支化低聚物。因为此超支化低聚物具有特殊的空腔结构，极易将无机颗粒包裹，更加有利用于无机颗粒在有机物中的分散，以及促进其分散的稳定性。
• RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SILICON HAVING ANION GROUP
  申请人：Shibayama Wataru

  公开号：US20110287369A1

  公开（公告）日：2011-11-24

  There is provided a resist underlayer film forming composition for lithography for forming a resist underlayer film capable of being used as a hardmask. A resist underlayer film forming composition for lithography comprising a silane compound containing an anion group, wherein the silane compound containing an anion group is a hydrolyzable organosilane in which an organic group containing an anion group is bonded to a silicon atom and the anion group forms a salt structure, a hydrolysis product thereof, or a hydrolysis-condensation product thereof. The anion group may be a carboxylic acid anion, a phenolate anion, a sulfonic acid anion, or a phosphonic acid anion. The hydrolyzable organosilane may be a compound of Formula (1): R 1 a R 2 b Si(R 3 ) 4−(a+b) (1). A composition comprising a mixture of a hydrolyzable organosilane of Formula (1), and at least one organic silicon compound selected from the group consisting of a compound of Formula (2): R 4 a Si(R 5 ) 4−a (2) and a compound of Formula (3): [R 6 c Si(R 7 ) 3−c ] 2 Y b (3); a hydrolysis product of the mixture; or a hydrolysis-condensation product of the mixture.

  提供了一种用于光刻的抗蚀底层膜形成组合物，用于形成可用作硬膜的抗蚀底层膜。该抗蚀底层膜形成组合物包括含有阴离子基团的硅烷化合物，其中含有阴离子基团的硅烷化合物是一种可水解的有机硅烷，其中含有阴离子基团的有机基团与硅原子键合，阴离子基团形成盐结构，其水解产物或水解缩合产物。阴离子基团可以是羧酸阴离子、酚酸盐阴离子、磺酸盐阴离子或磷酸盐阴离子。可水解的有机硅烷可以是式（1）的化合物：R1aR2bSi（R3）4−（a+b）（1）。组合物包括式（1）的可水解有机硅烷的混合物，以及选择自化合物组中的至少一种有机硅化合物的混合物，该组具有式（2）的化合物：R4aSi（R5）4−a（2）和式（3）的化合物：[R6cSi（R7）3−c] 2Yb（3）；该混合物的水解产物；或该混合物的水解缩合产物。
• Resist underlayer film forming composition containing silicon having anion group
  申请人：Nissan Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US08815494B2

  公开（公告）日：2014-08-26

  There is provided a method of making a semiconductor device utilizing a resist underlayer film forming composition comprising a silane compound containing an anion group, wherein the silane compound containing an anion group is a hydrolyzable organosilane in which an organic group containing an anion group is bonded to a silicon atom and the anion group forms a salt structure, a hydrolysis product thereof, or a hydrolysis-condensation product thereof. The anion group may be a carboxylic acid anion, a phenolate anion, a sulfonic acid anion, or a phosphonic acid anion. The hydrolyzable organosilane may be a compound of Formula (1): R1aR2bSi(R3)4−(a+b) (1).

  提供了一种制造半导体器件的方法，利用含有阴离子基团的硅烷化合物组成的抗蚀底层膜形成组合物，其中含有阴离子基团的硅烷化合物是一种可水解的有机硅烷，其中含有阴离子基团的有机基团与硅原子键合，并形成盐结构，其水解产物或水解缩合产物。阴离子基团可以是羧酸阴离子、苯酚酸盐阴离子、磺酸盐阴离子或膦酸盐阴离子。可水解的有机硅烷可以是式（1）的化合物：R1aR2bSi（R3）4−（a+b）（1）。
• NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE WHITE COMPOSITION FOR TOUCH PANEL, TOUCH PANEL AND TOUCH PANEL PRODUCTION METHOD
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：US20160161847A1

  公开（公告）日：2016-06-09

  The present invention provides a negative-type photosensitive white composition for a touch panel, the composition including: (A) a white pigment; (B) an alkali-soluble resin; (C) a polyfunctional monomer; and (D) a photopolymerization initiator.

  本发明提供了一种用于触摸屏的负型光敏白色组合物，该组合物包括：（A）白色颜料；（B）碱溶性树脂；（C）多功能单体；以及（D）光聚合引发剂。
• NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE COLORING COMPOSITION, CURED FILM, LIGHT-SHIELDING PATTERN FOR TOUCH PANEL, AND TOUCH PANEL MANUFACTURING METHOD
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：US20150378258A1

  公开（公告）日：2015-12-31

  The purpose of the present invention is to provide a negative-type photosensitive coloring composition ideal for forming a white, light-blocking pattern and which not only has excellent chemical resistance, but also has extremely excellent heat resistance and does not yellow or crack even when undergoing high-temperature processing. This negative-type photosensitive coloring composition contains (A) a white pigment, (B) a polysiloxane obtained by co-hydrolyzate condensation of an alkoxysilane compound containing a compound of a specific structure, (C) polyfunctional acrylic monomers, (D) a photoradical polymerization initiator and (E) an organic solvent.

  本发明的目的是提供一种负型感光着色组合物，用于形成白色、遮光的图案，不仅具有优异的化学耐性，而且具有极其优异的耐热性，在高温加工时不会发黄或开裂。该负型感光着色组合物包含（A）白色颜料，（B）通过共水解缩合得到的聚硅氧烷，该硅氧烷含有特定结构的烷氧基硅烷化合物，（C）多官能团丙烯酸酯单体，（D）光引发自由基聚合引发剂和（E）有机溶剂。