四(三氟膦)铂 | 19529-53-4

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 过渡金属盐
• 中文名称: 四(三氟膦)铂
• 英文名称: tetrakis-(trifluorophosphine)-platinum
• 英文别名: Tetrakis(trifluorophosphine)platinum(0)；platinum;trifluorophosphane
• CAS: 19529-53-4
• 化学式: F₁₂P₄Pt
• 分子量: 546.956
• InChiKey: VJGYJQUTDBRHBS-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  86°C
• 密度：
  2,2 g/cm3
• 闪点：
  -15°C
• 稳定性/保质期：

  遵照规定使用和储存，则不会发生分解。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  8.48
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  12

安全信息

• 危险类别码：
  R23/24/25,R11
• 危险品运输编号：
  UN 1992
• 安全说明：
  S16,S36/37/39,S45
• 储存条件：
  存放于阴凉干燥处

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  四(三氟膦)铂 以 gaseous matrix 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  Hammill, Cynthia L.; Clark, Ronald J.; Ross, Charles W. III, Inorganic Chemistry, 1997, vol. 36, p. 5973 - 5977

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  氟化磷(III) 、 platinum(II) chloride 在 铜 作用下， 以 not given 为溶剂， 生成 四(三氟膦)铂
  参考文献：
  名称：

  Hammill, Cynthia L.; Clark, Ronald J.; Ross, Charles W. III, Inorganic Chemistry, 1997, vol. 36, p. 5973 - 5977

  摘要：

  DOI：

文献信息

• 50 nm linewidth platinum sidewall lithography by effusive‐source metal precursor chemical deposition and ion‐assisted etching
  作者：David S. Y. Hsu

  DOI：10.1063/1.106070

  日期：1991.10.21

  Vertical platinum sidewall structures 50 nm thick and 700 nm tall have been fabricated by Pt deposition from the thermal decomposition of tetrakis‐(trifluorophosphine)‐platinum using an effusive gas source followed by ion‐assisted etching. Scanning electron microscope micrographs show that the sidewalls have high uniformity, very fine grains, and very sharp contours, demonstrating a high degree of

  50 nm 厚和 700 nm 高的垂直铂侧壁结构已通过使用喷出气源的四（三氟膦）-铂的热分解和离子辅助蚀刻的 Pt 沉积制成。扫描电子显微镜显微照片显示侧壁具有高度的均匀性、非常细的晶粒和非常清晰的轮廓，表明高度的保形沉积。扫描俄歇显微镜确认仅在侧壁中存在铂。对沉积的铂膜进行 X 射线光电子能谱分析表明没有可检测到的杂质，透明胶带测试显示膜结合良好。该方法适用于大规模加工。