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2,2-Dimethyl-propionic acid 1,2,2,6,6-pentamethyl-piperidin-4-yl ester | 43224-14-2

中文名称
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中文别名
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英文名称
2,2-Dimethyl-propionic acid 1,2,2,6,6-pentamethyl-piperidin-4-yl ester
英文别名
(1,2,2,6,6-Pentamethylpiperidin-4-yl) 2,2-dimethylpropanoate;(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) 2,2-dimethylpropanoate
2,2-Dimethyl-propionic acid 1,2,2,6,6-pentamethyl-piperidin-4-yl ester化学式
CAS
43224-14-2
化学式
C15H29NO2
mdl
——
分子量
255.401
InChiKey
NAEHBKSGXPJIKQ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.3
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.93
  • 拓扑面积:
    29.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

文献信息

  • POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US20200393760A1
    公开(公告)日:2020-12-17
    A positive resist composition comprising a base polymer comprising recurring units (a) having the structure of an ammonium salt of N-carbonylsulfonamide having an iodized aromatic ring, and recurring units (b1) having an acid labile group-substituted carboxyl group and/or recurring units (b2) having an acid labile group-substituted phenolic hydroxyl group exhibits a high sensitivity, high resolution, low edge roughness and dimensional uniformity, and forms a pattern of good profile after exposure and development.
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