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vinyl boron monoxide
vinyl boron monoxide | 1000606-16-5
分子结构分类
有机化合物
-
有机盐
-
有机金属盐
中文名称
——
中文别名
——
英文名称
vinyl boron monoxide
英文别名
Borallon;ethenyl(oxo)borane
CAS
1000606-16-5
化学式
C
2
H
3
BO
mdl
——
分子量
53.8562
InChiKey
SHBSPMZRMRYRHT-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
物化性质
计算性质
ADMET
安全信息
SDS
制备方法与用途
上下游信息
反应信息
文献信息
表征谱图
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计算性质
辛醇/水分配系数(LogP):
0.18
重原子数:
4
可旋转键数:
0
环数:
0.0
sp3杂化的碳原子比例:
0.0
拓扑面积:
17.1
氢给体数:
0
氢受体数:
1
反应信息
作为产物:
描述:
乙烯
、 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 生成
vinyl boron monoxide
参考文献:
名称:
乙炔硫基硼分子的定向气相形成
摘要:
作为有机硫代硼 (RBS) 家族的一员,迄今为止难以捉摸的乙炔基硫代硼分子 (HCCBS) 是通过单硫化硼自由基 (BS) 与乙炔 (C2H2) 在气相中的单次碰撞条件下的双分子反应形成的,利用交叉分子束技术。反应机理遵循间接动力学,通过将一硫化硼自由基及其硼原子无障碍加成到乙炔分子的碳原子上,从而产生反式 HCCHBS 中间体。正如从头电子结构计算所预测的那样,初始碰撞复合物要么异构化为其顺式形式,要么经历氢原子迁移以形成 H2CCBS。顺式-HCCHBS 中间体要么通过氢原子从碳原子转移到硼原子而异构化,产生 HCCBHS 异构体,或分解为乙炔基硫代硼 (HCCBS)。预计 H2CCBS 和 HCCBHS 中间体都会通过原子氢损失裂解为乙炔基硫代硼。统计 (RRKM) 计算报告表明,在当前实验条件下,由顺式 HCCHBS、H2CCBS 和 HCCBHS 形成乙炔基硫代硼分子的产率分别为
DOI:
10.1021/ja502636u
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