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Benzyldiphenylmethoxysilan | 55562-23-7

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
Benzyldiphenylmethoxysilan
英文别名
Benzyl-methoxy-diphenylsilane
Benzyldiphenylmethoxysilan化学式
CAS
55562-23-7
化学式
C20H20OSi
mdl
——
分子量
304.464
InChiKey
QDTDMCXAJLDODS-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 反应信息
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  • 相关功能分类
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物化性质

  • 沸点:
    378.8±25.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.06±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.17
  • 重原子数:
    22
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.1
  • 拓扑面积:
    9.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    Dibrommethyl-triphenyl-silan正丁基锂 作用下, 以 1,4-二氧六环乙醚正己烷 为溶剂, 反应 0.17h, 生成 Benzyldiphenylmethoxysilan
    参考文献:
    名称:
    三芳基(卤代甲基)硅烷与氟化物和烷氧基离子重排-置换反应中的电子效应和立体化学。
    摘要:
    四丁基氟化铵(TBAF)在醚溶剂中与(卤代甲基)二苯基(对位取代苯基)硅烷(13,X = Cl),14(X = Br)和15(X = I)反应生成氟代二苯基取代的苯基甲基)硅烷(17a)和氟苯基(苯基甲基)(对取代的苯基)硅烷(20a)受到硅的侵蚀以及苯基或对取代的苯基向氯离子的迁移而迁移到C-1 。二恶烷中的甲醇钠会引起14(X = Br)的重排,从而生成甲氧基二苯基(对位取代的苯基甲基)硅烷(17b)和甲氧基苯基(对苯基甲基)(对位取代的苯基)硅烷(20b)。25°C下F(-)在13的重排-位移中变化的苯基的迁移倾向为p-CF(3)-Ph,2.72> p-Cl-Ph,1.67> Ph,1.00> p-CH (3)-Ph,0.91>对-CH(3)O-Ph,0。58> p-(CH(3))(2)N-Ph,0.55。对于14与甲醇钠在二恶烷中的反应,在23°C时的迁移能力为p-CF(3)-Ph,2
    DOI:
    10.1021/jo010471j
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文献信息

  • Thermal reactions of benzosilacyclobutenes with alcohols
    作者:Kang Kyung-Tae、Seo Hee-Chan、Kim Kwang-Nam
    DOI:10.1016/s0040-4039(00)94944-x
    日期:1985.1
  • KANG, KYUNG-TAE;SEO, HEE-CHAN;KIM, KWANG-NAM, TETRAHEDRON LETT., 1985, 26, N 39, 4761-4762
    作者:KANG, KYUNG-TAE、SEO, HEE-CHAN、KIM, KWANG-NAM
    DOI:——
    日期:——
  • Electronic Effects and the Stereochemistries in Rearrangement−Displacement Reactions of Triaryl(halomethyl)silanes with Fluoride and with Alkoxide Ions
    作者:John M. Allen、Steve L. Aprahamian、Esther A. Sans、Harold Shechter
    DOI:10.1021/jo010471j
    日期:2002.5.1
    reacts with (halomethyl)diphenyl(para-substituted-phenyl)silanes (13, X = Cl), 14 (X = Br), and 15 (X = I) in ether solvents to give fluorodiphenyl(para-substituted-phenylmethyl)silanes (17a) and fluorophenyl(phenylmethyl)(para-substituted-phenyl)silanes (20a) by attack on silicon and migrations of the phenyl or the para-substituted-phenyl groups to C-1 with displacement of chloride ion. Sodium methoxide
    四丁基氟化铵(TBAF)在醚溶剂中与(卤代甲基)二苯基(对位取代苯基)硅烷(13,X = Cl),14(X = Br)和15(X = I)反应生成氟代二苯基取代的苯基甲基)硅烷(17a)和氟苯基(苯基甲基)(对取代的苯基)硅烷(20a)受到硅的侵蚀以及苯基或对取代的苯基向氯离子的迁移而迁移到C-1 。二恶烷中的甲醇钠会引起14(X = Br)的重排,从而生成甲氧基二苯基(对位取代的苯基甲基)硅烷(17b)和甲氧基苯基(对苯基甲基)(对位取代的苯基)硅烷(20b)。25°C下F(-)在13的重排-位移中变化的苯基的迁移倾向为p-CF(3)-Ph,2.72> p-Cl-Ph,1.67> Ph,1.00> p-CH (3)-Ph,0.91>对-CH(3)O-Ph,0。58> p-(CH(3))(2)N-Ph,0.55。对于14与甲醇钠在二恶烷中的反应,在23°C时的迁移能力为p-CF(3)-Ph,2
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