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2-[4-(4,6-bis-trichloromethyl-s-triazin-2-yl)phenyl]-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole | 125775-52-2

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2-[4-(4,6-bis-trichloromethyl-s-triazin-2-yl)phenyl]-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole
英文别名
2-[4-[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]phenyl]-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole
2-[4-(4,6-bis-trichloromethyl-s-triazin-2-yl)phenyl]-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole化学式
CAS
125775-52-2
化学式
C19H9Cl6N5O
mdl
——
分子量
536.031
InChiKey
HWPFGCPJHDPVDJ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.1
  • 重原子数:
    31
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.11
  • 拓扑面积:
    77.6
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • PAWLOWSKI, GEORG;ERDMANN, FRITZ;LUTZ, HEIDRUN
    作者:PAWLOWSKI, GEORG、ERDMANN, FRITZ、LUTZ, HEIDRUN
    DOI:——
    日期:——
  • 4,6-Bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylgruppen enthaltende Oxadiazolverbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und lichtempfindliches Gemisch, das diese Verbindungen enthält
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0332043B1
    公开(公告)日:1994-05-18
  • US5216158A
    申请人:——
    公开号:US5216158A
    公开(公告)日:1993-06-01
  • Oxadiazole compounds containing 4,6-bis-trichloromethyl-S-triazin-2-yl
    申请人:Hoechst Aktiengesellschaft
    公开号:US05216158A1
    公开(公告)日:1993-06-01
    Compounds of general formula I are disclosed ##STR1## wherein R.sup.1 denotes an unsubstituted or substituted carbocyclic or heterocyclic aryl radical, R.sup.2 and R.sup.3 are different from each other and either denote a hydrogen atom or a 4,6-bis-trichloromethyl-s-triazin-2-yl group, and n and m independently of each other, denote one of the numbers 0 and 1. The compounds are effective free-radical-forming photoinitiators and photolytically-activatable acid donors for photosensitive compositions.
    通式I的化合物被揭示如下:其中R.sup.1表示未取代或取代的碳环或杂环芳基,R.sup.2和R.sup.3彼此不同,可以表示氢原子或4,6-双三氯甲基-s-三嗪-2-基团,n和m独立地表示0和1中的一个数字。这些化合物是有效的自由基形成光引发剂和光解活化酸供体,适用于光敏感组合物。
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