二(N,N'-二异丙基乙脒)钴 | 635680-58-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 中文名称: 二(N,N'-二异丙基乙脒)钴
• 中文别名: 双（N，N''-二异丙基乙酰胺基）钴（II）
• 英文名称: [Co(iPr₂-MeAMD)₂]
• 英文别名: cobalt bis(N,N'-diisopropylacetamidinate)；bis(N,N'-diisopropylacetamidinato) cobalt(II)；[Co((i)Pr-MeAMD)2]；Bis(N,N'-di-i-propylacetamidinato) cobalt(II)；cobalt(2+);(C-methyl-N-propan-2-ylcarbonimidoyl)-propan-2-ylazanide
• CAS: 635680-58-9
• 化学式: C₁₆H₃₄CoN₄
• 分子量: 341.466
• InChiKey: GGJSAIZRJFXGKE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  72°C
• 沸点：
  50°C 50mm
• 稳定性/保质期：
  遵照规定使用和储存，则不会分解。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.19
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  26.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 储存条件：
  密封在阴凉干燥的环境中。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二(N,N'-二异丙基乙脒)钴 在 NH₃ or H₂ 作用下， 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 钴
  参考文献：
  名称：

  使用氨气作为反应物的高质量区域选择性原子层沉积 Co

  摘要：

  原子层沉积 (ALD) Co 是使用双 (N,N'-二异丙基乙酰氨基) 钴 (II) 作为前体和 NH 3 作为反应物开发的，生产具有优异保形性和纳米级厚度可控性的纯 Co 薄膜。除了NH 3 之外，还通过使用H 2 气体作为反应物来沉积Co膜。与使用 H 2 的 ALD Co 相比，NH 3 沉积的 Co 薄膜显示出更高的膜质量、更低的电阻率和更高的密度。Co 热 ALD 工艺应用于区域选择性 ALD，使用十八烷基三氯硅烷自组装单层作为阻挡层，无需蚀刻工艺即可产生 3 μm 宽的 Co 线图案。

  DOI：

  10.1149/1.3248002
• 作为产物：
  描述：

  N,N'-二异丙基碳二亚胺 生成 二(N,N'-二异丙基乙脒)钴
  参考文献：
  名称：

  在 1-丁基-3-甲基咪唑鎓离子液体和碳酸丙烯酯中由金属脒酸盐前体合成金属纳米颗粒和金属氟化物纳米颗粒。

  摘要：

  过渡金属脒盐的分解 [M{MeC(Ni Pr ) 2 } n ] [M(AMD) n ; M=Mn II、Fe II、Co II、Ni II，n= 2；Cu I , n= 1) 在离子液体 (IL) 1-丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸盐 ([BMIm][BF 4 ])、1-丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸盐 ([BMIm][PF) 中通过微波加热诱导6 ])、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸盐（三氟甲磺酸盐）([BMIm][TfO]) 和 1-丁基-3-甲基咪唑鎓甲苯磺酸盐 ([BMIm][Tos]) 或在碳酸亚丙酯 (PC) 中产生过渡非氟介质中的金属纳米颗粒 (M-NPs)（例如 [BMIm][Tos] 和 PC）或 [ BMIm][BF 4中的 M=Mn、Fe 和 Co 的金属氟化物纳米颗粒 (MF 2 ‐NPs) ]。FeF 2 ‐NPs 可以通过 Fe(AMD) 2分解在[BMIm][BF

  DOI：

  10.1002/open.201600105

文献信息

• Synthesis and characterization of volatile liquid cobalt amidinates
  作者：Zhengwen Li、Don Kuen Lee、Michael Coulter、Leonard N. J. Rodriguez、Roy G. Gordon

  DOI：10.1039/b800712h

  日期：——

  convenient preparation, handling and purification by distillation. They are highly reactive compounds that have been found to be suitable precursors for vapor deposition of cobalt metal, cobalt nitride and cobalt oxide. A new synthetic method allows for the facile and inexpensive preparation of large quantities of these compounds.

  制备了三种新的挥发性a基钴化合物：Co（t BuNC（R）NEt）2，R ＝ Me，Et和n-Bu。他们的特点是元素分析， 1 H NMR，X射线结构分析，熔点，蒸气压，汽化速率，热稳定性和化学反应性。发现它们干净蒸发，没有分解。其中两种在室温下为液体，可以更方便地进行制备，处理和纯化 经过 蒸馏。它们是高反应性的化合物，已经发现它们是用于钴金属，氮化钴和氧化钴的气相沉积的合适前体。一种新的合成方法使得可以方便且廉价地制备大量这些化合物。
• Synthesis and Characterization of Volatile, Thermally Stable, Reactive Transition Metal Amidinates
  作者：Booyong S. Lim、Antti Rahtu、Jin-Seong Park、Roy G. Gordon

  DOI：10.1021/ic0345424

  日期：2003.12.1

  A series of homoleptic metal amidinates of the general type [M(R-R'AMD)(n)](x) (R = (i)Pr, (t)Bu, R' = Me, (t)Bu) has been prepared and structurally characterized for the transition metals Ti, V, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Ag, and La. In oxidation state 3, monomeric structures were found for the metals Ti(III), V(III), and La(III). Bridging structures were observed for the metals in oxidation state 1. Cu(I)

  一系列一般类型的[M（R-R'AMD）（n）]（x）（R =（i）Pr，（t）Bu，R'= Me，（t）Bu）制备了过渡金属Ti，V，Mn，Fe，Co，Ni，Cu，Ag和La，并对其结构进行了表征。在氧化态3下，发现了金属Ti（III），V（III）的单体结构，和La（III）。观察到处于氧化态1的金属的桥连结构。Cu（I）和Ag（I）保持在桥接的二聚体中，Ag（I）也形成了与二聚体共结晶的三聚体。处于氧化态2的金属以单体或二聚体形式出现。离子半径较小的金属（Co，Ni）是单体金属。较大的金属（Fe，Mn）仅与较大的叔丁基取代的mid基化物形成单体结构，而较小的异丙基取代的mid基化物形成二聚体。发现这些新化合物具有非常适合用作薄膜原子层沉积（ALD）的前体的性能。它们具有高挥发性，高热稳定性，并且与分子氢，沉积纯金属或水蒸气，沉积金属氧化物具有高且适当的自限反应性。
• Synthesis of Metal Nanoparticles and Metal Fluoride Nanoparticles from Metal Amidinate Precursors in 1-Butyl-3-Methylimidazolium Ionic Liquids and Propylene Carbonate
  作者：Kai Schütte、Juri Barthel、Manuel Endres、Marvin Siebels、Bernd M. Smarsly、Junpei Yue、Christoph Janiak

  DOI：10.1002/open.201600105

  日期：2017.2

  nanoparticles (MF2‐NPs) for M=Mn, Fe, and Co in [BMIm][BF4]. FeF2‐NPs can be prepared upon Fe(AMD)2 decomposition in [BMIm][BF4], [BMIm][PF6], and [BMIm][TfO]. The nanoparticles are stable in the absence of capping ligands (surfactants) for more than 6 weeks. The crystalline phases of the metal or metal fluoride synthesized in [BMIm][BF4] were identified by powder X‐ray diffraction (PXRD) to exclusively Ni‐ and

  过渡金属脒盐的分解 [MMeC(Ni Pr ) 2 } n ] [M(AMD) n ; M=Mn II、Fe II、Co II、Ni II，n= 2；Cu I , n= 1) 在离子液体 (IL) 1-丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸盐 ([BMIm][BF 4 ])、1-丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸盐 ([BMIm][PF) 中通过微波加热诱导6 ])、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸盐（三氟甲磺酸盐）([BMIm][TfO]) 和 1-丁基-3-甲基咪唑鎓甲苯磺酸盐 ([BMIm][Tos]) 或在碳酸亚丙酯 (PC) 中产生过渡非氟介质中的金属纳米颗粒 (M-NPs)（例如 [BMIm][Tos] 和 PC）或 [ BMIm][BF 4中的 M=Mn、Fe 和 Co 的金属氟化物纳米颗粒 (MF 2 ‐NPs) ]。FeF 2 ‐NPs 可以通过 Fe(AMD) 2分解在[BMIm][BF
• High Quality Area-Selective Atomic Layer Deposition Co Using Ammonia Gas as a Reactant
  作者：Han-Bo-Ram Lee、Woo-Hee Kim、Jeong Won Lee、Jae-Min Kim、Kwang Heo、In Chan Hwang、Yongjun Park、Seunghun Hong、Hyungjun Kim

  DOI：10.1149/1.3248002

  日期：——

  Atomic layer deposition (ALD) Co was developed using bis(N,N'-diisopropylacetamidinato)cobalt(II) as a precursor and NH 3 as a reactant, producing pure Co thin films with excellent conformality and nanoscale thickness controllability. In addition to NH 3 , the Co films were also deposited by using H 2 gas as a reactant. Compared to ALD Co using H 2 , the Co thin films deposited by NH 3 showed a higher

  原子层沉积 (ALD) Co 是使用双 (N,N'-二异丙基乙酰氨基) 钴 (II) 作为前体和 NH 3 作为反应物开发的，生产具有优异保形性和纳米级厚度可控性的纯 Co 薄膜。除了NH 3 之外，还通过使用H 2 气体作为反应物来沉积Co膜。与使用 H 2 的 ALD Co 相比，NH 3 沉积的 Co 薄膜显示出更高的膜质量、更低的电阻率和更高的密度。Co 热 ALD 工艺应用于区域选择性 ALD，使用十八烷基三氯硅烷自组装单层作为阻挡层，无需蚀刻工艺即可产生 3 μm 宽的 Co 线图案。