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oligo(butylgermyne)

中文名称
——
中文别名
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英文名称
oligo(butylgermyne)
英文别名
N-Butylgermane
oligo(butylgermyne)化学式
CAS
——
化学式
C4H9Ge
mdl
——
分子量
129.705
InChiKey
AUCLTMBZNXIUKP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
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  • 反应信息
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.37
  • 重原子数:
    5
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    0

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    正丁基三氯锗烷 在 SmI2 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 生成 oligo(butylgermyne)
    参考文献:
    名称:
    紫外辐照制备支化寡锗烯及其微图案化
    摘要:
    通过烷基三氯锗烷和苯基三氯锗烷与金属钠的 Wurtz 偶联反应和烷基三氯锗烷使用二碘化钐 (II) 的反应制备了支链低聚锗烷。在空气中的低聚(苯基锗烷)紫外线照射下,低聚(苯基锗烷)薄膜中的锗-锗键转变为二锗烷链。oligo(phenylgermyne) 薄膜的激光闪光光解表明在光降解过程中形成了作为反应中间体的锗自由基。在对未辐照和辐照的低聚(苯基锗烯)薄膜进行热处理时,分别观察到碳化锗(Ge-C)和二氧化锗(GeO2)的形成。通过结合支链寡锗的光化学和热特性,获得了相对高分辨率的 GeC/GeO2 微图案。
    DOI:
    10.1246/bcsj.69.2993
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文献信息

  • Preparation of Branched Oligogermynes and Their Micropatterning by Ultraviolet Irradiation
    作者:Kunio Mochida、Tomoharu Ohkawa、Hiroki Kawata、Akira Watanabe、Osamu Ito、Minoru Matsuda
    DOI:10.1246/bcsj.69.2993
    日期:1996.10
    Branced oligogermynes were prepared both by Wurtz coupling reactions of alkyl- and phenyl-trichlorogermanes with sodium metal and by the reaction of alkyltrichlorogermanes using of samarium(II) diiodide. Upon ultraviolet irradiation of oligo(phenylgermyne) in air, the germanium–germanium bond in an oligo(phenylgermyne) film changed into a digermoxane chain. The laser flash photolysis of the oligo(phenylgermyne)
    通过烷基三氯锗烷和苯基三氯锗烷与金属钠的 Wurtz 偶联反应和烷基三氯锗烷使用二碘化钐 (II) 的反应制备了支链低聚锗烷。在空气中的低聚(苯基锗烷)紫外线照射下,低聚(苯基锗烷)薄膜中的锗-锗键转变为二锗烷链。oligo(phenylgermyne) 薄膜的激光闪光光解表明在光降解过程中形成了作为反应中间体的锗自由基。在对未辐照和辐照的低聚(苯基锗烯)薄膜进行热处理时,分别观察到碳化锗(Ge-C)和二氧化锗(GeO2)的形成。通过结合支链寡锗的光化学和热特性,获得了相对高分辨率的 GeC/GeO2 微图案。
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