acetyltrimethyl-germane | 53520-45-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: acetyltrimethyl-germane
• 英文别名: acetyltrimethylgermane；acetyl trimethylgermane；Trimethylacylgermanium；Acetyltrimethylgerman；Germane, acetyltrimethyl-；1-trimethylgermylethanone
• CAS: 53520-45-9
• 化学式: C₅H₁₂GeO
• 分子量: 160.74
• InChiKey: ONYRXAJVVBDOHE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  118.8±23.0 °C(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.45
• 重原子数：
  7
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  acetyltrimethyl-germane 在 lithium diisopropyl amide 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 反应 0.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  MOCVD precursors based on organometalloid ligands

  摘要：

  含有卤代烷基，特别是全氟烷基取代基的α-硅-β-二酮酸配体的挥发性金属配合物可用作化学气相沉积过程中的金属前体，以及含有氟化领域的纳米结构材料。

  公开号：

  US06340768B1
• 作为产物：
  描述：

  1-(trimethylgermyl)-1-(ethoxy)ethene 在 3N HCl/Et₂0 作用下， 以82%的产率得到acetyltrimethyl-germane
  参考文献：
  名称：

  MOCVD precursors based on organometalloid ligands

  摘要：

  含有卤代烷基，特别是全氟烷基取代基的α-硅-β-二酮酸配体的挥发性金属配合物可用作化学气相沉积过程中的金属前体，以及含有氟化领域的纳米结构材料。

  公开号：

  US06340768B1

文献信息

• A Facile Synthesis of 2,2,6,6-Tetramethyl-2-germa-3,5-heptandione:  The Preparation and Characterization of the First Germa-<i>β</i>-diketonate Copper(II) Complex
  作者：Kulbinder K. Banger、Claudia Birringer、Rolf U. Claessen、Poay Lim、Paul J. Toscano、John T. Welch

  DOI：10.1021/om010479j

  日期：2001.10.1

  High-yield synthesis of acetyltrimethylgermane (1) facilitated the synthesis of the first germa-β-diketone, 2,2,6,6-tetramethyl-2-germa-3,5-heptanedione (tmghdH; 3), and its Cu(II) complex, Cu(tmghd)2 (4). Cu(tmghd)2 was found to be more volatile than Cu(tmhd)2 (tmhdH = 2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedione) by thermogravimetric analysis. X-ray diffraction studies of Cu(tmghd)2 showed it to have essentially

  乙酰基三甲基锗烷（1）的高产率合成促进了第一个细菌β-二酮，2,2,6,6-四甲基-2-germa-3,5-庚二酮（tmghdH; 3）及其Cu（ II）络合物Cu（tmghd）2（4）。的Cu（tmghd）2被认为是比的Cu（TMHD）更易挥发2（tmhdH = 2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮）通过热重分析。Cu（tmghd）2的X射线衍射研究表明，它基本上具有正方形的平面几何形状，且Cu原子位于对称中心。
• SODERQUIST, JOHN A.;HASSNER, ALFRED, TETRAHEDRON LETT., 29,(1988) N 16, 1899-1902
  作者：SODERQUIST, JOHN A.、HASSNER, ALFRED

  DOI：——

  日期：——
• MOCVD precursors based on organometalloid ligands
  申请人：Research Foundation of State University of New York

  公开号：US06340768B1

  公开（公告）日：2002-01-22

  Volatile metal complexes with &agr;-sila-&bgr;-diketonate ligands containing haloalkyl, and particularly, perfluoroalkyl, substitutents are useful as metal precursors for chemical vapor deposition processes and as nanostructured materials containing fluorous domains.

  含有卤代烷基，特别是全氟烷基取代基的α-硅-β-二酮酸配体的挥发性金属配合物可用作化学气相沉积过程中的金属前体，以及含有氟化领域的纳米结构材料。