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sodium gold sulfite

中文名称
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中文别名
——
英文名称
sodium gold sulfite
英文别名
Sodium;gold(1+);sulfite
sodium gold sulfite化学式
CAS
——
化学式
Au*3Na*2O3S
mdl
——
分子量
426.064
InChiKey
RXNUQHQAZAAIDP-UHFFFAOYSA-L
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -4.0
  • 重原子数:
    6
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    82.4
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    sodium gold sulfite亚磷酸 、 sodium sulfite 作用下, 以 为溶剂, 生成
    参考文献:
    名称:
    使用二亚硫酸盐络合物镀金
    摘要:
    为了提高亚硫酸金镀液的稳定性,研究了稳定剂的分解行为和评价。通过抑制歧化反应可以提高稳定性。最有效的稳定剂是 2,2'-二吡啶及其衍生物。2,2'-二吡啶的加入不影响镀层硬度,显着降低镀膜应力
    DOI:
    10.1149/1.2220894
  • 作为产物:
    描述:
    四氯金酸水合物 、 sodium sulfite 在 ammonium hydroxide 作用下, 以 为溶剂, 反应 0.25h, 生成 sodium gold sulfite
    参考文献:
    名称:
    氯离子对无氰金电沉积的影响的见解
    摘要:
    在亚硫酸金(I)电沉积浴中,使用市售的氯金酸代替亚硫酸钠金作为主要盐非常简单方便。在本文中,我们仔细研究了氯离子对亚硫酸金浴中无氰化物的Au(I)电沉积的影响。紫外可见吸收光谱和目测检查均表明氯离子可抑制Au(I)歧化反应并提高镀液稳定性。循环伏安法表明,氯离子可促进Au(I)的阴极还原。EC-SERS光谱表明,在亚硫酸钠溶液中,SO 3 2-离子首先吸附在金电极上,然后经历结构转变(SO 3 2-→S 2 O 5 2-),最后电还原为S 2 O 3 2−离子(S 2 O 5 2−→S 2 O 3 2−)随着电势移位n ...
    DOI:
    10.1149/1945-7111/ab9e3e
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文献信息

  • ノンシアン金化合物の新規製造方法
    申请人:小島化学薬品株式会社
    公开号:JP2016098195A
    公开(公告)日:2016-05-30
    【課題】本発明は、無電解及び電解めっき液の金供給源として利用可能なシアンを含まない有用なノンシアン金化合物の新規製造方法を提供する。【解決手段】金塩の溶液として塩化第一金溶液に換え亜硫酸金ナトリウム溶液、亜硫酸金カリウム溶液及び亜硫酸金アンモニウム溶液から選ばれる一種又は二種以上を採択し、この金塩の溶液をpH7.0〜14.0に調整して温度を0℃〜100℃に保ち、この溶液に2−メルカプトベンゾチアゾール類を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムから選ばれる一種又は二種以上の水溶液に溶かした溶液を添加して1〜15分間、反応させることによりノンシアン金化合物が収率よく得る。【選択図】なし
    本发明提供了一种新的制备方法,用于作为无属液和电解镀液的供应源的非化合物,其中不含。解决方案包括选择亚硫酸溶液、亚硫酸溶液和亚硫酸溶液中的一种或多种,作为盐溶液,将其替换为化第一溶液,并将该盐溶液调整至pH 7.0至14.0,保持温度在0°C至100°C之间,向该溶液中添加从氢氧化钠氢氧化钾氢氧化钙中选择的一种或多种溶液中溶解的2-巯基苯并噻唑类化合物,然后在1至15分钟内进行反应,以高收率获得非化合物。【选图】无
  • Electrodeposition of Gold from a Thiosulfate-Sulfite Bath for Microelectronic Applications
    作者:T. A. Green、M.-J. Liew、S. Roy
    DOI:10.1149/1.1541006
    日期:——
    The feasibility of using a thiosulfate-sulfite bath to electrodeposit soft gold for microelectronic applications has been investigated. This bath is stable at near-neutral pH, shows good compatibility with positive photoresists, and does not contain any additives. It was found that the bath produced gold bumps with straight sidewalls, flat top surfaces, and a good reproduction of the resist pattern
    已经研究了使用硫酸盐-亚硫酸盐浴电沉积软用于微电子应用的可行性。该镀液在接近中性的 pH 值下稳定,与正性光刻胶具有良好的相容性,并且不含任何添加剂。发现该浴产生具有直侧壁、平坦顶表面的凸块,并且实现了抗蚀剂图案的良好再现。发现电镀结构的厚度均匀性、粗糙度、应力、硬度、附着力和形状与广泛的微电子应用(包括凸点)的要求兼容。
  • Non-Cyanide Electroless Gold Plating Using Polyphenols as Reducing Agents
    作者:Yutaka Ohtani、Aiko Horiuchi、Aritomo Yamaguchi、Kenichi Oyaizu、Makoto Yuasa
    DOI:10.1149/1.2133716
    日期:——
    Polyphenol compounds were investigated as reducing agents for non-cyanide electroless gold plating for electronics assembly applications. The pH value and temperature were optimized to determine the conditions that lead to a high deposition rate without precipitation. The surface morphology was evaluated by scanning electron microscopy. Catechol, pyrogallol, and gallic acid yielded deposited films
    研究了多化合物作为用于电子组装应用的非化物化学的还原剂。优化 pH 值和温度以确定导致高沉积速率而不沉淀的条件。通过扫描电子显微镜评估表面形态。儿茶酚、连苯三没食子酸在优化条件下产生具有良好外观和可焊性的沉积膜。在测试的还原剂中,邻苯二酚最适合用作稳定的长寿命电镀浴。它具有中等还原能力以稳定浴和沉积薄膜。还原剂的形成热和最高占据分子轨道平的计算值支持了实验结果。
  • Region-selective electroless gold plating on polycarbonate sheets by UV-patterning in combination with silver activating
    作者:Qinghua Zhou、Hengwu Chen、Yi Wang
    DOI:10.1016/j.electacta.2009.12.024
    日期:2010.2
    solution, so that the silver ions were chemisorbed by the photochemically generated carboxyl groups. When the Ag+-adsorbed PC sheet was immersed into an electroless gold plating bath, shiny gold film quickly deposited on the UV-exposed region, resulting in the formation of a micro gold devices on the PC surface. The whole plating process including UV-exposure, surface activating and gold plating can be completed
    通过将无光刻胶的UV图案与无和无胺的活化以及化学相结合,已经建立了一种简单,省时,经济的聚碳酸酯(PC)表面区域属化方法。PC片材的表面通过光掩模暴露于从低压灯发出的紫外线下,由于在UV暴露区域上羧基的光化学生成,掩模上的微图案转移到了PC表面。然后,用氨水AgNO 3溶液处理暴露于紫外线的PC片材,以使银离子被光化学生成的羧基化学吸附。当+将被吸附的PC片浸入化学浴中,将有光泽的膜快速沉积在UV曝光的区域上,从而在PC表面上形成微器件。整个镀覆过程(包括紫外线暴露,表面活化和镀)可在约3-4小时内完成。采用衰减全反射傅立叶变换红外光谱仪(ATR-FT-IR),X射线光电子能谱(XPS),原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)来跟踪镀覆过程中的表面变化。循环伏安法(CV)和苏格兰®-带测试分别用于表征所制备的微装置的电化学性质和粘附强度。证明了所制备的微电极可用于安培检测过氧化氢
  • Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: S: MVol.B2, 1.7, page 562 - 582
    作者:
    DOI:——
    日期:——
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