1,3-disilabutane | 6787-86-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: 1,3-disilabutane
• 英文别名: 3-Methyl-1,3-disilapropan；1,3-Disilabutan；Methyl(silylmethyl)silane
• CAS: 6787-86-6
• 化学式: C₂H₁₀Si₂
• 分子量: 90.2724
• InChiKey: DLNFKXNUGNBIOM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  <0°C
• 沸点：
  44-45°C
• 密度：
  0,8 g/cm3
• 闪点：
  <0°C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.06
• 重原子数：
  4
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

安全信息

• TSCA：
  No
• 危险类别码：
  R11
• 危险品运输编号：
  1993
• 海关编码：
  2931900090
• 安全说明：
  S16,S3/7,S33,S9

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3-disilabutane 在 copper diacetate 水 作用下， 生成 氢气
  参考文献：
  名称：

  WO2007/19172

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  methyl(chloromethyl)dihydrosilane 在 溴硅 、 magnesium 作用下， 生成 1,3-disilabutane
  参考文献：
  名称：

  Schmidbaur, Hubert; Ebenhoech, Jan, Zeitschrift fur Naturforschung, Teil B: Anorganische Chemie, Organische Chemie, 1986, vol. 41, # 12, p. 1527 - 1534

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Single-Source Chemical Vapor Deposition of 3C-SiC Films in a LPCVD Reactor
  作者：Muthu B. J. Wijesundara、Gianluca Valente、William R. Ashurst、Roger T. Howe、Albert P. Pisano、Carlo Carraro、Roya Maboudian

  DOI：10.1149/1.1646141

  日期：——

  We report the deposition of 3C-SiC films on an Si(100) substrate from 1,3-disilabutane precursor molecule utilizing a conventional low-pressure chemical vapor deposition (CVD) system. The chemical, structural, and growth properties of the resulting films are investigated as functions of deposition temperature and flow rates. Based on X-ray photoelectron spectroscopy, the films deposited at temperatures

  我们报告了使用传统低压化学气相沉积 (CVD) 系统从 1,3-二硅杂丁烷前体分子在 Si(100) 衬底上沉积 3C-SiC 薄膜。研究所得薄膜的化学、结构和生长特性作为沉积温度和流速的函数。根据 X 射线光电子能谱，在低至 650°C 的温度下沉积的薄膜确实是碳化物。X 射线衍射分析表明薄膜在高达 750°C 时是无定形的，高于此温度时它们会变成多晶。还报告了工艺参数对薄膜均匀性的影响。在 800°C 及更低温度下可获得高度均匀的薄膜，基本上与流速无关。
• Ring conformation and barrier to inversion of 1,3-disilacyclobutane from low-frequency vibrational spectra
  作者：R. M. Irwin、J. M. Cooke、J. Laane

  DOI：10.1021/ja00452a012

  日期：1977.5
• Roper, Christopher S.; Radmilovic, Velimir; Howe, Roger T., Journal of the Electrochemical Society, p. 1
  作者：Roper, Christopher S.、Radmilovic, Velimir、Howe, Roger T.、Maboudian, Roya

  DOI：——

  日期：——