乙基胂 | 593-59-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 中文名称: 乙基胂
• 英文名称: monoethyl arsine
• 英文别名: monoethylarsine；ethyl-arsine；Aethyl-arsin；Arsinoaethan；ethyl arsine；ethylarsine；ethylarsane
• CAS: 593-59-9
• 化学式: C₂H₇As
• 分子量: 105.999
• InChiKey: OSAGMAAQMRQLLW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  36°C
• 密度：
  1.2140

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.06
• 重原子数：
  3
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

安全信息

• 危险等级：
  4.2
• 包装等级：
  I
• 危险类别：
  4.2
• 危险品运输编号：
  UN 2845

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  乙基胂 在 四氯化锡 作用下， 生成 乙基二氯胂
  参考文献：
  名称：

  Dehn; Williams, American Chemical Journal, 1908, vol. 40, p. 113

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  乙基二氯胂 以 三正丙胺 为溶剂， 生成 乙基胂
  参考文献：
  名称：

  Alkyl Group VA metal compounds

  摘要：

  揭示了通过将VA族金属三卤化物与有机锂试剂或具有公式RnM1X3−n的化合物（其中R是烷基，M1是III A族金属，X是卤素，n是1到3的整数）反应，以高产率和高纯度制备单烷基VA族金属二卤化合物的方法。这种单烷基VA族金属二卤化合物基本上不含氧杂质、醚溶剂和金属杂质。通过还原这种单烷基VA族金属二卤化合物，可以轻松地高产率和高纯度地生产单烷基VA族金属二氢化合物。

  公开号：

  US20030181746A1

文献信息

• Alkyl group VA metal compounds
  申请人：Shenai-Khatkhate Deodatta Vinayak

  公开号：US06956127B2

  公开（公告）日：2005-10-18

  Disclosed are methods of preparing monoalkyl Group VA metal dihalide compounds in high yield and high purity by the reaction of a Group VA metal trihalide with an organo lithium reagent or a compound of the formula R n M 1 X 3−n , where R is an alkyl, M 1 is a Group IIIA metal, X is a halogen and n is an integer fro 1 to 3. Such monoalkyl Group VA metal dihalide compounds are substantially free of oxygenated impurities, ethereal solvents and metallic impurities. Monoalkyl Group VA metal dihydride compounds can be easily produced in high yield and high purity by reducing such monoalkyl Group VA metal dihalide compounds.

  揭示了通过将VA族金属三卤化物与有机锂试剂或化合物RnM1X3−n（其中R是烷基，M1是III A族金属，X是卤素，n是1到3的整数）反应，以高产率和高纯度制备单烷基VA族金属二卤化合物的方法。这种单烷基VA族金属二卤化合物基本上不含氧杂质、醚溶剂和金属杂质。通过还原这种单烷基VA族金属二卤化合物，可以轻松地高产率和高纯度地生产单烷基VA族金属二氢化合物。
• Natta, G., Giornale di Chimica Industriale ed Applicata, 1926, vol. 8, p. 370 - 370
  作者：Natta, G.

  DOI：——

  日期：——
• Natta, vol. 8, p. 370
  作者：Natta

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Mg: MVol.B3, 47, page 413 - 414
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Photochemistry of Group V ethyl-containing systems: enhancing hydrogen-atom production via 248-nm ethyl radical photolysis
  作者：Xiaodong Xu、Zhongrui Wang、Jeffrey L. Brum、Yu Fong Yen、Subhash Deshmukh、Brent Koplitz

  DOI：10.1021/j100196a038

  日期：1992.8

  We report on the photolysis of triethylarsenic, monoethylamine, and monoethylarsine with respect to H-atom formation. For all three molecules, 193-nm excitation followed by a 248-nm laser pulse produces an H-atom signal that is enhanced relative to the signal derived from the sum of the two lasers operating alone. The use of the selectively-deuterated compounds C2D5NH2 and C2H5ND2 clearly demonstrates that significant H-atom enhancement occurs via the ethyl group, at least in the case of monoethylamine. The importance of such photolysis reactions is discussed in terms of the laser-enhanced growth of III-V semiconductor materials.